镀膜件及其制备方法技术

技术编号:7892138 阅读:145 留言:0更新日期:2012-10-23 00:23
本发明专利技术提供一种镀膜件,其包括基材,该基材为玻璃,该镀膜件还包括依次形成于基材表面的二氧化钛层、金属银层、金属钛层、钛铈氧层及氮化钛层,所述氮化钛层为镀膜件的最外层。本发明专利技术所述镀膜件膜系逐层过渡良好,膜层内部没有明显的应力产生;所镀膜层可使镀膜件达到低辐射和防紫外线的效果;同时最外层氮化钛层有助于提升镀膜件的耐磨性。此外,本发明专利技术还提供一种所述镀膜件的制备方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
红外线通常会透过玻璃辐射,夏季使室内 温度升高,冬季使室内的热量流向室外,这都会导致空调制冷或制热电能增加。因此低辐射镀膜玻璃一直是业界的研究焦点。紫外线辐射会使高分子有机物老化,在一些特殊的场合需要阻止紫外线的射入。在日常办公建筑物中为减少紫外线辐射的影响,通常在玻璃组分中添加铈离子,可在一定程度上减少紫外线透射,但生产含铈的玻璃通常所用的熔制法工艺较复杂,且铈离子的添加量不易控制。
技术实现思路
有鉴于此,有必要提供一种能够降低红外线和紫外线辐射的镀膜件。另外,还有必要提供一种上述镀膜件的制备方法。—种镀膜件,包括基材,该基材为玻璃,该镀膜件还包括依次形成于基材表面的二氧化钛层、金属银层、金属钛层、钛铈氧层及氮化钛层,所述氮化钛层为镀膜件的最外层。一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤 提供一玻璃基材; 在该玻璃基材的表面形成二氧化钛层; 在该二氧化钛层的表面形成金属银层; 在该金属银层的表面形成金属钛层; 在该金属钛层的表面形成钛铈氧层; 在该钛铈氧层的表面形成氮化钛层。本专利技术所述镀膜件膜系逐层过渡良好,膜层内部没有明显的应力产生,这样在施加外力的情况下,所镀的膜层不会因为内部的应力缺陷导致失效;所述金属银层能阻绝红外线且所述钛铈氧层能吸收紫外线,从而使镀膜件达到低辐射和防紫外线的效果;同时最外层氮化钛层具有良好的耐磨性、耐腐蚀性能,因而在整个膜层的镀上氮化钛层有助于提升镀膜件的耐磨性,可延长镀膜件的使用寿命。附图说明图I为本专利技术一较佳实施例的镀膜件的剖视 图2为本专利技术一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。主要元件符号说明Wm^ Ii-OSM~~二氧化钛层^T 金属银层_15金属钛层_2Z_本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜件,包括基材,该基材为玻璃,其特征在于:该镀膜件还包括依次形成于基材表面的二氧化钛层、金属银层、金属钛层、钛铈氧层及氮化钛层,所述氮化钛层为镀膜件的最外层。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜件,包括基材,该基材为玻璃,其特征在于该镀膜件还包括依次形成于基材表面的二氧化钛层、金属银层、金属钛层、钛铈氧层及氮化钛层,所述氮化钛层为镀膜件的最外层。2.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于所述二氧化钛层以溅射的方式形成,其厚度为30 50nm。3.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于所述金属银层以溅射的方式形成,其厚度为 15 25nm。4.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于所述金属钛层以溅射的方式形成,其厚度为I 4nm。5.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于所述钛铈氧层以溅射的方式形成,其厚度为 20 50nm。6.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于所述钛铈氧层中中含有氧化钛相和氧化铈相,其中氧化钛的质量百分比为30 50%,氧化铈的质量百分比为50 70%。7.如权利要求I所述的镀膜件,其特征在于所述氮化钛层以溅射的方式形成,其厚度为 40 60nm。8.一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤 提供一玻璃基材; 在该玻璃基材的表面形成二氧化钛层; 在该二氧化钛层的表面形成金属银层; 在该金属银层的表面形成金属钛层; 在该金属钛层的表面形成钛铈氧层; 在该钛铈氧层的表面形成氮化钛层。9.如权利要求8所述镀膜件的制备方法,其特征在于形成所述二氧化钛层的步骤采用如下方式实现采用磁控溅射法,使用钛靶,以氩气为工作气体,氩气流量为100 300sccm,以氧气为反应气体,氧气流量为50 200sccm,对玻璃基材施加的偏压为-100 -300V,钛靶的功率为2. 5 3. 5kW,镀膜温度为100 ...

【专利技术属性】
技术研发人员:张新倍陈文荣蒋焕梧陈正士黄嘉
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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