【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ー种具高功率脉冲电源供应器的磁控溅镀机，特别是涉及ー种可以派镀多种造型及尺寸的被镀对象，并可采用高功率脉冲磁控派镀(High Power ImpulseMagnetron Sputtering, HiPIMS)エ艺以改善镀膜质量的磁控派镀机。
技术介绍
随着工业持续的发展，现代人对于产品质量的要求越来越高，不仅希望使用高精密加工的产品，更期待产品表面能有更多的保护特性、更好的性能或是更佳的外观，以提供对人体健康的保护、产品使用寿命的延长、产品性能的提升以及产品美感的增进，因此许多产品的外壳会在制造完成后，送至溅镀厂进行溅镀作业，以使产品表面能够溅镀形成有功能性薄膜以提供对人体或产品的保护、产品性能的提升，或是使产品表面具有装饰性薄 膜以增加产品的美感。由于溅镀机的真空腔体的容积越大则抽气系统要抽出的气体量就越多，系统越不容易达到较佳的真空度；此外，在大气环境下所有物体的表面都会吸附水气以及其它气体，当环境压力下降或是接收到能量吋，这些气体分子便会从物体的表面逸散出来，而真空腔体内部与被镀对象的表面积越大，吸附的气体越多，在真空环境下逸出的气体也就越多，...
【技术保护点】
一种具高功率脉冲电源供应器的磁控溅镀机,其特征在于其至少包括一真空腔体及至少一磁控溅镀枪，该磁控溅镀枪设置于该真空腔体的至少一侧，其特征为：该真空腔体为一拱形真空腔体且其具有一拱形门体，又该磁控溅镀枪的电源输入端是电性连接一高功率脉冲电源供应器，且该高功率脉冲电源供应器的操作电压是介于100伏特至2000伏特之间。
【技术特征摘要】
1.一种具高功率脉冲电源供应器的磁控溅镀机，其特征在于其至少包括一真空腔体及至少一磁控溅镀枪，该磁控溅镀枪设置于该真空腔体的至少一侧，其特征为该真空腔体为一拱形真空腔体且其具有一拱形门体，又该磁控溅镀枪的电源输入端是电性连接一高功率脉冲电源供应器，且该高功率脉冲电源供应器的操作电压是介于100伏特至2000伏特之间。2.根据权利要求I所述的具高功率脉冲电源供应器的磁控溅镀机，其特征在于其进一步包括一台车及一载具，其中该载具是借由一转轴可旋转的结合于该台车上。3.根据权利要求2所述的具高功率脉冲电源供应器的磁控溅镀机，其特征在于该载具于该转轴的两端结合有一组转盘，且该组转盘的外缘包括有彼此相对应的多个沟槽。4.根据权利要求3所述的具高功率脉冲电源供应器的磁控溅镀机，其特征在于该载具进一步包括有多根挂杆，所述挂杆卡设于彼此相对应的所述沟槽内。5.根据权利要求3所述的具高功率脉冲电源供应器的磁控溅镀机，其特征在于其进一步包括一驱动...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾国勋，杨正旭，江郁洲，许富铭，
申请(专利权)人：富优技研股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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