一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及应用制造技术

本发明专利技术公开了一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及应用。氨基酸西佛碱过渡金属配合物的结构式为：；????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????式中，M为Cu、Zn、Ni和Co中的一种；所述配合物应用在抗菌和电致发光领域；本发明专利技术氨基酸西佛碱过渡金属配合物对欧文氏草生杆菌，大肠杆菌及金黄色葡萄球菌都有不同程度的抗菌效果，且应用于电致发光器件中，具有电子传输性优越、环境稳定性好、发光效率高、操作寿命长和制造成本低等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及其在抗菌和电致发光上的应用。
技术介绍
西佛碱及其金属配合物，在抗菌、催化、磁性、光学、电化学、非线性光学、化学传感器等领域，有广泛的用途，因此成为当前研究的热点。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及应用。氨基酸西佛碱过渡金属配合物配体的结构式为:权利要求1.一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物，其特征在于氨基酸西佛碱过渡金属配合物分子结构式为:2.根据权利要求1所述的氨基酸西佛碱过渡金属配合物的应用，其特征在于所述氨基酸西佛碱过渡金属配合物应用于抗菌和电致发光领域。全文摘要本专利技术公开了一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及应用。氨基酸西佛碱过渡金属配合物的结构式为；式中，M为Cu、Zn、Ni和Co中的一种；所述配合物应用在抗菌和电致发光领域；本专利技术氨基酸西佛碱过渡金属配合物对欧文氏草生杆菌，大肠杆菌及金黄色葡萄球菌都有不同程度的抗菌效果，且应用于电致发光器件中，具有电子传输性优越、环境稳定性好、发光效率高、操作寿命长和制造成本低等优点。文档编号C09K11/06GK103113393SQ20131007289本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物，其特征在于氨基酸西佛碱过渡金属配合物分子结构式为：；式中，M为Cu、Zn、Ni和Co中的一种。793286dest_path_image001.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：丁国华，江道勇，高蕊，
申请(专利权)人：桂林理工大学，
类型：发明
国别省市：