一种清洗单硅片的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种单硅片的清洗方法及装置，方法主要包括以下步骤：１．设置带超声或兆声发生器的清洗液喷射装置；２．装配直线移动装置；３．设置单硅片水平旋转装置；４．设置直线移动装置和水平旋转装置的速度；５．建立方程组，通过解方程组求得其值；６．根据第５步解出的数值在电机的控制器中设定转速值；７．开机完成清洗过程。该清洗方法的装置主要包括清洗腔、直线移动部件、水平旋转部件和控制部件组成，水平旋转部件由托架、连轴、调速电机和升降气缸组成；直线移动部件由支撑架、超声或兆声能量发生器、喷嘴、管路、调速电机、升降气缸组成，设有一个控制器与电机调速器控制连接。本发明专利技术适用于单片硅片的清洗，具有控制灵活精确，不损伤硅片的特点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种单硅片的清洗方法，其特征在于包括以下步骤：（１）设置带超声或兆声发生器的清洗液喷射装置：根据需要配置功率大小适合的超声或兆声发生器，设置能产生适合的有效清洗液射流的喷嘴和配套管路，将超声或兆声发生器与喷嘴装配在一起，并且固定设置在一移动架上；所述喷嘴可以上下移动，喷嘴与单硅片的距离可调，并且喷头与单硅片的表面呈３０－９０度角。（２）装配直线移动装置：给上述清洗液喷射装置配置上能做直线移动的直线移动装置，选用调速电机，配以精确转速控制器，该调速电机带动清洗液喷射装置沿单硅片的半径做径向直线移动；（３）设置单硅片水平旋转装置：设置单硅片托架，配置水平旋转装置，选用调速电机，配以精确转速控制器，...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：韩雷刚，王锐廷，郭训容，刘效桢，王广明，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]