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一种利用多层聚电解质膜基底制备的磷脂双层膜阵列及其方法，利用静电层层自组装技术在3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)修饰的硅基底上制备聚电解质聚(4-苯乙烯磺酸钠)(PSS)和聚(二烯丙基二甲基氯化铵)(PDDA)多层膜，采用光刻技术对修饰...
该专利属于哈尔滨工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过哈尔滨工业大学授权不得商用。

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