在工件的离子植入期间处理束流异常制造技术

技术编号:8456925 阅读:200 留言:0更新日期:2013-03-22 10:10
在例如太阳能电池的工件的离子植入期间可被补偿的异常。在一例中,在第一动作期间以第一速度植入工件。此第一动作在工件中造成不均匀剂量区。然后在第二动作期间以第二速度植入工件。此第二速度与第一速度不同。此第二速度可对应整个工件或仅对应工件中的不均匀剂量区。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及工件的离子植入,且尤其涉及使用离子植入来形成太阳能电池。
技术介绍
离子植入为一种用以将改变导电率的杂质(conductivity-alteringimpurities) 引入工件中的标准技术。在离子源中离子化所需的杂质材料,使这些离子加速以形成具规定能量的离子束,且将这些离子束导向工件的表面。离子束中的高能离子穿入工件材料的主体中,并嵌入至工件材料的晶格(crystalline lattice)中,以形成一具有所需导电率的区域。太阳能电池为使用硅工件的装置的一实例。任何对于高效能太阳能电池制造或生产的成本减少、或是任何对高效能太阳能电池的效率改良,对于太阳能电池的制作会有全球性的正面影响。这将使洁净能源技术(clean energy technology)能有更广的可用性 (availability)。有许多不同的太阳能电池架构。两种特殊的设计为选择性射极(selective emitter, SE)以及指叉背接触(interdigitated backside contact, IBC)。SE 太阳能电池具有遍及(across)浅掺杂表面的高剂量区,而能使浅掺杂区本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:拉塞尔·J·罗阿塔尔·古普塔威廉·T·维弗
申请(专利权)人:瓦里安半导体设备公司
类型:
国别省市:

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