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一种动磁场真空镀膜磁控溅射源，包括靶基板、焊接或用压环固定在靶基板正面的片状靶材、屏蔽环、磁钢基板、安装在磁钢基板上的内磁钢和外磁钢，所作的改进是：磁钢基板的直径大于靶材的半径、小于靶材的直径，磁钢基板轴线偏离靶基板轴线，磁钢基板固定在一个...
该专利属于长春科纳光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长春科纳光电技术有限公司授权不得商用。

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