【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及离子注入机均匀性控制方法，涉及离子注入机，属于半导体装备制造领域。
技术介绍
离子注入机均匀性控制技术是离子注入机的关键技术之一，其工作原理是基于各种控制与测量方法和装置将离子按设定的剂量均匀地、精确地注入到整个晶片表面。随着晶圆片尺寸越来越大，单元器件尺寸越来越小，对半导体工艺设备的性能要求也就越来越高。现在的注入机束流较窄，不能快速的注入到整个晶圆片上，一种有效的方法则是将离子束流变宽，变宽后怎样控制宽带束注入的均匀性便成了一个新的问题。
技术实现思路
本专利技术提供了一种宽带束均匀性的控制方法与装置。一种宽带束均匀性控制的方法和装置，包括:工控机(I)，SPI适配器(2)，PMAC闭环测控板(3)，剂量控制器(4)，直线电机(5)，七个采样法拉第杯(6)，闭环法拉第杯I (7)，闭环法拉第杯2 (8)，移动法拉第电机(9)和移动法拉第杯(10)。其中PMAC闭环测控板(3)插入工控机的ISA插槽中，剂量控制器(4)通过SPI适配器(2)与工控机(2)进行通讯，用于发送和采集数据。所述移动法拉第杯(9)、闭环法拉第杯I (7)，闭环法拉第杯2 (8...
【技术保护点】
一种宽带束均匀性控制的装置，主要包括：工控机(1)，SPI适配器(2)，PMAC闭环测控板(3)，剂量控制器(4)，直线电机(5)，七个采样法拉第杯(6)，闭环法拉第杯1(7)，闭环法拉第杯2(8)，移动法拉第电机(9)和移动法拉第杯(10)，其相互连结情况见图1。
【技术特征摘要】
1.一种宽带束均匀性控制的装置，主要包括:工控机(I)，SPI适配器(2)，PMAC闭环测控板(3)，剂量控制器(4)，直线电机(5)，七个采样法拉第杯(6)，闭环法拉第杯I (7)，闭环法拉第杯2 (8)，移动法拉第电机(9)和移动法拉第杯(10)，其相互连结情况见图1。2.权利I所述移动法拉第杯(9)...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭彬，杨占光，龙会跃，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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