【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于冶金领域，具体涉及真空磁控溅射法在材料表面沉积镀膜设备。
技术介绍
随着科学技术的发展，真空沉积制备的产品和器件越来越多，尤其是磁控溅射技术以其产额高，成膜质量好被广泛的应用。目前，磁控溅射技术广泛地应用于集成电路、液晶显示器、薄膜太阳能电池及LED等高科技领域。磁控溅射源是其关键的部件。圆形磁控溅射源往往用于科研实验和小器件的制作。由于溅射靶材比较昂贵，小型的磁控溅射源又带来一个技术问题:如何使磁控溅射源上的靶材的溅射刻蚀轨迹合理的覆盖整个靶面，在得到理想的均匀的靶材溅射刻蚀效果的同时，还能够提高靶材利用率。在传统的磁控溅射源设计中，普遍采用的方案是将磁控溅射源的磁场设计为简单的单一的固定环形结构。磁体以闭环方式布置，并安装于与靶基板相对固定的位置处。中心的柱形磁铁和周围的一套环形磁铁反极向设置，构成简单的封闭磁路。这所产生的磁场和靶基板上施加的负电场所产生的正交场，导致离子在磁场的闭环内做螺旋运动，这个闭环通道或区域一般称为“跑道”。靶材的溅射刻蚀沿着这个通道或区域发生。这样的靶材溅射刻蚀轨迹为定轨迹。在这种定轨迹运动模式中，离子运动时重复经过...
【技术保护点】
一种动磁场真空镀膜磁控溅射源，包括正面在真空沉积腔中的靶基板、焊接或用压环固定在靶基板正面的片状靶材、罩住靶基板圆周侧面及靶基板正面靶材以外部分的屏蔽环、设置在靶基板背面的磁钢基板、安装在磁钢基板上的朝向靶基板一侧的圆心位置的内磁钢和圆周位置的环形外磁钢或排列成环的组合外磁钢，其特征是：磁钢基板的直径大于靶材的半径、小于靶材的直径，磁钢基板轴线偏离靶基板轴线，磁钢基板固定在一个正齿轮的侧面上，在镀膜机机架上安装与正齿轮啮合的齿圈，在机架上安装位于正齿轮后侧的电机，电机动力输出轴上固定拐柄，齿轮轴安装在拐柄上。
【技术特征摘要】
1.一种动磁场真空镀膜磁控溅射源，包括正面在真空沉积腔中的靶基板、焊接或用压环固定在靶基板正面的片状靶材、罩住靶基板圆周侧面及靶基板正面靶材以外部分的屏蔽环、设置在靶基板背面的磁钢基板、安装在磁钢基板上的朝向靶基板一侧的圆心位置的内磁钢和圆周位置的环形外磁钢或排列成环的组合外磁钢，其特征是:磁钢基板的直径大于靶材的半径、小于靶材的直径，磁钢基板轴线偏离靶基板轴线，磁钢基板固定在一个正齿轮的侧面上，在镀膜机机架上安装与正齿轮啮合的齿圈，在机架上安装...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘星宇，
申请(专利权)人：长春科纳光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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