一种水洗装置及刻蚀设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种刻蚀设备的水洗装置，包括第一水洗室，第一水洗室内部设有用于浸泡基板的水洗槽。基板在进入水洗槽时，水洗槽内的水瞬间覆盖基板表面，从而将整个基板快速浸泡；由于基板整个浸泡于水洗槽内的水中，且水洗槽内的水量足够多，能够保证基板表面的刻蚀液保持均匀的稀释状态。基板在浸泡过程中，基板表面携带的刻蚀液被均匀稀释，基板残留的刻蚀液的刻蚀速率加速均匀，因此，本实用新型专利技术提供的水洗装置能够均匀地对基板残留的刻蚀液进行稀释，从而提高基板刻蚀的坡度角的均匀性，提高产品质量。另外，本实用新型专利技术还提供了一种应用了上述水洗装置的刻蚀设备。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体加工
，特别涉及一种水洗装置及刻蚀设备。
技术介绍
半导体尤其是薄膜晶体管液晶显示器(TFT-IXD)的阵列(Array)制造工艺中均需要通过对若干层金属层进行镀膜、光刻、刻蚀、去胶工艺后形成规则的电路图案，从而驱动各个元器件动作。在刻蚀环节，一个重要的工艺指标即是坡度角(Profile-Angle)，即刻蚀断面的角度。在刻蚀完的基板上，如果坡度角不均匀，或者断面不齐整，都会影响光线的传播，导致视觉差异(Mura)的产生。基板从刻蚀设备的刻蚀装置进入水洗装置时，基板表面均携带少量刻蚀液，刻蚀 液一般为硝酸、硫酸、磷酸及添加剂等按一定比例形成的混合酸，由于水对基板表面刻蚀液的稀释，部分金属薄膜的刻蚀速率会加快。当基板表面不均匀接触水时，刻蚀速率加速不均，对于单层薄膜的结构，这种加速不均会导致坡度角差异的产生，而对于复合膜层结构，这种差异将导致断面不齐整。在现有技术中，水洗装置包括第一水洗室和若干常规水洗室；第一水洗室内设置有用于传送基板的若干传动滚轴、与基板传动方向呈一定角度(一般为30 60度)喷淋的水刀以及与基板表面垂直方向的喷嘴。当基板在进入水洗装置时，首先要经过第一水洗室中设置的水刀以及喷嘴喷淋进行水洗，从而对基板上残留的刻蚀液进行稀释；当基板上残留的刻蚀液被稀释的不再与金属膜层反应时，将基板送入其他常规水洗室进行常规水洗。由于第一水洗室中设置的水刀的刀口容易堵塞，堵塞的地方水流的流量以及喷淋压力会产生异常，同时，各个喷嘴之间也存在喷淋压力以及流量的差异，从而导致基板表面的刻蚀液不能够接收水的均匀稀释，造成基板残留的刻蚀液的刻蚀速率加速不均，导致坡度角差异或者断面不齐整的现象产生。因此，如何提供一种能够均匀地对基板残留的刻蚀液进行稀释的水洗装置及刻蚀设备，以提高基板刻蚀的坡度角的均匀性，进而提高产品质量，是本领域技术人员需要解决的技术问题。
技术实现思路
本技术实施例提供一种具有水洗槽的刻蚀设备的水洗装置，该水洗装置能够均匀地对基板残留的刻蚀液进行稀释，从而提高基板刻蚀坡度角的均匀性，提高产品质量。为达到上述目的，本技术提供以下技术方案一种刻蚀设备的水洗装置，包括第一水洗室，所述第一水洗室内部设有用于浸泡基板的水洗槽；所述水洗槽的第一侧壁设有与所述第一水洗室的进口相对的基板进口，所述水洗槽的第二侧壁设有与所述第一水洗室的出口相对的基板出口，且所述基板进口设有进口开关门，所述基板出口设有出口开关门；所述基板进口和所述基板出口的上端低于所述水洗槽的溢流高度；所述第一水洗室内的多个传动滚轴形成的传动通路贯穿所述基板进口和所述基板出口。优选地，所述第一水洗室的进口处设有气帘生成装置。优选地，所述第一水洗室的进口与所述基板进口之间、所述水洗槽内靠近基板进口处、所述水洗槽内靠近基板出口处、以及所述第一水洗室的出口与所述基板出口之间分别设有压紧所述基板的稳定部。优选地，还包括供水部，包括至少一个一端伸入所述水洗槽内的排水管、以及一端与注水装置连 通的供水管；所述排水管位于所述水洗槽的部分设有排水口，且所述排水管的另一端与所述供水管连通。优选地，所述供水管为一个，所述排水管为多个，每一个所述排水管的另一端都与所述供水管连通；所述排水管位于所述水洗槽内的端部封闭，所述排水口为每一个所述排水管位于所述水洗槽内的侧壁上设置的多个喷水孔。优选地，所述供水部还包括罩壳，所述排水管伸入所述罩壳具有的空腔，且所述喷水孔的喷水方向指向所述罩壳的侧壁；所述罩壳朝向所述基板表面的方向开口。优选地，所述罩壳的横截面的形状为较短底边上的内角取值为120° 150°的正梯形，所述正梯形的下底朝向所述基板表面，所述喷水孔的喷射方向与所述正梯形下底与上底的公垂线之间的夹角取值范围为30° 45°。优选地，所述水洗槽的侧壁上还设置有溢流口，且所述溢流口设置有高度可调的挡板。优选地，所述第一水洗室的底部设置有废液排放管。在上述技术方案的基础上，本技术还提供了一种刻蚀设备，该刻蚀设备包括刻蚀装置，还包括上述技术方案中提到的水洗装置。本技术提供的刻蚀设备的水洗装置，包括第一水洗室，所述第一水洗室内部设有用于浸泡基板的水洗槽；所述水洗槽的第一侧壁设有与所述第一水洗室的进口相对的基板进口，所述水洗槽的第二侧壁设有与所述第一水洗室的出口相对的基板出口，且所述基板进口设有进口开关门，所述基板出口设有出口开关门；所述基板进口和所述基板出口的上端低于所述水洗槽的溢流高度；所述第一水洗室内的多个传动滚轴形成的传动通路贯穿所述基板进口和所述基板出口。本技术提供的水洗装置，首先需要向水洗槽内充水，当水洗槽内水的水面达到水洗槽的溢流高度时，水洗槽内的水就会流出水洗槽，水洗槽内的水面不在增高；当水洗槽没有特殊要求时，水洗槽的溢流高度为水洗槽的上开口所处的高度；基板进入水洗装置的第一水洗室时，首先打开水洗槽的第一侧壁设置的基板进口处的进口开关门，基板在传动滚轴的传动下，通过水洗槽的第一侧壁设置的基板进口进入第一水洗室的水洗槽内，关闭进口开关门，由于水洗槽设置的基板进口和基板出口的上端低于水洗槽的溢流高度，从而保证水洗槽内装载的水的水面高度高于基板进口和基板出口上端的高度，进而，水洗槽内水面的高度高于由基板进口进入水洗槽的基板上表面的高度，实现水洗槽内装载的水对基板的浸泡；由于基板在进入水洗槽时，水洗槽内的水瞬间覆盖基板表面，从而将整个基板快速浸泡；基板表面的刻蚀液经过浸泡稀释后被稀释，不能再与基板的金属膜层反应，这时基板在传动滚轴的传动下，可通过水洗槽的第二侧壁设置的基板出口以及第一水洗室的出口进入其它常规水洗室进行常规水洗。由于基板整个 浸泡于水洗槽内的水中，且水洗槽内的水量足够多，所以，与基板表面接触的水不存在上述
技术介绍
中提到的喷水不均匀的现象，能够保证基板表面的刻蚀液保持均匀的稀释状态。基板在浸泡过程中，基板表面携带的刻蚀液被均匀稀释，基板残留的刻蚀液的刻蚀速率加速均匀，所以，从而提高了基板刻蚀的坡度角的均匀性。因此，本技术提供的水洗装置能够均匀地对基板残留的刻蚀液进行稀释，从而提闻基板刻蚀的坡度角的均勻性，提闻广品质量。另外，本技术还提供了一种刻蚀设备，该刻蚀设备包括刻蚀装置，还包括上述技术方案中提到的水洗装置。由于上述的水洗装置能够提高基板刻蚀坡度角的均匀性，提高产品质量，因此，使用了上述水洗装置的刻蚀设备也具有相应的优点，这里不再赘述。附图说明图I为本技术提供的水洗装置中第一水洗室的结构示意图；图2为本技术提供的水洗装置第一水洗室中供水部以及与供水部连通的注水装置的结构示意图；图3为本技术提供的水洗装置第一水洗室中供水装置的横向剖面结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。如图I所示，图I为本技术提供的水洗装置中第一水洗室的结构示意图。本技术提供的刻蚀设备的水洗装置，包括第一水洗室10，第一水洗室10内部设有用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种刻蚀设备的水洗装置，包括第一水洗室，其特征在于，所述第一水洗室内部设有用于浸泡基板的水洗槽；所述水洗槽的第一侧壁设有与所述第一水洗室的进口相对的基板进口，所述水洗槽的第二侧壁设有与所述第一水洗室的出口相对的基板出口，且所述基板进口设有进口开关门，所述基板出口设有出口开关门；所述基板进口和所述基板出口的上端低于所述水洗槽的溢流高度；所述第一水洗室内的多个传动滚轴形成的传动通路贯穿所述基板进口和所述基板出口。

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀设备的水洗装置，包括第一水洗室，其特征在于，所述第一水洗室内部设有用于浸泡基板的水洗槽； 所述水洗槽的第一侧壁设有与所述第一水洗室的进口相对的基板进口，所述水洗槽的第二侧壁设有与所述第一水洗室的出口相对的基板出口，且所述基板进口设有进口开关门，所述基板出口设有出口开关门；所述基板进口和所述基板出口的上端低于所述水洗槽的溢流高度； 所述第一水洗室内的多个传动滚轴形成的传动通路贯穿所述基板进口和所述基板出□。2.根据权利要求I所述的水洗装置，其特征在于，所述第一水洗室的进口处设有气帘生成装置。3.根据权利要求2所述的水洗装置，其特征在于，所述第一水洗室的进口与所述基板进口之间、所述水洗槽内靠近基板进口处、所述水洗槽内靠近基板出口处、以及所述第一水洗室的出口与所述基板出口之间分别设有压紧所述基板的稳定部。4.根据权利要求2所述的水洗装置，其特征在于，还包括 供水部，包括至少一个一端伸入所述水洗槽内的排水管、以及一端与注水装置连通的供水管；所述排水管位于所述水洗槽的部分设有排水口，且所述排水管的另一端与所述供水管连通。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕俊君，徐斌，肖红玺，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：