用于形成薄膜的沉积设备制造技术

本发明专利技术揭示了一种用于形成薄膜的沉积设备，所述设备包括：源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方耦接所述源容器并与所述源容器相通，且从所述源容器蒸发的源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上且向上喷射穿过所述蒸发室的所述蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器提供于所述蒸发室或所述源容器内部的所述源材料上方且向所述源材料供应热量以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；以及阻挡板，所述阻挡板提供于所述蒸发室内部的所述第一加热器上方，且在所述第一加热器向所述源材料供应热量时防止容纳于所述源容器中的所述源材料或外来杂质飞溅和附着到所述喷孔。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于形成薄膜的沉积设备，且更特定地说，涉及一种用于形成薄膜的沉积设备，其中有机物质可蒸发并以薄膜的形式沉积于衬底上。
技术介绍
有机发光装置为自身可发光的下一代显示装置，这种显示装置与液晶显示(LCD)、装置相比在视角、对比度、响应速度、功耗等方面是极佳的。有机发光装置包括有机发光二极管，所述有机发光二极管依照矩阵类型连接于扫描线和数据线之间且形成像素。有机发光二极管包括阳极、阴极和有机薄膜层，所述有机薄膜层形成于阳极和阴极之间且具有空穴传送层、有机发光层和电子传送层。当施加预定电压于阳极与阴极之间时，从阳极注入的空穴和从阴极注入的电子在基于能量差发光的同时于发光层中重新组合。用于有机薄膜层的沉积过程中以制造有机发光装置的有机物质不需要高蒸汽压，且与无机物质相反，所述有机物质在高温下容易分解和变性。归因于这样的材料特性，由钨材料制成的源容器中装满有机物质且经加热以蒸发有机物质，借此在衬底上沉积常见有机薄膜。图I展示用于形成薄膜的常见沉积设备的实例。参看图1，用于形成薄膜的常见沉积设备经设置以沉积源材料到支撑于垂直方向上的衬底10。此外，常见沉积设备包括源容器20，所述源容器20的形状像圆柱管一样且在内部划分成下侧处的贮存空间21和上侧处的蒸发空间22，所述贮存空间21将装满源材料，源材料在蒸发空间22蒸发；加热器30，用于加热源容器20中的源材料；以及冷却器40，用于冷却源材料，从而可防止贮存空间21中装的源材料变性。另外，用于形成薄膜的常见沉积设备包括柱状头51，用于举起源材料；传送单元50，用于传送柱状头51 ;连接管60，用于将蒸发源材料引导到注入器70;以及喷孔71，用于在水平方向上喷射蒸发源材料。然而，源容器能够贮存的沉积源的量是有限的，因而产生以下问题必须频繁地重新装满用于沉积的源材料，且在所有这种情况下，用于形成薄膜的沉积设备应关闭。同时，已提出向上注入源材料的方法，但所述方法的问题在于源材料附着到喷孔并堵塞喷孔，因此源材料并非朝衬底喷射，从而产生次品。在这种情况下，必须在生产暂停时用新的喷孔替换上面聚积有源材料的喷孔或清洗喷孔，且随后可重新开始生产。因此，难免会出现因停产导致的产量降低问题。另外，如果蒸发材料聚积在喷孔或内部部件或操作单元上，则可能不仅对部件和单元的性能有影响，而且在严重的情况下会损坏部件和单元。特别是，使用的源材料越多，这种现象会越严重。
技术实现思路
因此，构思本专利技术以解决前述问题，且本专利技术的一个方面为提供一种用于形成薄膜的沉积设备，其中阻挡板提供于蒸发室内部以使源材料可稳定地且不断地蒸发，所述阻挡板用于防止从源容器飞溅的源材料或外来杂质附着到喷孔；源材料通过直接的温度控制而稳定地蒸发以使得均匀沉积和大面积沉积成为可能；且在不暂停生产的情况下，长时间的持续生产是可能的。根据本专利技术的示范性实施例，提供一种用于形成薄膜的沉积设备，所述设备包括源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述源容器中；蒸发室，所述蒸发室在源容器上方耦接源容器并与源容器相通，且来自源容器的蒸发源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于蒸发室的顶部上且向上喷射穿过蒸发室的蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器提供于蒸发室或源容器内部的源材料上方，且向源材料供应热量以蒸发容纳于源容器中的源材料；以及阻挡板，所述阻挡板提供于蒸发室内部的第一加热器上方，且在第一加热器向源材料供应热量时防止容纳于源容器中的源材料或外来杂质飞溅和附着到喷孔。阻挡板的形状可像平板一样，且与蒸发室的内壁以预定距离间隔开。所述设备可进一步包括第二加热器，所述第二加热器提供于蒸发室的顶部或侧面上，且向蒸发室供应热量以防止穿过蒸发室的蒸发源材料相变成液态或固态。源容器可用可拆卸的方式耦接到蒸发室。所述设备可进一步包括传送单元，所述传送单元用于在靠近第一加热器或远离第一加热器的方向上传送源材料。所述设备可进一步包括传感器，所述传感器提供于蒸发室中且感应穿过蒸发室的蒸发源材料的量。所述设备可进一步包括传送单元，所述传送单元在靠近第一加热器或远离第一加热器的方向上传送源材料；传感器，所述传感器提供于蒸发室中且感应穿过蒸发室的蒸发源材料的量；以及控制器，所述控制器从传感器得到关于蒸发源材料的量的反馈，且如果蒸发源材料的量小于预先设置的参考量，所述控制器则发射信号到传送单元以使源材料可在靠近第一加热器的方向上传送或发射用于提高第一加热器的温度的信号，且如果蒸发源材料的量大于预先设置的参考量，所述控制器则发射信号到传送单元以使源材料可在远离第一加热器的方向上传送或发送用于降低第一加热器的温度的信号。如上所述，根据本专利技术的示范性实施例用于形成薄膜的沉积设备防止从源容器溅起的源材料或外来杂质附着到喷孔，且使得在不暂停生产的情况下长时间持续生产成为可倉泛。另外，在根据本专利技术的示范性实施例用于形成薄膜的沉积设备中，源容器中的源材料的温度反应可通过第一加热器的温度控制快速实现；源容器中的源材料的理想目标温度可恒定地维持而无大变化；且源材料可稳定地蒸发以借此实现均匀沉积和大面积沉积。此外，根据本专利技术的示范性实施例用于形成薄膜的沉积设备可防止穿过蒸发室的蒸发源材料相变成液态或固态，且防止未沉积于衬底上而保留的蒸发源材料附着到喷孔并堵塞喷孔。此外，在根据本专利技术的示范性实施例用于形成薄膜的沉积设备中，通过调整源材料与第一加热器之间的距离或第一加热器的温度而控制从源容器蒸发的源材料的量，借此稳定地维持蒸发源材料的量。附图说明通过以下对示范性实施例的说明连同附随图式，本专利技术的上述方面和/或其他方面将变得显而易见且更加容易理解，其中图I展示用于形成薄膜的常见沉积设备的实例；图2为根据本专利技术的示范性实施例用于形成薄膜的沉积设备的示意·图3为展示在远离第一加热器的方向上传送源材料的视图，所述第一加热器处于图2的用于形成薄膜的沉积设备中；图4为展示图2的用于形成薄膜的沉积设备的替代实例的示意图；以及图5为展示图2的用于形成薄膜的沉积设备的另一替代实例的示意图。具体实施例方式在下文中，将参看附随图式而描述根据本专利技术用于形成薄膜的沉积设备的示范性实施例。图2为根据示范性实施例用于形成薄膜的沉积设备的示意图，图3为展示在远离第一加热器的方向上传送源材料的视图，所述第一加热器处于图2的用于形成薄膜的沉积设备中。参看图2和图3，在此示范性实施例中用于形成薄膜的沉积设备包括源容器110、冷却器120、蒸发室130、喷孔140、第一加热器150、阻挡板160、第二加热器170、传送单元180、传感器190和控制器192，所述沉积设备为能够蒸发有机物质并将有机物质以薄膜形式沉积于衬底上的设备。本专利技术提供一种用于制造有机发光装置(OLED)的设备，其中举例来说，用于示范性实施例中的源材料可为有机物质。源容器110的形状像是一个侧面处开口的圆筒，待沉积于衬底10上的源材料I以固态或液态容纳在源容器110中。通常，源容器110由钨材料制成且装满作为待沉积于衬底10上的源材料I的有机物质。此时，源容器110可与真空管线(未展示)连接以在执行沉积过程时将源容器110的内部保持在真空压力条件下。源材料I在源容器110中的高温和高压下会变性。为了防止源材料I变性，必须保本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于形成薄膜的沉积设备，所述设备包括：源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳在所述源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方耦接所述源容器并与所述源容器相通，且来自所述源容器的蒸发源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上且向上喷射穿过所述蒸发室的所述蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器提供于所述蒸发室或所述源容器内部的所述源材料上方且向所述源材料供应热量以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；以及阻挡板，所述阻挡板提供于所述蒸发室内部的所述第一加热器上方且在所述第一加热器向所述源材料供应热量时防止容纳于所述源容器中的所述源材料或外来杂质飞溅和附着到所述喷孔。

【技术特征摘要】
2011.04.13 KR 10-2011-00343381.一种用于形成薄膜的沉积设备，所述设备包括 源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳在所述源容器中； 蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方耦接所述源容器并与所述源容器相通，且来自所述源容器的蒸发源材料穿过所述蒸发室； 喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上且向上喷射穿过所述蒸发室的所述蒸发源材料； 第一加热器，所述第一加热器提供于所述蒸发室或所述源容器内部的所述源材料上方且向所述源材料供应热量以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；以及 阻挡板，所述阻挡板提供于所述蒸发室内部的所述第一加热器上方且在所述第一加热器向所述源材料供应热量时防止容纳于所述源容器中的所述源材料或外来杂质飞溅和附着到所述喷孔。·2.如权利要求I所述的设备，其中所述阻挡板的形状像是平板一样，且与所述蒸发室的内壁以预定距离间隔开。3.如权利要求I所述的设备，进一步包括第二加热器，所述第二加热器提供于所述蒸发室的顶部或侧面上且向所述蒸发室供应热量以防止穿过所述蒸...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵晃新，宋基哲，郑胜哲，安祐正，
申请(专利权)人：韩商SNU精密股份有限公司，
类型：发明
国别省市：