本发明专利技术涉及能缩短蒸发源的冷却时间的蒸镀方法及蒸镀装置。在蒸镀准备工序中，在真空腔内配置蒸发源(10)及被处理物，蒸发源(10)具备：收容蒸镀材料(30)的坩埚(13)、加热坩埚(13)的加热部(14)以及向被处理物放出在坩埚(13)内气化后的蒸镀材料(30)的喷嘴。然后，通过加热部(14)加热被收容在坩埚(13)的蒸镀材料(30)，使产生气化后的蒸镀材料气体，并在被处理物上形成蒸镀膜。然后，从蒸发源(10)的外侧经由喷嘴(12)向坩埚(13)内供给气体(26)，并且使加热部(14)停止，冷却坩埚(13)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及蒸镀技术及用于该技术的蒸镀装置的技术，特别涉及适用于在基板上形成蒸镀膜的成膜工序的有效技术。
技术介绍
特开2008-115416号公报(专利文献I)公开了一种蒸镀方法，在成膜结束时使用于遮断来自坩埚的辐射热的反射器移动到上方，并停止用于加热坩埚的加热器，从而减少成膜结束后的坩埚的冷却时间。在先技术文献专利文献专利文献I :特开2008-115416号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题已知有在真空腔内配置作为被处理物的基板和蒸发源以在基板上形成蒸镀膜的技术。这样的成膜技术在例如有机EL(Electro Luminescence)显示器等平板显示器(FPD Flat Panel Display)的制造方法中被应用于形成由金属膜制成电极的工序。在蒸镀方法中，通过加热使收容在具有蒸发源的坩埚内的蒸镀材料气化或升华(以下，将气化或升华称为气化)。然后，将气化后的蒸镀材料输送到设置在蒸发源外部的被处理物(例如基板的蒸镀膜形成区域)，使其在被处理物的表面固体化，从而形成蒸镀膜。上述蒸镀方法中，在交换蒸镀材料时或维护蒸镀装置时，需要暂时冷却蒸发源，并在交换蒸镀材料等之后，再次升温至蒸镀温度(处理温度)。该蒸发源的冷却工序及升温工序一般各需要5小时 10小时左右的时间，通过减少冷却时间及升温时间能够高效地形成蒸镀膜。特别是，在冷却工序中，为了抑制在蒸发源(坩埚)的壁面、盖上附着蒸镀材料，在蒸镀材料的温度到达蒸发停止温度前，边继续用加热器进行蒸发源的加热边缓慢冷却，所谓的慢冷却工序，该慢冷却工序是使冷却时间变长的原因之一。如上述专利文献I所记载，在使反射器移动以对坩埚的上方及盖部持续进行保温、并使设置有蒸镀材料的坩埚的下方从反射器露出的蒸镀方法中，可以缩短蒸镀材料的冷却时间。但是，如果使高温加热后的坩埚从反射器露出，则由于坩埚的热辐射使设置在坩埚周围的蒸镀装置的构成部件变形、熔化，成为蒸镀装置不合格的原因。特别是，在使用包含金属的蒸镀材料时，由于蒸镀温度(处理温度)为例如400°C 1000°C以上的高温，因此，坩埚的热辐射的影响变大。本专利技术是鉴于上述课题完成的，其目的在于提供可以缩短蒸发源的冷却时间的技术。本专利技术的上述以及其他目的和新特征将通过本说明书的记载及附图进行说明。解决技术问题的手段在本申请公开的专利技术中，对代表性内容的概要进行简单说明则如下。S卩，本专利技术代表性实施方式中的蒸镀方法包括如下工序，(a)在真空腔内配置蒸发源及被处理物，所述蒸发源具备收容蒸镀材料的坩埚、加热所述坩埚的加热部以及向被处理物放出在所述坩埚内气化后的所述蒸镀材料的喷嘴。(b)通过所述加热部加热被收容在所述坩埚的所述蒸镀材料，使产生气化后的蒸镀材料气体，并在所述被处理物上形成蒸镀膜。以及(C)在所述(b)工序之后，从所述蒸发源的外侧经由所述喷嘴向所述坩埚内供给气体,并且使所述加热部停止,冷却所述坩埚。在本申请公开的专利技术中，对代表性内容带来的有益效果进行简单的说明，内容如下。S卩，能够缩短蒸发源的冷却时间。附图说明图I是作为本专利技术第一实施方式的有机EL显示装置的制造流程的概要说明图。图2是根据图I的流程制造的有机EL显示装置的有机EL元件的概要结构的放大截面图。图3是作为本专利技术第一实施方式的真空蒸镀装置的整体构成的概要说明图。图4是图3示出的成膜室内的整体构成的截面图。图5是放大地示出图4所示的蒸发源的截面图。图6是示出图3 图5所示的蒸镀装置及蒸发源的蒸镀方法的工序流程、各工序中坩埚的温度曲线、各工序中加热部的ON-OFF及各工序中有无气体供应的说明图。图7是本专利技术的一实施方式及对应于实施方式的第I及第2比较例的冷却工序中的坩埚温度曲线的说明图。图8是示出在图6所示的冷却中向图4所示的坩埚内供给惰性气体(不活性气体)的状态的截面图。图9是将图4所示的坩埚的温度与蒸镀材料的饱和蒸汽压之间的关系的一例以单对数曲线图示出的说明图。图10是示出作为对应于图6的变形例的蒸镀方法的工序流程、各工序中坩埚的温度曲线、各工序中加热部的ON-OFF及各工序中有无气体供给的说明图。图11是示出作为对应于图4的变形例的成膜室内的整体构成的截面图。图12是示出图8所示的成膜室的变形例的截面图。图13是示出图8所示的气体供给部的变形例的截面图。图14是图13所示的喷嘴周边的放大截面图。图15是示出在使用了图13所示的气体供给部的蒸镀方法中，形成蒸镀膜的蒸镀工序时的气体供给部的布局的截面图。图16是示出通过旋转运动使图13所示的气体供给部工作的状态的放大截面图。图17是示出使图16所示的气体供给部进一步工作的各状态的放大截面图。图18是示出用于在图7所示的作为第2比较例的冷却工序的蒸发源的结构的截面图。具体实施例方式<本申请中的记载方式>为方便说明，在以下实施方式中，分为多个部分或实施方式进行说明，但除非有特别说明，否则它们彼此之间并非没有关系，而是一者是另一者的一部分或全部的变形例、详细、补充说明等的关系。还有，在以下的实施方式中，在提及要素的数量等 (包括个数、数值、量、范围等)时，除非有特别明确的说明及原理上明确的限定为特定数量的情况，否则本专利技术不限于特定数量，可以是特定数量以上或以下。而且，在以下实施方式中，除非有特别说明及原理上必须等情况，否则其构成要素(包括要素步骤等)不一定必须。同样，在以下实施方式中，提及构成要素等的形状、位置关系等时，除非有特别说明及原理上明确不可以的情况等，否则包括实质上与其形状等近似或类似的情况。对于上述数值及范围，情况也相同。还有，在用于说明实施方式的全部附图中，对于同一部件原则上标注相同符号，并省略了重复说明。而且，为了易于理解附图，即使是平面图有时也标注影线。并且，在详细说明本申请的专利技术之前，对本申请的用语的意思进行说明，内容如下。气化是指，通过加热使固相或液相的材料相转移为气相。虽然向气相进行的相转移包括气化(从液相向气相的相转移)及升华(从固相不经过液相而直接相转移成气相)，而在本申请中，记载为气化时，意味着气化或升华。并且，将通过气化进行气化的材料称为气化材料，将通过升华进行气化的材料称为升华材料。蒸镀、蒸镀方法或蒸镀处理是指，将在加热容器内气化后的材料气体取出到加热容器外部，并使其在被处理物的表面固体化，成膜。并且，将通过蒸镀形成的膜称为蒸镀膜，将成为蒸镀膜的原材料的材料称为蒸镀材料，将气化后的蒸镀材料称为蒸镀材料气体。并且，蒸发源是指，使蒸镀材料气化并取出蒸镀材料气体的装置。因此，蒸镀源中包含收容蒸镀材料的加热容器及取出蒸镀材料气体的取出口。并且，蒸镀装置是指，对例如基板等被处理物实施蒸镀处理的装置。因此，蒸镀装置除上述蒸发源外，还包含保持被处理物的保持部及收容蒸发源及被处理物的真空腔等气密室。并且，在以下实施方式中，作为蒸发源、具有蒸发源的蒸镀装置及使用了这些的蒸镀方法的应用例，以应用于本申请专利技术人具体研究的有机EL显示装置制造方法的电极形成工序的情况为例，进行具体说明。〈有机EL显示装置的制造方法〉图I是本专利技术的第一实施方式的有机EL显示装置的制造流程的概要说明图。并且，图2是通过图I所示的流程而制造的有机EL显示装置的有机EL元件的概要结构的放大截面图。如图I所示，本实本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种蒸镀方法，其特征在于，包括以下工序：(a)准备蒸发源，所述蒸发源具备：收容蒸镀材料的坩埚、加热所述坩埚的加热部以及向被处理物放出在所述坩埚内气化后的所述蒸镀材料的喷嘴；(b)通过所述加热部加热被收容在所述坩埚的所述蒸镀材料，使产生气化后的蒸镀材料气体，并在所述被处理物上形成蒸镀膜；以及(c)在所述(b)工序之后，从配置在所述蒸发源的外侧的气体供给部经由所述喷嘴向所述坩埚内选择性地供给气体，使所述坩埚内的压力局部上升，并且使所述加热部停止，冷却所述坩埚。
【技术特征摘要】
2011.03.29 JP 2011-0734101.一种蒸镀方法，其特征在于，包括以下工序 (a)准备蒸发源，所述蒸发源具备收容蒸镀材料的坩埚、加热所述坩埚的加热部以及向被处理物放出在所述坩埚内气化后的所述蒸镀材料的喷嘴； (b)通过所述加热部加热被收容在所述坩埚的所述蒸镀材料，使产生气化后的蒸镀材料气体，并在所述被处理物上形成蒸镀膜；以及 (C)在所述(b)工序之后，从配置在所述蒸发源的外侧的气体供给部经由所述喷嘴向所述坩埚内选择性地供给气体，使所述坩埚内的压力局部上升，并且使所述加热部停止，冷却所述坩埚。2.根据权利要求I所述的蒸镀方法，其特征在于 在所述(C)工序中向所述坩埚内供给的气体为惰性气体。3.根据权利要求I或2所述的蒸镀方法，其特征在于 在所述(C)工序中，在开始所述坩埚的冷却之前，使所述蒸发源或所述气体供给部的气体放出口的位置相对移动，使所述气体供给部的所述气体放出口与所述喷嘴的开口部相对，以使从所述气体供给部经由所述喷嘴向所述坩埚内选择性地供给气体。4.根据权利要求I或2所述的蒸镀方法，其特征在于 所述(c)工序中向所述坩埚内供给所述气体的所述气体供给部的气体放出口与所述喷嘴分开配置， 使来自所述气体放出口的所述气体的放出角度相对于从所述喷嘴到所述被处理物的所述蒸镀材料气体的放出路径的轴线倾斜。5.根据权利要求I或2所述的蒸镀方法，其特征在于 所述(C)工序中向所述坩埚内供给所述气体的气体供给部具备在所述(C)工序中覆盖所述喷嘴的开口部的栓部， 所述气体供给部的气体供给路径连接到形成在所述栓部的贯通孔，并且所述气体供给部的气体放出口在所述(C)工序中被配置在所述喷嘴的所述开口部上、所述喷嘴的所述开口部内或所述坩埚内。6.根据权利要求5所述的蒸镀方法，其特征在于 在所述(C)工序中，加热所述栓部。7.根据权利要求I或2所述的蒸镀方法，其特征在于 在所...
【专利技术属性】
技术研发人员：松浦宏育，峰川英明，宗藤正利，加藤昇，三宅竜也，山本健一，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：
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