一种使用粉浆浇注制备AZO靶材的方法技术

技术编号:8363907 阅读:233 留言:0更新日期:2013-02-27 21:28
本发明专利技术涉及一种使用粉浆浇注制备AZO靶材的方法,该方法首先将AZO共沉淀粉体或者氧化锌和氧化铝的混合粉体与去离子水、分散剂、粘结剂进行球磨混合,注入模具内成型,干燥,脱脂,烧结后加工成所需尺寸的AZO靶材成品。本发明专利技术所制备的AZO靶材致密度高,组织均匀性好,易制备出大尺寸AZO靶材,且成型坯体均匀性好,后期烧结过程中坯体收缩均匀、不变形、不开裂。其工艺操作简单,易于控制,适合工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光电功能材料领域,更具体地说是涉及一种使用粉浆浇注制备AZO(Al-doped in Zinc Oxide)革巴材的方法。
技术介绍
随着半导体、计算机、太阳能等领域的迅猛发展,透明导电氧化物(TCO)薄膜由于兼有良好的导电性和高透射率,可广泛应用于透明电极、液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、有机发光二极管(OLED)等高清晰平板显示器,太阳能电池和各种光电设备中。现在工业上应用最广泛的透明导电薄膜是ITO (Tin doped Indium Oxide)薄膜,但它具有价格昂贵,高温下透过率迅速降低,且在氢等离子体中容易被还原,应用到太阳能电池中使电池的效率降低等缺点;而ZnO价格低廉,原料丰富,在氢离子气氛中比ITO稳定,不仅能制成良好的半导体和压电薄膜,亦能通过掺杂制成良好的透明导电薄膜,在ZnO中掺入Ga、Al、In·或F离子能改善ZnO膜的光学和电学性能。其中,AZO (Al-doped in Zinc Oxide)薄膜的研究最广泛和最深入,目前已经在薄膜太阳能电池中得到了部分应用。AZO靶材溅射薄膜是目前公认为最有前景的薄膜材料之一。AZO靶材是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使用粉浆浇注制备AZO靶材的方法,其特征是:首先将AZO共沉淀粉体或者氧化锌和氧化铝的混合粉体与去离子水、分散剂、粘结剂进行球磨混合,注入模具内成型,干燥,脱脂,烧结后加工成所需尺寸的AZO靶材成品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郑金凤岳坤白晓东左婧懿王东新孙本双杨国綮赵世乾张丽李彬钟景明
申请(专利权)人:国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心
类型:发明
国别省市:

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