一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置，包括第一钼配件和第二钼配件；所述第一钼配件包括第一内腔组合壁、盖板以及电源连接柄，所述第一内腔组合壁连接在盖板的底部，盖板上设有蒸发孔，电源连接柄连接在盖板或第一内腔组合壁的一侧；所述第二钼配件包括底座和第二内腔组合壁，第二内腔组合壁连接于底座的上方；且所述第一内腔组合壁和第二内腔组合壁相互卡合定位组合形成一用于容置铜钳锅的内腔，并使盖板上的蒸发孔位于内腔的上方。采用组合半封闭式钼钳锅代替现有技术中的钼舟，可以很好地解决操作不便，加热不均匀，蒸发发散角度难以控制的问题。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置
本技术涉及一种PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜装置,特别指一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置。
技术介绍
PVD (Physical Vapor Deposition),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程，具有广泛的应用，如镜片的防水膜层的镀膜过程。目前，镜片的防水膜是在基片上镀防水膜形成的，其一般采用蒸发防水药的方法，在真空镀膜机内将防水药均匀镀制在基片上。具体是在真空环境中，把盛有防水药的铜坩埚放置在薄片式钥舟中，钥舟两端在通电后发热升温，防水药受热蒸发，使防水药沉积到基片表面形成薄膜。用钥作为加热元件，主要由于钥在真空环境中耐高温，其熔点为2610°C，·而防水药需在较高温度才能蒸发。但这种镀膜技术操作不方便，加热蒸发不均匀，且存在蒸发发散角度难以控制的关键性问题。一般的，防水药会盛放在一个直径18*7mm的铜坩埚内，铜坩埚需要平放于钥舟上方，容易滑落操作危险，并且由于铜坩埚只有底部与钥舟接触，热量局限于底部向上传递，导致防水药蒸发速率不均匀，影响了膜层均匀性，并且由于铜坩埚为简本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置，其特征在于：包括第一钼配件和第二钼配件；所述第一钼配件包括第一内腔组合壁、盖板以及电源连接柄，所述第一内腔组合壁连接在盖板的底部，盖板上设有蒸发孔，电源连接柄连接在盖板或第一内腔组合壁的一侧；所述第二钼配件包括底座和第二内腔组合壁，第二内腔组合壁连接于底座的上方；且所述第一内腔组合壁和第二内腔组合壁相互卡合定位组合形成一用于容置铜钳锅的内腔，并使盖板上的蒸发孔位于内腔的上方。

【技术特征摘要】
1.一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置，其特征在于包括第一钥配件和第二钥配件；所述第一钥配件包括第一内腔组合壁、盖板以及电源连接柄，所述第一内腔组合壁连接在盖板的底部，盖板上设有蒸发孔，电源连接柄连接在盖板或第一内腔组合壁的一侧；所述第二钥配件包括底座和第二内腔组合壁，第二内腔组合壁连接于底座的上方；且所述第一内腔组合壁和第二内腔组合壁相互卡合定位组合形成一用于容置铜钳锅的内腔，并使盖板上的蒸发孔位于内腔的上方。2.如权利要求I所述的一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置，其特征在于所述第一钥配件的第一内腔组...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈钦忠，张科，伊仁杰，
申请(专利权)人：福州阿石创光电子材料有限公司，
类型：实用新型
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