The invention discloses a uniform light structure and its manufacturing method, uniform light system, including the uniform light structure: pattern structure and substrate in the surface of the substrate, the process of forming the pattern structure of the transfer process, and the pattern structure includes a plurality of micro structure, used for smoothing the surface of the incident beam irradiation to. The embodiment of the invention provides a uniform light structure, through the various micro structure on the surface of the incident beam irradiation to refraction, to change propagation direction of the incident beam, and the micro structure will split the incident light beam into sub beams of tiny, these sub beams and stacks, each sub beam is not small the uniformity will be smooth in the stacking process, so that the mixture of sub beams is more uniform and improves the uniformity of uniform beam of light structure, to achieve uniform light, and solves the laser dodging device in the prior art, to meet the etendue smaller requirements, processing difficulties exist the problem.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及匀光
，特别是涉及一种匀光结构及其制作方法，以及一种包括该匀光结构的匀光系统。
技术介绍
激光具有亮度高、单色性(相干性)与方向性好等特点，在科学研究、工程技术及工农业生产中具有十分重要和广泛的应用。但是，由于激光器出射的原始激光能量分布不均匀，需要对激光器发出的激光光束进行均匀化。现有技术中主要通过方棒和复眼实现激光匀光。如图1所示，对于使用方棒实现激光匀光的装置，当入射光线进入方棒110后，在方棒110内经过多次反射实现匀光。但当要求其出射光斑面积小、立体角小(即光学扩展量小)时，需要将方棒110加工成尺寸很小的结构，对加工造成了挑战；而且，此光路还需涉及其他元件，如第一收集透镜100，第二收集透镜120，涉及元件较多，光路较长，局限了实际应用。对于使用复眼透镜实现激光匀光的装置，如图2所示，当入射光线经过第一组复眼透镜200和第二组复眼透镜210两组复眼透镜时，第一组复眼透镜200将入射光束分割成多束子...
【技术保护点】
一种匀光结构，其特征在于，包括：基板以及位于所述基板表面的图案结构；其中，所述图案结构的形成工艺为转印工艺，且所述图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光。
【技术特征摘要】
1.一种匀光结构，其特征在于，包括：基板以及位于所述基板
表面的图案结构；其中，所述图案结构的形成工艺为转印工艺，且所
述图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀
光。
2.如权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，所述基板的上
表面和下表面中至少有一个是曲面。
3.如权利要求2所述的匀光结构，其特征在于，所述基板的上
表面设置有图案结构，或，所述基板的下表面设置有图案结构。
4.如权利要求2所述的匀光结构，其特征在于，所述基板的上
表面和下表面均设置有图案结构。
5.如权利要求4所述的匀光结构，其特征在于，位于所述基板
上表面和下表面的图案结构相同或不同。
6.如权利要求5所述的匀光结构，其特征在于，所述基板的上
表面和下表面均为曲面。
7.如权利要求1-6任一项所述的匀光结构，其特征在于，所述基
板表面为曲面时，所述基板表面为平凹曲面或平凸曲面。
8.如权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，所述图案结构
的表面为多个弧形面构成的曲面，或多个锯齿构成的锯齿面，或多个
台阶构成的阶梯面。
9.如权利要求8所述的匀光结构，其特征在于，所述图案结构
的制作材料为硅胶、环氧胶、UV胶或玻璃。
10.如权利要求9所述的匀光结构，其特征在于，所述图案结构
的厚度不大于100μm。
11.如权利要求9或10所述的匀光结构，其特征在于，所述图案
结构的制作材料为玻璃时，所述匀光结构还包括：位于所述图案结构
背离所述基板一侧减反射膜，或，位于所述基板背离所述图案结构一
\t侧的减反射膜。
12.如权利要求1所述的匀光结构，其特征在于，所述基板为玻
璃基板或蓝宝石基板。
13.一种匀光系统，其特征在于，包括：
激光器，用于发出激光光束，形成入射光束；
权利要求1-12任一项所述的匀光结构，用于接收入射光束，对照
射到其表面的入射光束进行匀光；
荧光轮，用于接收所述匀光后的均匀光束。
14.如权利要求13所述的匀光系统，其特征在于，激光器的发
散角ɑ<ф...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡飞，谢颂婷，杨佳翼，
申请(专利权)人：深圳市绎立锐光科技开发有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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