多功能连续式磁控溅射镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应立式靶在镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应倾斜靶在镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。通过在镀膜室的靶位口处设置可交替使用的立式靶和倾斜靶，并对应设置立式基材承载架和倾斜式基材承载架，使得镀膜基材在不同要求时可以选用不同的靶材进行镀膜，并且立式靶和倾斜靶的可交替使用，还可以使得镀膜室能适应更多规格的产品镀膜，提高镀膜装置的通用性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及磁控溅射镀膜
，尤其涉及一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置。
技术介绍
磁控溅射镀膜技术是当前广泛应用的真空镀膜技术方法，被普遍应用于光学、微电子、耐磨、耐蚀、装饰等产业领域，用以提供可靠而稳定的薄膜镀层，可为被镀膜产品提供某方面特定性能。比如在玻璃表面镀一层ITO薄膜，可以形成透明导电玻璃，用以生产LCD显示器、触摸屏等。磁控溅射技术主要通过在溅射靶上的电场在稀薄气体状态下激发等离子体，通过磁场和电场的联合控制下使正离子轰击安装在祀上的被派射祀材，使祀材物质以原子、分子状态被溅射到衬底上，进而形成需要的功能薄膜。连续式磁控溅射镀膜设备是通过多个真空腔室串联连接，分成大气向粗真空过渡室，粗真空向高真空过渡室，镀膜室等不同功能区，各个区真空系统独立，之间可以进行密封的传送。通过这一设计可以有效的减少抽真空时间，可以一片接一片连续的进行磁控溅射镀膜。其主要应用于大面积的平板基材表面镀膜，如玻璃。当前的连续式磁控溅射镀膜设备按镀膜基材摆放的角度主要分为三类:1、立式:立式设备与水平面垂直，镀膜基材是垂直通过设备，镀膜过程也是垂直的，例如，中国专利文献CN102181839A本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，其特征在于，所述镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应所述立式靶在所述镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应所述倾斜靶在所述镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈宇，
申请(专利权)人：广东志成冠军集团有限公司，
类型：实用新型
国别省市：