利用多层聚电解质膜基底制备的磷脂双层膜阵列及其方法技术

一种利用多层聚电解质膜基底制备的磷脂双层膜阵列及其方法，利用静电层层自组装技术在3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)修饰的硅基底上制备聚电解质聚(4-苯乙烯磺酸钠)(PSS)和聚(二烯丙基二甲基氯化铵)(PDDA)多层膜，采用光刻技术对修饰后的基底进行图案化，制备聚电解质的不同类型的阵列，然后在阵列底制备磷脂双层膜，从而实现了磷脂双层膜阵列的制备。本方法将层层组装技术引入到图案化基底的制备中，丰富和扩展了磷脂双层膜阵列的制备方法，具有操作简单、反应条件温和、可控性好、稳定性高和成本低等优点，为膜生物物理学，界面化学，生物化学，仿生学和微纳米技术领域的相关生物膜特性研究和应用提供了可靠的技术。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及膜生物物理学，具体涉及ー种。
技术介绍
目前制备磷脂双层膜阵列方法主要有机械刻画法、微接触印刷法、光刻法、微流控法等方法，其中光刻法具有操作简单、可控性好等优点。但目前光刻法所制备膜阵列的障碍物主要为光刻胶、氧化铝等。这类方法在制备磷脂双层膜阵列的过程中，所需的仪器昂贵、需要控制的因素较多，技术水平要求较高。
技术实现思路
基于以上不足之处，本专利技术提供ー种·。这种双层膜阵列具有良好流动性，以及形态的可控性，可广泛应用于研究细胞的粘附、带电物质在磷脂双层膜中的2D电泳、高通量药物筛选、膜蛋白的分离和功能结构分析。本专利技术所采用的技术如下ー种利用多层聚电解质膜基底制备磷脂双层膜阵列的方法如下(I)、制备APTES自组装单层膜将玻璃基底用无水こ醇和蒸馏水各超声清洗5min-10min，用氮气吹干后置于等离子清洗机中处理20s-30s ;将清洗干净的基底放入3-氨丙基三こ氧基硅烷(APTES)和甲苯混合溶液中自组装2-4小时，其体积比为I 50-1 150，组装结束后用甲苯清洗并氮气吹干待用；(2)、层层组装聚电解质将聚(4-苯こ烯磺酸钠)(PSS)和聚(ニ烯丙基ニ甲基氯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用多层聚电解质膜基底制备磷脂双层膜阵列的方法，其特征在于，方法如下：(1)、制备APTES自组装单层膜：将玻璃基底用无水乙醇和蒸馏水各超声清洗5min?10min，用氮气吹干后置于等离子清洗机中处理20s?30s；将清洗干净的基底放入3?氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)和甲苯混合溶液中自组装2?4小时，其体积比为1∶50?1∶150，组装结束后用甲苯清洗并氮气吹干待用；(2)、层层组装聚电解质：将聚(4?苯乙烯磺酸钠)(PSS)和聚(二烯丙基二甲基氯化铵)(PDDA)分别配制成浓度为2mg/mL的水溶液，再加入NaCl，同时调节pH至1.0?3.0，使其所含的NaCl浓度为0.5mol/...

【技术特征摘要】
1.一种利用多层聚电解质膜基底制备磷脂双层膜阵列的方法，其特征在于，方法如下(1)、制备APTES自组装单层膜将玻璃基底用无水乙醇和蒸馏水各超声清洗5min-10min，用氮气吹干后置于等离子清洗机中处理20s-30s ;将清洗干净的基底放入3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)和甲苯混合溶液中自组装2-4小时，其体积比为I 50-1 150，组装结束后用甲苯清洗并氮气吹干待用；(2)、层层组装聚电解质将聚(4-苯乙烯磺酸钠)(PSS)和聚(二烯丙基二甲基氯化铵)(TODA)分别配制成浓度为2mg/mL的水溶液，再加入NaCl，同时调节pH至1. 0-3. 0，使其所含的NaCl浓度为O. 5mol/L后待用；将用3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)修饰的基底浸泡在配制好的聚(4-苯乙烯磺酸钠)(PSS)溶液中10min-20min,取出用蒸懼水冲洗并用氮气吹干，之后将其浸入配制好的聚(二烯丙基二甲基氯化铵)(TODA)溶液中10min-20min，按上述步骤清洗后即得到一个PSS/TODA聚电解质双层；(3)、修饰后玻璃表面的图案化应用深度紫外照射有掩膜覆盖的基底进行图案光刻，光源波长为254...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩晓军，张迎，齐国栋，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：