磁盘用玻璃基板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种硬盘驱动器(以下称为“HDD”)等磁盘装置所用的。
技术介绍
近年来，作为适于高记录密度化的磁盘用基板之一，使用玻璃基板。玻璃基板与金属的基板相比刚性高，所以适于磁盘装置的高速旋转化。另外，玻璃基板可得到平滑且平坦的表面，所以可降低磁头的浮起量，适于S/N比的提高和高记录密度化。通常，磁盘用玻璃基板通过依次实行使玻璃原料加热熔化而预备熔融玻璃的工序、将该熔融玻璃成形为板状的玻璃盘的工序、对成形为板状的玻璃盘进行加工、研磨而制作玻璃基板的工序来制作。在将熔融玻璃成形为板状的玻璃盘时，采用压制法、浮法等成形方法。在压制法中，从圆柱状的玻璃母材切断成比磁盘用基板稍厚的厚度的玻璃盘，调整玻璃盘的形状并且加工成所要求的平坦度及板厚。在将玻璃盘加工为所要求的平坦度及板厚的研磨工序中，使用研磨装置将玻璃盘研磨至目标的板厚并且加工为目标的平坦度。用研磨装置的上平台和下平台夹住玻璃盘，使其一边向反方向旋转一边用游离磨粒(浆料)进行加工。游离磨粒使用对应于玻璃盘的规定的尺寸精度及形状精度的粒度的磨粒，在最初的研磨加工 (研磨1)中使用大的粒径(例如平均粒径30 μ m左右)的游离磨粒进行研磨，在第二次研磨加工(研磨2:精研磨工序)中使用小的粒径(例如平均粒径10 μ m左右)的游离磨粒进行研磨。在浮法中，从利用浮法制造的板状玻璃切出玻璃盘，调整玻璃盘的形状并且对主表面进行研磨加工。利用浮法制造的板状玻璃由于从最初开始主表面就被镜面化，所以平坦度及板厚比压制玻璃优异。因此，省略了使用大的粒径的游离磨粒的研磨1，进行从最初开始就使用小的粒径的游离磨粒的研磨加工(研磨2)。作为与之相关的现有技术，例如可举出特开2002-55061号公报。现有技术文献专利文献1 特开2002-55061号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是，在上述研磨2的研磨加工中，如果使用粒径比游离磨粒小的固定磨粒作为研磨垫，就可以使玻璃基板上产生的裂纹变浅，能够减小在研磨2的研磨加工结束时的表面粗糙度。例如，使用在薄片上贴上金刚石颗粒的金刚石片作为研磨垫。因为使用的金刚石颗粒比作为游离磨粒所使用的氧化铝类颗粒的粒径小，所以可以使裂纹变浅，也可以减小表面粗糙度。但是，为了像利用浮法制造的板状玻璃那样，对表面粗糙度为Ra = 0. 01 μ m以下的镜面玻璃尽可能不使表面粗糙度恶化地进行研磨，直到达到必要的平坦度，需要微细的磨粒。要使用这种微细的磨粒的研磨垫对镜面玻璃进行加工时，必须将加工开始的加工速率抑制为非常低的速度(通常加工速率的1/5 1/10以下)，存在加工时间变长的问题。需要说明的是，上述的研磨开始时的加工速率低的课题并不限于利用浮法制造的镜面板玻璃，是在使用微细磨粒的研磨垫加工镜面板玻璃的场合共同产生的问题。本专利技术是鉴于这样的问题而完成的，目的在于提供一种在用微细的固定磨粒对镜面板玻璃的主表面进行加工时，从加工开始时就可实现高加工速率，可以缩短加工时间的。用于解决课题的手段本专利技术的的一个方式，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在于，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序之前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。根据该方法，由于是通过磨砂加工用简单的方法将镜面板玻璃表面进行表面粗糙化，因此能够使用固定磨粒并以高的加工速率对板玻璃进行研磨加工，能够提高生产率。在本专利技术的的一个方式中，在表面粗糙化工序中所使用的处理液优选PH为4. 0 7. 0、且包含浓度4. OM 8. OM的氢氟酸以及缓冲剂。根据该方法，在使用固定磨粒对镜面板玻璃表面进行加工前，将所述镜面板玻璃表面进行表面粗糙化直到所述固定磨粒发挥研磨作用的程度时，由于使用pH4. 0 pH7. 0、且包含浓度4. OM 8. OM的氢氟酸以及缓冲剂的处理液，所以，在镜面板玻璃表面形成固定磨粒挂住的凸部，可以防止镜面板玻璃表面的固定磨粒的打滑，从利用固定磨粒的加工开始就可以实现高的加工速率。在本专利技术的的一个方式中，所述处理液优选作为腐蚀反应促进剂而含有氟离子供给剂。在此，氟离子供给剂通过向HF供给氟离子成为HF2-,以提高所述处理液的腐蚀反应速度。在本专利技术的的一个方式中，优选所述氟离子供给剂选自 NH4F、NaF、KF 及 CaF2。在本专利技术的的一个方式中，优选所述缓冲剂选自Κ0Η、 NaOH及NH4F。在该情况下，在所述缓冲剂为KOH的情况下，优选所述处理液的pH为4. 0 7. 0，在所述缓冲剂为NaOH的情况下，优选所述处理液的pH为4. 5 7. 0。在本专利技术的的一个方式中，所述表面粗糙化工序优选将镜面的表面粗糙度Ra为0. 01 μ m以下的镜面板玻璃表面粗糙化为表面粗糙度Ra为 2. 0 μ m ~ 10. 0 μ m。在本专利技术的的一个方式中，在所述使用固定磨粒的表面研磨工序中，优选加工成表面粗糙度Ra为0.01 μ m以下，且平坦度为6. Ομπι以下。在本专利技术的的一个方式中，优选具备在所述表面粗糙化工序前，对所述镜面板玻璃表面进行前洗涤的前洗涤工序。在本专利技术的的一个方式中，所述前洗涤优选在所述磨砂加工后的所述镜面板玻璃的板厚偏差为10 μ m以下的条件下进行。4在本专利技术的的一个方式中，所述前洗涤优选通过化学溶液洗涤及/或擦洗洗涤来进行。在本专利技术的的一个方式中，所述化学溶液洗涤优选使用选自酸、碱及表面活性剂的至少两种来进行。专利技术效果根据本专利技术的的一个方式，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工以简单的方法进行表面粗糙化的表面粗糙化工序，所以，能够使用固定磨粒并以高的加工速率对板玻璃进行研磨加工，可提高生产率。根据本专利技术的的一个方式，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，用化学方法将所述镜面板玻璃表面进行表面粗糙化，直到所述固定磨粒发挥研磨作用的程度的表面粗糙化工序，在所述表面粗糙化工序中所使用的处理液的pH为4. 0 7. 0、且包含浓度4. OM 8. OM的氢氟酸以及缓冲剂，所以，用微细的固定磨粒对镜面板玻璃的主表面进行研磨时，从研磨开始时就能够实现高的加工速率，可缩短加工时间。附图说明图1是本专利技术实施方式的的一部分工序的示意图。图2是金刚石片的示意图。图3是表示表面粗糙化工序的有无和精研磨工序的加工速率之间的关系的图；图4是表示磨砂加工前洗涤的条件和精研磨工序的加工速率之间的关系的图。具体实施例方式下面，参照附图对本专利技术的实施方式详细地进行说明。另外，在下面的说明中，虽然是对作为磁盘用玻璃基板的坯料采用利用浮法制造的板状玻璃坯料的例子进行说明，但本专利技术并不限于利用浮法制造的板状玻璃坯料，也适用于利用其它方法制作的镜面板玻璃。另外，即使是磁盘用玻璃基板以外的用途，只要是用微细的固定磨粒对镜面板玻璃表面进行加工而使其达到要求的平坦度及表面粗糙度的用途，同样地可适用本专利技术。需要说明的是，在此，所谓镜面是指表面粗糙度(算术平均粗糙度(Ra))为0.01 μ 本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在于，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：水野高德，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP