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本发明涉及一种单硅片的清洗方法及装置，方法主要包括以下步骤：１．设置带超声或兆声发生器的清洗液喷射装置；２．装配直线移动装置；３．设置单硅片水平旋转装置；４．设置直线移动装置和水平旋转装置的速度；５．建立方程组，通过解方程组求得其值；６．根...该专利属于北京七星华创电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京七星华创电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种单硅片的清洗方法及装置，方法主要包括以下步骤：１．设置带超声或兆声发生器的清洗液喷射装置；２．装配直线移动装置；３．设置单硅片水平旋转装置；４．设置直线移动装置和水平旋转装置的速度；５．建立方程组，通过解方程组求得其值；６．根...