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本实用新型涉及一种薄膜沉积设备，包括基片预处理部分和薄膜沉积部分，基片预处理部分中基片装入腔室、表面处理腔室和烘干腔室间由传递装置对装有基片的基片挂架进行传送；薄膜沉积部分中预热腔与传递腔之间设有高真空插板阀；烘干腔室与预热腔相连通，烘干腔...
该专利属于上海中智光纤通讯有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海中智光纤通讯有限公司授权不得商用。

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