本发明专利技术揭示一种薄膜沉积装置，包含：传送室，用以传送基板；以及第一制程室及第二制程室，分别连接至所述传送室的两侧，所述第一制程室与所述第二制程室分别均包含：第一基板固定器及第二基板固定器，被配置成相互间隔开；以及喷射单元，设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间，用以依序供应沉积原料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。本发明专利技术同时揭示一种包含所述装置的薄膜沉积系统。本发明专利技术的装置具有多个用以执行相同制程的制程室，所述多个制程室分别连接至每一传送室的两侧，故可同时对多个基板执行薄膜制程，借此改良处理速度。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于沉积薄膜的装置，更具体而言，涉及一种用于形成薄膜于基板上的薄膜沉积装置、以及一种使多个薄膜沉积装置以直列(in-line)型式相连的薄膜沉积系统。
技术介绍
不同于液晶显示器(liquid crystal display ;LCD)，有机发光二极管(organic light emitting diode ；OLED)为自发光装置，无需使用背光单元(backlight unit)，故可降低功率消耗。此外，OLED具有宽的视角(viewing angle)及快速响应时间，因此采用OLED 的显示设备一般而言能够达成一高质量影像而不存在视角窄及留有残影(afterimage)的缺陷。OLED系借由沉积例如有机薄膜及金属薄膜等多个薄膜而制成。通常，使用群簇式系统(cluster system)来沉积薄膜，在群簇式系统中，围绕一圆形传送室连接多个用于执行序列单元制程的单元室。根据群簇式系统，是在玻璃基板水平放置的同时，利用上述每一室执行基板传送及装置处理。群簇式系统的一优点为能够快速地连续执行序列制程。尤其是，还有一优点在于可方便地执行沉积掩模的更换，而沉积掩模的更换为OLED制造中一非常重要的过程。近来，一种采用三色独立像素系统的OLED备受瞩目，在此种OLED中，利用精细金属掩模(fine metal mask ；FMM)依序形成蓝色(B)发光层、绿色(G)发光层及红色(R)发光层于一大面积基板上。已知三色独立像素系统能够提高颜色纯度及光学效率并增强价格竞争力。然而，在三色独立像素系统中，B、G及R发光层是在独立的制程室中依序形成，此需要一将用于执行每一单元制程的制程室彼此串行连接的直列式系统。因此，需要将公知的群簇式系统变为直列式系统。然而，相较于群簇式系统，因需要大量交叠的仪器而使得直列式系统生产线的建造成本高昂。此外，因处理速度低，直列式系统的生产率亦不及群簇式系统。此外，由于公知群簇式系统是在基板水平放置的同时执行薄膜制程(有机薄膜成型制程)，故其可造成基板倾斜、弯曲及歪斜并在装置制造过程中造成困难。由于用于大面积基板的沉积掩模重量超过数百千克，故基板可能会由于倾斜、弯曲及歪斜问题而破碎。
技术实现思路
本专利技术提供一种薄膜沉积装置及其薄膜沉积系统，其能够借由同时处理多个基板并使每一过程的等待时间(例如，基板的加载及固定以及沉积掩模的放置及对准)最小化而达成高生产率。本专利技术还提供一种薄膜沉积装置及其薄膜沉积系统，其能够借由有效地共享交叠的仪器而降低生产线的建造成本。本专利技术亦提供一种薄膜沉积装置及其薄膜沉积系统，其能够借由在薄膜制程中支撑基板垂直站立而避免基板出现倾斜、弯曲及歪斜。根据一实例性实施例，一种薄膜沉积装置包含传送室，用以在传送基板；以及第一制程室及第二制程室，分别连接至所述传送室的两侧。所述第一制程室与所述第二制程室分别均包含第一基板固定器及第二基板固定器，被配置成相互间隔开；以及喷射单元， 设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间，用以依序供应沉积材料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。所述第一基板固定器与所述第二基板固定器可支撑所述基板垂直站立。所述传送室可包含基板旋转构件，用以旋转所述基板并使所述基板能够垂直站立或水平平放。所述喷射单元可在所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间旋转。所述喷射单元的喷射结构可为点式(point-type)结构、直线式(line-type)结构以及平面式(plane-type)结构之一。所述每一第一制程室与所述每一第二制程室可包含与其连接的一掩模室(mask chamber)，所述掩模室用以提供沉积掩模至所述第一基板固定器及所述第二基板固定器及 /或用以更换沉积掩模。根据另一实例性实施例，一种薄膜沉积系统包含多个串行连接的传送室，用以在其中传送基板；以及多个第一制程室及多个第二制程室，分别连接至所述多个传送室至少其中的一的两侧。所述第一制程室与所述第二制程室可分别包含第一基板固定器与第二基板固定器，被配置成相互间隔开；以及喷射单元，设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间，用以依序供应沉积材料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。所述多个传送室可包含多个分配室，与所述第一制程室及所述第二制程室连接， 用以分配基板；以及多个缓冲室，连接于相邻分配室之间，用以临时容纳所述多个基板。所述薄膜沉积系统可更包含装载室，连接至所述多个传送室的前端(leading end)并用以自外部装载基板；以及卸载室，连接至所述多个传送室的后端(rear end)并用以卸载基板至外部。所述第一基板固定器与所述第二基板固定器可支撑所述基板垂直站立。所述传送室可包含基板旋转构件，用以旋转所述基板并使所述基板能够垂直站立或水平平放。所述喷射单元可在所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间旋转。 附图说明结合附图阅读上文说明，可更详细地理解本专利技术的实例性实施例，附图中图1为根据实例性实施例的薄膜沉积系统的平面图；图2为显示图1所示薄膜沉积系统的某些室的平面图；以及图3至图8为显示根据所述实例性实施例的薄膜沉积系统的每一单元制程的平面图。具体实施方式以下，将参照附图详细说明本专利技术的具体实施例。然而，本专利技术亦可实施为不同的形式，而不应被视为仅限于本文所述的实施例。相反，提供这些实施例为了使本专利技术的披露内容透彻及完整、并向本领域普通技术人员全面传达本专利技术的范围。图1为根据一实例性实施例的薄膜沉积装置的平面图，图2为显示图1所示薄膜沉积装置的某些室的平面图。参见图1及图2，多个传送室400(410及420)串行连接于装载室110与卸载室 120的间，装载室110设置于传送室400的前端(leading end)，卸载室120则设置于传送室400的后端(rear end)。传送室400的某些传送室410设置有第一制程室200A及第二制程室200B。因此，整体上构成直列式系统(in-line system)，在串行地执行基板传送与单元制程。二基板(分别为Gl与G2、以及G3与G4)可被载送入第一制程室200A及第二制程室200B的内部空间。因此，在对一侧的二基板Gl与G2执行单元制程的同时，可对另一侧的另二基板G3与G4执行预处理操作。装载室110在大气压力下接收已经历预定的先前制程的基板Gl、G2、G3及G4，并载送基板G1、G2、G3及G4至处于真空状态的传送室400中。卸载室120自传送室400接收已经历一序列单元制程的基板Gl、G2、G3及G4，并将基板Gl、G2、G3及G4载送出至大气压力状态以供进行后续制程。因此，装载室110及卸载室120用以在大气状态与真空状态之间切换。尽管图未示出，然装载室110及卸载室120可连接至基板传送单元(例如机械手臂)及基板装载单元(例如基板盒)。更具体而言，传送室400包含分配室410及缓冲室420，分配室410与第一制程室 200A及第二制程室200B相连以分配基板Gl、G2、G3及G4，缓冲室420设置于相应的二分配室410之间以临时容纳基板G1、G2、G3及G4。此处，缓冲室420分别提供基板G1、G2、G3 及G4临时停留的空间。所述每一分配室410包含基板旋转构件(图未示出)，用以旋本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：裵勍彬，尹亨硕，姜敞晧，
申请(专利权)人：韩商SNU精密股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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