镀膜室制造技术

本实用新型专利技术提供了一种镀膜室，包括镀膜室侧壁及由镀膜室侧壁所围成的镀膜室腔体，其中，所述镀膜室侧壁由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。采用本实用新型专利技术的镀膜室，可以减少镀膜室的空间，减小漏气的风险，节省成本，提高产能。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及磁控溅射成膜
，特别涉及一种镀膜室。
技术介绍
磁控溅射法是在高真空条件下充入适量的氩气，在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加几百千伏的直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜 层致密、均匀等优点。目前，磁控溅射法已经普遍应用在工业生产中，例如制备铜铟镓硒(CIGS)太阳能电池的过程中薄膜的沉积一般需要采用磁控溅射法。目前市场上的镀膜设备一律采用大体积、大腔体的镀膜室。镀膜室腔体间各模块之间的接缝一律采用电焊或氩弧焊进行焊接。方体镀膜室的一个面为一个模块，模块较多，现有技术中先将大板钢板按照镀膜室所要求的规格进行切割，然后采用电弧焊或氩弧焊将拼合起来的板块进行焊接，图I是现有技术的镀膜室部分焊接结构示意图，如图I所示，第一钢板I和第二钢板2分别为切割好的钢板，其分别作为镀膜室的不同的面，第一钢板I和第二钢板2直接具有焊缝3，现有技术中焊缝3采用电弧焊或氩弧焊将第一钢板I和第二钢板2拼合起来，图I仅示出两个钢板的焊接结构示意图，实际中一个镀膜室中需要多个钢板采用多个焊缝焊接在一起而形成，不再赘述。多个焊接在一起的钢板共同围成镀膜室腔体的空间。之后，对焊接好的镀膜室使用抛光机对焊接处进行打磨抛光，抛光后，再使用找漏设备进行找漏或人工进行找漏。图2所示为现有技术的镀膜室的剖面结构示意图，现有技术将铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能薄膜电池片生产线中的镀膜室腔体的空间设计的相当大，因镀膜室外壳采用焊接法，增加了漏气源，降低了真空度。并且由于焊接只能保证镀膜室板块之间粘结的牢固性，并不能彻底杜绝漏气现象，而镀膜室真空度的要求是相当高的，只要外界进入极少量的空气，就会对镀膜室的真空度产生较大影响。现有镀膜室设备体积大，占用生产车间的空间较大，降低了车间的利用率。由于镀膜室腔体大，造成抽气时间长，生产效率低和产量小，抽气往往要花费数个小时甚至一天的时间，不能及时投入生产，大大降低了生产效率和产量。另外，由于设备体积大，相关仪器设备不够精密，特别容易出现问题，少则三五天，多则一个星期就要小修一次；少则几个星期，多则一个月就要大修次，维修次数多，不但需要人工量大，而且维修需要更换若干次机器零部件，维修成本相当大。同时真空抽气时间长，需要耗费大量的电能和用油。由于漏气源增加真空度降低，势必会影响产品的质量，比如说膜层成分不纯，透光率达不到要求，平整度、均匀性不够等而影响了产品的质量和性能。传统设备采用氩弧焊和电弧焊进行焊接，这两种焊接技术存在如下弊端氩弧焊工作效率低；电弧焊有药皮，焊接产生的残渣较多；两种焊接方式都存在精确度低、渗透性不强的弊端；电弧焊和氩弧焊入热量无法控制，容易造成钢板板材变形，导致设备间对接不平衡；这两种焊接在空间距离及障碍物间无法自由调节，具有不灵活性等。
技术实现思路
本技术提出一种镀膜室，其可以减少镀膜室的空间，减小漏气的风险，节省成本，提高产能。本技术所采用的技术方案具体是这样实现的本技术提供了一种镀膜室，包括镀膜室侧壁及由镀膜室侧壁所围成的镀膜室腔体，其中，所述镀膜室侧壁由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。优选地，所述镀膜室侧壁的材料为钢板。优选地，所述镀膜室的高度为I. 5米，所述镀膜室腔体的高度为O. 5米，所述镀膜室的长度为6米。采用本技术的镀膜室，可以减少镀膜室的空间，减小漏气的风险，节省成本，击是倉泛。 附图说明图I是现有技术的镀膜室部分焊接结构示意图；图2是现有技术的镀膜室的剖面结构示意图；图3是本技术具体实施例的镀膜室侧壁部分弯折处的结构示意图；图4是本技术具体实施例的镀膜室的剖面结构示意图；图5是本技术具体实施例的镀膜室的形成方法流程图。具体实施方式为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，以下结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明，使本技术的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按比例绘制附图，重点在于示出本技术的主旨。下面结合图3至图5对本技术的镀膜室及其形成方法的具体实施例进行详细说明。本技术的镀膜室，包括镀膜室侧壁10及由镀膜室侧壁10所围成的镀膜室腔体，其中，镀膜室侧壁10由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。图3是本技术具体实施例的镀膜室侧壁部分弯折处的结构示意图，如图3所示，镀膜室侧壁10为整体的一块材料，其沿弯折处20弯折后围成镀膜室腔体，弯折后，边缘处仅存在唯一的一个焊缝，对其进行激光焊接而形成封闭的镀膜室腔体。图3仅示出部分弯折处的结构示意图，而本技术中存在多处弯折处20，根据不同的镀膜室腔体的形状可以有多种不同的弯折处20。本技术的镀膜室，优选地，镀膜室侧壁10的材料为钢板，采用板材折弯机按照规定的精度和弯折度对钢板进行弯折。考虑到实际生产的需要，镀膜室的空间尺寸可以采用如下镀膜室的高度为I. 5米，镀膜室腔体的高度为O. 5米，镀膜室的长度为6米，以应用于铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能薄膜电池片生产线中，图4是本技术具体实施例的镀膜室的剖面结构示意图，如图4所示，其空间比现有技术中的镀膜室空间减小很多。但本技术并不仅限于此，镀膜室的实际尺寸可根据实际生产需求作弹性调节。本技术的镀膜室不仅可以应用于生产铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能薄膜电池中，还可以应用在生产其他多种薄膜材料的设备中。图5是本技术具体实施例的镀膜室的形成方法流程图，本技术的镀膜室的形成方法，其包括步骤a.提供一块整体的材料；b.对该块整体的材料进行弯折处理；c.对弯折后形成的唯一的焊缝进行激光焊接，围成镀膜室腔体。同样，本技术具体实施例的镀膜室的形成方法中，多采用的整体的材料为钢 板。另外，步骤b中采用板材折弯机按照规定的精度和折弯度对钢板进行折弯。考虑到实际生产需要，镀膜室的空间尺寸可以采用如下镀膜室的高度为I. 5米，镀膜室腔体的高度为O. 5米，镀膜室的长度为6米。但本技术并不仅限于此，镀膜室的实际尺寸可根据实际生产需求作弹性调节。本技术具体实施例的镀膜室的形成方法中，优选地，在步骤c之后还包括步骤d:对所述镀膜室进行找漏。本技术具体实施例的镀膜室的形成方法中，步骤a可以先用切割机切割满足需要的特定规格的钢板以备用，但为了保持镀膜室应有的强度和支撑力，其外壳尺寸也可以保持与现有技术中的镀膜室相同的标准。本技术的镀膜室侧壁的因由弯折的钢板一体形成，杜绝了漏气源，使得镀膜室的真空度保持稳定。本技术中的接缝处采用激光焊接，使得接缝处平整性、均匀性、相容性及密封性都达到了相当高的水平，从根本上杜绝了漏气的可能性。本技术的镀膜室体积小，节省了生产车间的空间，提升了车间的利用率，增强了车间的整体功用。由于本技术镀膜室腔体空间小巧紧凑，抽真空时间缩短，提高了生产效率，增加了产量，原来抽气往往要花费数个小时甚至一天的时间，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜室，包括镀膜室侧壁及由镀膜室侧壁所围成的镀膜室腔体，其特征在于，所述镀膜室侧壁由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王进东，
申请(专利权)人：江苏宇天港玻新材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：