一种薄膜沉积设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种薄膜沉积设备，包括基片预处理部分和薄膜沉积部分，基片预处理部分中基片装入腔室、表面处理腔室和烘干腔室间由传递装置对装有基片的基片挂架进行传送；薄膜沉积部分中预热腔与传递腔之间设有高真空插板阀；烘干腔室与预热腔相连通，烘干腔室与预热腔之间设有高真空插板阀；预热腔内设有基片挂架，烘干腔室内设有将基片挂到预热腔内的基片挂架上的机械手；传递腔内设有用于将预热腔内的基片送入薄膜沉积腔的三维旋转机械手；预热腔还分别与充氮装置和抽真空装置相连。本实用新型专利技术能够避免由于外部沾污原因造成的性能下降，提高了工艺的稳定性及重复性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜设备领域，特别是涉及一种薄膜沉积设备。
技术介绍
真空镀膜设备的使用广范分布于各行各业，所需镀膜基片种类繁多。在太阳能行业中，真空镀膜技术的使用遍及各个环节，使用的基片包括玻璃、金属、塑料及硅片等；所镀薄膜材料也是多种多样，如减反膜、导电膜、绝缘膜、硅基薄膜等；所使用的设备种类各不相同，如管式、板式、团簇式等等，方法有等离子体、分子束、磁控溅射、热蒸发等。因此为了使薄膜沉积工艺更为稳定亟需一种稳定的薄膜沉积设备
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种薄膜沉积设备，能够避免由于外部沾污原因造成的性能下降，提高了工艺的稳定性及重复性。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是提供一种薄膜沉积设备，包括基片预处理部分和薄膜沉积部分，所述基片预处理部分包括依次连通并由气动门隔开的基片装入腔室、表面处理腔室和烘干腔室；所述基片装入腔室、表面处理腔室和烘干腔室间由传递装置对装有基片的基片挂架进行传送；所述薄膜沉积部分包括依次连通的预热腔、传递腔和薄膜沉积腔，所述预热腔与传递腔之间设有高真空插板阀；所述烘干腔室与预热腔相连通，所述烘干腔室与预热腔之间设有高真空插板阀；所述预热腔内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜沉积设备，包括基片预处理部分和薄膜沉积部分，其特征在于，所述基片预处理部分包括依次连通并由气动门隔开的基片装入腔室(1)、表面处理腔室(2)和烘干腔室(3)；所述基片装入腔室(1)、表面处理腔室(2)和烘干腔室间(3)由传递装置对装有基片的基片挂架(10)进行传送；所述薄膜沉积部分包括依次连通的预热腔(6)、传递腔(7)和薄膜沉积腔(8)，所述预热腔(6)与传递腔(7)之间设有高真空插板阀；所述烘干腔室(3)与预热腔(6)相连通，所述烘干腔室(3)与预热腔(6)之间设有高真空插板阀；所述预热腔(6)内设有基片挂架(10)，所述烘干腔室(3)内设有将基片挂到预热腔(6)内的基片挂架(10...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刁宏伟，彭铮，李媛媛，王巍，
申请(专利权)人：上海中智光纤通讯有限公司，
类型：实用新型
国别省市：