一种制备二维纳米薄膜的设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种制备二维纳米薄膜的设备，包括物理气相沉积腔室、进料腔室、化学气相沉积腔室和样品传递装置。腔室之间设有阀门，样品通过样品传递装置可以在各腔室之间传递；化学气相沉积腔室设有加热装置、气体连接口以及样品升降装置；物理气相沉积腔室设有物理气相沉积系统、样品升降装置、气体连接口；进料腔室设有样品处理装置；腔室还设有抽真空装置以及样品旋转装置。本设备结构简单、工作可靠，利用本设备，可以采用不同的技术方法可大面积地制备均匀、高性能的石墨烯、金属硫族化合物、硅烯、锗烯或氮化硼等二维纳米薄膜。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种制备新材料的装置，特别是涉及一种连续制备石墨烯、金属硫族化合物、硅烯、锗烯、氮化硼等新型二维纳米薄膜的装置。
技术介绍
石墨烯具有卓越的二维电学、光学、热学、力学性能以及化学稳定性，石墨烯在超快光电子器件、洁净能源、传感器等方面具有广泛的应用前景。电子在石墨烯中传输速度是硅的150倍，IBM等著名公司已经制备速度可达太赫兹的超快速光电子器件，美国加州大学利用石墨烯研制成光学调制解调器，有望将网速提高I万倍；全球每年半导体晶硅的需求量在2500吨左右，石墨烯如果替代十分之一的晶硅制成高端集成电路如射频电路，市场容量至少在5000亿元以上。因为石墨烯只有2. 3%的光吸收，这使石墨烯可用于制备光电子器件如显示器件、太阳能电池、触摸面板等的柔性透明电极，从而取代成本昂贵、资源稀少、不·可自由折叠的由铟为主要成分的ITO透明导电膜。据报道，2011年全球ITO透明导电膜的需求量在8500万-9500万片，这样，石墨烯替代ITO透明导电膜的发展空间巨大。由于石墨烯独特的电子传输特性，作为传感器，它具有单分子的敏感性。经过近几年的快速发展，石墨烯产品已经出现在触摸屏应用上。因此，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备二维纳米薄膜的设备，包括化学气相沉积腔室(2)，进料腔室(4)，物理气相沉积腔室(6)和样品传递装置(1)和(8)？，其特征在于：所述的进料腔室、化学气相沉积腔室、物理气相沉积腔室各腔室之间分别设有阀门，进料腔室设有与大气相通的阀门；所述的物理气相沉积腔室(6)设有一个或二个以上的气体连接口；所述的物理气相沉积腔室(6)设有物理气相沉积系统；所述的化学气相沉积腔室(2)设有加热装置(11)；所述的化学气相沉积腔室(2)设有一个或二个以上的气体连接口；所述的进料腔室(4)、物理气相沉积腔室(6)和化学气相沉积腔室(2)均设有样品升降装置；所述的进料腔室(4)、物理气相沉积腔室(6)和化学...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐明生，陈红征，王秋来，黄文符，
申请(专利权)人：徐明生，陈红征，王秋来，黄文符，
类型：实用新型
国别省市：