温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种监测离子注入机均匀性与稳定性的方法及治具。该治具包括治具基板和设置在所述治具基板上的固定物。该方法包括：A.将硅片固定于治具上；B.将载有硅片的治具传入离子注入机工艺腔室进行注入；C.注入完成后对硅片进行退火工艺；D.在硅片...
该专利属于昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。