一种共沉淀法制备钇钆铕纳米粉体的方法技术

一种共沉淀法制备钇钆铕纳米粉体的方法，涉及一种化工原料的制备方法，该方法包括如下步骤：１）按（Ｙ↓［１－ｘ］Ｇｄ↓［０．３］Ｅｕ↓［ｘ］）↓［２］Ｏ↓［３］组分称取稀土氧化物Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］、Ｇｄ↓［２］Ｏ↓［３］、Ｅｕ↓［２］Ｏ↓［３］，并将其溶于浓盐酸中，加入蒸馏水，配置成稀土溶液；将沉淀剂氨水稀氨水；２）将上述的沉淀剂氨水滴加到配置好的稀土溶液中，得到的先驱沉淀物经时效后，清洗，抽滤，干燥，再经过筛得前驱体粉末；３）将上述制得的前驱体粉末煅烧，球磨后即可制得粉体样品。本发明专利技术采用湿化学共沉淀法制备粉体，获得的（Ｙ，Ｇｄ）↓［２］Ｏ↓［３］∶Ｅｕ↑［３＋］粉体分散性好，一次粒径平均为２０ｎｍ，而且制备工艺简单，周期短，成本低，适于批量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种化工原料的制备方法，特别是涉及一种核医学成像技术、x射线探测器、无损检测核心材料闪烁陶瓷所需关键粉体材料的制备方法。技术背景在核医学成像技术中，闪烁体是重要的光功能材料，主要包括无 机闪烁晶体和闪烁陶瓷。无机闪烁陶瓷的制备需要具有良好特性的纳 米粉体，对降低烧结温度、实现晶粒均匀化起到重要作用。在粉体制 备过程中容易均匀掺杂，工艺简单，成本低廉及良好机械加工性等优点，己成为X-CT用闪烁探测材料的首选对象。(Y，Gd)203:Eu3+由基质材料Y203、 Gd203和发光的激活离子Eu3+ 组成，属立方晶体结构，光学各向同性，具有高密度(5.92g/cm3), 短衰减时间(<10—3s)，短余辉(<0.01%)等优点，是一种高效率的X 射线发光材料。近年来(Y，Gd)203:Ei^+粉体经特殊烧结工艺制备的透 明陶瓷与光电倍增管组成光电转换器件已应用在核医学成像领域，但 其制备优良特性的粉体，降低制备成本、实现简单工艺一直是新材料 研究领域需要解决的问题。目前国内外制备氧化钇及氧化钇基粉体主要有燃烧法，微乳液 法、化学气相沉积法等。上述粉体合成方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种共沉淀法制备钇钆铕纳米粉体的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：　　　　１）溶液的配置：按（Ｙ↓［１－ｘ］Ｇｄ↓［０．３］Ｅｕ↓［ｘ］）↓［２］Ｏ↓［３］组分称取稀土氧化物Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］、Ｇｄ↓［２］Ｏ↓［３］、Ｅｕ↓［２］Ｏ↓［３］，并将其溶于浓盐酸中，加入蒸馏水，配置成浓度为０．０１～１ｍｏｌ／Ｌ的稀土溶液；将沉淀剂氨水配置成浓度为０．１～６ｍｏｌ／Ｌ的稀氨水；　　　　２）前驱体的制备：将上述的沉淀剂氨水滴加到配置好的稀土溶液中，得到的先驱沉淀物经时效０～４ｈ后，用蒸馏水和无水乙醇清洗，抽滤，再把先驱沉淀物置于干燥箱中干燥，干燥温度为７０～１３０℃，干燥时间为８～２４ｈ，再经过...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：马伟民，郭易芬，闻雷，沈世妃，刘晶，尹凯，王华栋，
申请(专利权)人：沈阳化工学院，
类型：发明
国别省市：89[中国|沈阳]