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本发明公开了一种匀光结构及其制作方法、匀光系统，该匀光结构包括：基板以及位于基板表面的图案结构，该图案结构的形成工艺为转印工艺，且该图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光。本发明实施例所提供的匀光结构，通过各个微结构对...
该专利属于深圳市绎立锐光科技开发有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市绎立锐光科技开发有限公司授权不得商用。

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