镀膜件及其制造方法技术

技术编号:8522539 阅读:172 留言:0更新日期:2013-04-04 01:07
本发明专利技术提供一种镀膜件,包括基体、依次形成于基体上阳极氧化膜、结合层及真空镀膜层,所述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。该镀膜件呈现出高光泽的阳极氧化处理的外观,且所述结合层的形成可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力,进而避免所述阳极氧化膜与真空镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。本发明专利技术还提供了所述镀膜件的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
现有技术,采用阳极氧化处理的方式在铝或铝合金表面形成一阳极氧化膜,在一 定程度上可改善铝或铝合金基体的硬度、耐磨性、耐腐蚀性及装饰性,但阳极氧化膜存在表 面粗糙、暗哑的缺点。采用喷涂的方式于阳极氧化膜上喷涂一透明油漆层,可改善阳极氧化处理产品表 面的触感;但喷涂过程中容易产生积漆、油漆层厚度不均等不良现象,且喷涂形成的涂层厚 度较厚,如此将导致阳极氧化膜的颜色发生偏差、光泽度下降。此外,喷涂工艺易于造成环 境污染。用真空镀膜方式代替喷涂形成一透明状的真空镀膜层可解决上述技术问题,但由 于阳极氧化膜与真空镀膜层之间存在较大的内应力,易于导致膜层发生开裂、剥落等现象。
技术实现思路
鉴于此,本专利技术提供一种可解决上述问题的镀膜件。另外,本专利技术还提供一种上述镀膜件的制造方法。一种镀膜件,包括基体、依次形成于基体上阳极氧化膜、结合层及真空镀膜层,所 述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。一种镀膜件的制造方法,其包括如下步骤提供基体;通过阳极氧化处理的方式,在该基体的表面形成阳极氧化膜;对所述阳极氧化膜表面进行抛光处理;采用真空镀膜法,以钛靶或铬靶为靶材,在抛光后的阳极氧化膜上形成结合层,该所述 结合层为钛层或铬层;采用真空镀膜法,以硅靶或铝靶为靶材,以氧气为反应气体,在结合层上形成真空镀膜 层,该真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。本专利技术对所述阳极氧化膜进行抛光处理,且所述结合层及真空镀膜层均为无色透 明状,使所述镀膜件在呈现阳极氧化处理的外观的同时呈现出高的光泽度。所述结合层的 形成可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力,进而避免所述阳极氧化膜与真空 镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。所述真空镀膜层本身具有良好 的硬度及耐磨性,可增强所述镀膜件的硬度及耐磨性。此外,该镀膜件的制造方法较为环保 且良率较好。附图说明图1是本专利技术一较佳实施例镀膜件的剖视图;图2是本专利技术一较佳实施例真空镀膜机的示意图。主要元件符号说明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜件,包括基体及形成于基体表面的阳极氧化膜,其特征在于:所述镀膜件还包括依次形成于该阳极氧化膜表面的结合层及真空镀膜层,所述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜件,包括基体及形成于基体表面的阳极氧化膜,其特征在于所述镀膜件还包括依次形成于该阳极氧化膜表面的结合层及真空镀膜层,所述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。2.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于所述结合层通过真空镀膜的方式形成。3.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于所述结合层的厚度为15 40nm。4.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于所述真空镀膜层的厚度为f1. 8μπι。5.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于所述结合层为无色透明状。6.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于所述真空镀膜层为无色透明状。7.一种镀膜件的制造方法,其包括如下步骤 提供基体; 通过阳极氧化处理的方式,在该基体的表面形成阳极氧化膜; 对所述阳极氧化膜表面进行抛光处理; 采用真空镀膜法,以钛靶或铬靶为靶材,在抛光后的阳极氧化膜上形成结合层,该结合层为钛层或铬层; 采用真空镀膜法,以硅靶或铝靶为靶材,以氧气为反应气体,在结合层上形成真空...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈正士李聪
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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