磁盘用玻璃基板的制造方法技术

本发明专利技术涉及磁盘用玻璃基板的制造方法，不需要较大地依赖于研磨剂的化学研磨作用，能够确保对于玻璃表面的高研磨率，该方法包括相对于玻璃基板主表面供给包含游离磨粒的研磨液的同时使研磨垫滑动接触来进行研磨的工序，在研磨垫表面上设置有相对于玻璃基板主表面滑动接触的滑动接触部和滑动接触部之间形成的槽，在每一平方米的研磨垫表面上形成的滑动接触部边缘长度的合计值为200m以上，且作为相对于整个研磨垫表面区域的滑动接触部区域的面积比率的填充率为80％以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
如今,在个人计算机、DVD (Digital Versatile Disc)记录装置等,为了记录数据内置有硬盘装置(HDD:Hard Disk Drive) 0特别是，在笔记本电脑等以携带性为前提的设备所使用的硬盘装置中，使用在玻璃基板设置磁性层的磁盘，用微微上浮于磁盘的面上的磁头(DFH,Dynamic Flying Height :动态飞行高度)在磁性层进行磁记录信息的记录或读取。在该磁盘的基板中，从与金属基板等相比具有不易产生塑性变形的性质考虑，适用玻璃基板。另外，为满足硬盘装置的存储容量増大的要求，人们正在谋求磁记录的高密度化。例如，使用磁性层的磁化方向相对于基板的面垂直的方向的垂直磁记录方式，进行磁记录信息区域的微细化。因此，能够使ー张盘面基板的存储容量増大。并且，为了存储容量的进一步增大化，还尽量缩短磁头从磁记录面的上浮距离，由此进ー步提高信息记录再生精度(提高S/N比)。在这样的磁盘的基板中，磁性层平坦地形成，以使磁性层的磁化方向朝向相对于基板面略垂直的方向。因此，所制造的磁盘的基板表面的粗糙度、微观波纹度(下面统称为“表面凹凸”)优良。专利文献I中公开了以下的技术磁盘用玻璃基板的制造エ序包括研削エ序，对于加压成形后成平板状的玻璃基板的主表面进行通过固定磨粒的研削；主表面研磨エ序，其目的是去除通过该研削エ序残留在主表面的伤痕、变形，在现有技术中，在上述主表面的研磨エ序中作为研磨剂(游离磨粒)使用包含氧化铈(ニ氧化铈)磨粒的泥浆，并边挤压玻璃基板和研磨垫(研磨布)边使其相对旋转(使其滑动)的方式进行研磨。另外，在研磨垫上形成用于排出泥浆的格子形状的槽。根据作为研磨剂使用氧化铈磨粒的方法，能够以高研磨率去除残留在磁盘用玻璃基板主表面的伤痕或变形，从而能够高效率地完成磁盘用玻璃基板主表面的优良的表面凹凸水平。专利文献I :特开2007-111852号公报
技术实现思路
但是，近年来由于铈的供应紧张导致价格上涨，由此正研究着用其它材料来代替氧化铈。氧化铈对于玻璃表面的化学作用強，由此通过该化学作用使用氧化铈来实现了高研磨率。虽然正研究着替代氧化铈的研磨剂的替代材料，但大部分替代材料不像氧化铈那样对玻璃表面有很强的化学作用。例如，作为研磨剂，如果使用氧化锆磨粒来替代氧化铈，则在相同的条件下其研磨率低于使用氧化铈的情況。因此，本专利技术的ー个目的是提供ー种不需要较大地依赖于研磨剂的化学研磨作用，能够确保对于玻璃表面的高研磨率的。、专利技术人关注的是，在磁盘用玻璃基板制造中的研磨エ序中，作为对于玻璃表面的研磨作用，存在研磨剂对玻璃表面的化学研磨作用和研磨垫对玻璃表面的物理研磨作用，并且不需要较大地依赖前者的化学研磨作用，通过提高后者的物理研磨作用来整体上确保高研磨率。并且，专利技术人基于上述课题进行了认真的研究，结果发现用带槽的研磨垫对玻璃表面进行研磨时，不仅是通过相对于玻璃表面的滑动接触面对玻璃表面进行研磨(通过滑动接触面的研磨)，而且形成在研磨垫的滑动接触部的边缘也对玻璃表面的研磨做出贡献(通过边缘的研磨)，因此通过适当地设定带槽的研磨垫的槽形状，提高研磨垫对玻璃表面的物理研磨作用。 另外，即使使用像氧化铈那样化学研磨作用强的研磨剂时，通过提高研磨垫对玻璃表面的物理研磨作用，能够进ー步提高研磨率。专利技术人基于上述见解提出的第一观点的，其特征在于，包括相对于玻璃基板主表面供给包含游离磨粒的研磨液的同时使研磨垫滑动接触来进行研磨的エ序，并且在研磨垫表面上设置有相对于玻璃基板主表面滑动接触的滑动接触部，和滑动接触部之间形成的槽。并且，每一平方米的研磨垫表面上形成的滑动接触部边缘长度的合计值为200m以上，且作为相对于整个研磨垫表面区域的滑动接触部区域的面积比率的填充率为80%以上。在上述中，研磨垫的滑动接触部可以是在研磨垫表面上由相同形状的多个三角形区域組成。在上述中，研磨垫的滑动接触面优选的是由发泡性聚氨酯树脂形成。在上述中，其特征在于，上述发泡性聚氨酯树脂的发泡孔口径为30 200 iim。上述，其特征在于，上述研磨エ序利用具有安装上述研磨垫的上平台和下平台的行星齿轮结构，使玻璃基板夹在上平台和下平台之间，通过操作使上平台或下平台中的任意ー个平台移动，或者使两个平台移动，由此对玻璃基板主表面进行研磨。上述，其特征在于，上述游离磨粒为氧化锆磨粒。上述，其特征在于，上述磁盘用玻璃基板用于使用DFH磁头记录的磁盘的制造上。第二观点的，其特征在于，该方法包括相对于玻璃基板主表面供给包含游离磨粒的研磨液的同时使研磨垫滑动接触来进行研磨的エ序，在所述研磨垫表面上设置有与玻璃基板主表面滑动接触的滑动接触部和滑动接触部之间形成的槽，所述滑动接触部在所述研磨垫的表面中构成为多个三角形的区域。第三观点的，其特征在于，用具有滑动接触部的研磨垫对玻璃基板进行研磨，在所述滑动接触部中在相同形状的四角形或六角形区域的各边和其对角线上形成有槽，由此所述滑动接触部由多个三角形区域形成。上述，其特征在于，所述三角形区域为等腰直角三角形区域。另外，专利技术人提出的研磨垫，其特征在于，该研磨垫是用干与磁盘用玻璃基板的玻璃基板主表面滑动接触而对该主表面进行研磨的研磨垫，在研磨垫表面上设置有相对于玻璃基板主表面滑动接触的滑动接触部，和在滑动接触部之间形成的槽。并且，每一平方米的研磨垫表面上形成的滑动接触部边缘长度的合计值为200m以上，且作为相对于整个研磨垫表面区域的滑动接触部区域的面积比率的填充率为80%以上。根据本专利技术的，可以不需要较大地依赖研磨剂的化学研磨作用，能够确保相对于玻璃表面的高研磨率。即，即使使用化学研磨作用比较低的研磨剂或比较高的研磨剂，由于通过提高研磨垫对玻璃表面的物理研磨作用，也能够提高研磨率。附图说明图I为表示组装在行星齿轮结构的本实施方式的两面研削装置结构的分解立体图；图2为表示俯视本实施方式的研磨垫时的图案例的图；图3为表示俯视本实施方式的研磨垫时的图案例的图；图4为表示俯视本实施方式的研磨垫时的图案例的图；图5为用于说明滚降(Dub-off)值的计算方法的图。附图标记说明 10研磨垫11滑动接触部12 槽30 载体31齿轮部32 孔部50上平台60下平台61太阳齿轮62内齿轮具体实施例方式下面，详细说明本实施方式的。[磁盘用玻璃基板]作为本实施方式的磁盘用玻璃基板材料，可以使用铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等。特别是，从能够实施化学強化、并且能够制造主表面的平坦度和基板强度优良的磁盘用玻璃基板的方面考虑，优选使用铝硅酸盐玻璃。进ー步，如果使用非晶质玻璃，由于能够进ー步降低表面粗糙度，因此特别优选。并不是要限定本实施方式的磁盘用玻璃基板的组成，但本实施方式的玻璃基板优选使用的是以氧化物基准換算，以摩尔％表示，包含有50 75%的SiO2U 15%的Al2O3、合计5 35%的从Li20、Na20以及K2O选择的至少ー种成分、合计0 20%的从MgO、CaO, SrO, BaO以及ZnO选择的至少ー种成分、合计0 10%的从ZrO2, Ti02、La203、Y2O3>Ta2O5, Nb2O5以及HfO2选择的至少ー种成分的非晶质铝硅酸盐玻璃。本实施方式的磁盘用玻璃基板是薄板的圆环状的玻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括相对于玻璃基板主表面供给包含游离磨粒的研磨液的同时使研磨垫滑动接触来进行研磨的工序，在所述研磨垫表面上设置有相对于玻璃基板主表面滑动接触的滑动接触部和滑动接触部之间形成的槽，每一平方米的研磨垫表面上形成的滑动接触部边缘长度的合计值为200m以上，且作为相对于整个研磨垫表面区域的滑动接触部区域的面积比率的填充率为80％以上。

【技术特征摘要】
2011.03.31 JP 2011-0792121.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在干， 包括相对于玻璃基板主表面供给包含游离磨粒的研磨液的同时使研磨垫滑动接触来进行研磨的エ序， 在所述研磨垫表面上设置有相对于玻璃基板主表面滑动接触的滑动接触部和滑动接触部之间形成的槽， 每ー平方米的研磨垫表面上形成的滑动接触 部边缘长度的合计值为200m以上，且作为相对于整个研磨垫表面区域的滑动接触部区域的面积比率的填充率为80%以上。2.根据权利要求I所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨垫的滑动接触部是在研磨垫表面上由相同形状的多个三角形区域組成。3.根据权利要求I或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨垫的滑动接触部是由发泡性聚氨酯树脂形成。4.根据权利要求3所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在干，所述发泡性聚氨酯树脂的发泡孔口径为30 200 u m。5.根据权利要求I至4任意一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨エ序利用具有安装所述研磨垫的上平台和下平台的行星齿轮结构，使玻璃基板夹在上平台和下平台之间，通过操作使上平台或下平台中的任意ー个平台移动，或者使两个平台移动，由此对玻璃基板主表面进行研磨。6.根据权利要求I至5任意一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：石井智，深田顺平，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：