监测离子注入机均匀性与稳定性的方法及其使用的治具技术

本发明专利技术公开了一种监测离子注入机均匀性与稳定性的方法及治具。该治具包括治具基板和设置在所述治具基板上的固定物。该方法包括：A.将硅片固定于治具上；B.将载有硅片的治具传入离子注入机工艺腔室进行注入；C.注入完成后对硅片进行退火工艺；D.在硅片上选取测量点，并且对测量点进行测量，完成对离子注入机均匀性与稳定性的监测。本发明专利技术可以采用成熟的晶圆制造工艺制作硅片，制作出的硅片均匀性好，克服了现有技术中淀积成膜监测法受成膜质量与晶化质量影响的缺陷，并且晶圆的杂质激活温度可达1000摄氏度以上，可有效地对注入杂质进行全部激活。另外，本发明专利技术不需要占用成膜设备、结晶化设备等设备的机时，可有效降低长期成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及FPD (Flat Panel Display,平板显示器)制造技术,具体地说,是一种制造FPD时监测离子注入机的均匀性与稳定性的方法，及该监测方法中所使用的治具。
技术介绍
随着LTPS-AMOLED (Low Temperature Poly Silicon Active-Matrix OrganicLight-Emitting Diode,低温多晶硅有源矩阵有机发光二极管)和LTPS-LCD (LowTemperature Poly Silicon Liquid Crystal Display,低温多晶娃液晶显示器)行业的发展，离子注入工艺被引入平板显示行业并扮演着越来越重要的角色。平板显示离子注入机被研发用来实现对面板的离子注入。平板显示离子注入具有以下几个特点1.大的基板(注入)面积需要大的离子束流，满足生产率；2. —般采用带状beam或线状beam扫描方式；3.注入不均匀会导致器件性能不均匀，从而产生色差(mura) ;4.为满足批量生产的目的，需要保持离子注入设备的稳定性与一致性，并具有有效的手段对离子注入设备的稳定性与一致性进行监测。目前业界对平板显本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种监测离子注入机均匀性与稳定性的方法，其特征在于，包括：A、将硅片固定于治具上，所述治具包括治具基板和设置在所述治具基板上的固定物；B、将载有硅片的治具传入离子注入机工艺腔室进行注入；C、注入完成后对硅片进行退火工艺；D、在硅片上选取测量点，并且对测量点进行测量，完成对离子注入机均匀性与稳定性的监测。

【技术特征摘要】
1.一种监测离子注入机均匀性与稳定性的方法，其特征在于，包括A、将硅片固定于治具上，所述治具包括治具基板和设置在所述治具基板上的固定物；B、将载有硅片的治具传入离子注入机工艺腔室进行注入；C、注入完成后对硅片进行退火工艺；D、在硅片上选取测量点，并且对测量点进行测量，完成对离子注入机均匀性与稳定性的监测。2.根据权利要求1所述的监测离子注入机均匀性与稳定性的方法，其特征在于，所述固定物为固定脚，所述固定脚一端固定在所述治具基板上，另一端设有向四周突出的部分。3.根据权利要求2所述的监测离子注入机均匀性与稳定性的方法，其特征在于，所述治具基板的长度、宽度和厚度与原材基板相当。4.根据权利要求2所述的监测离子注入机均匀性与稳定性的方法，其特征在于，所述治具基板由石墨纤维制成。5.根据权利要求2所述的监测离子注入机均匀性与稳定性的方法，其特征在于，所述硅片呈圆形，圆形硅片的边缘处设有缺口，所述步骤A中，将硅片固定于治具上的方法为 将所述圆形硅片的缺口对准其中一固定脚并置入多个固定脚之间，旋转所述圆形硅片，利用固定脚端部的突出部分将...

【专利技术属性】
技术研发人员：于锋，邱勇，徐柯，秦心宇，黄秀颀，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，
类型：发明
国别省市：