磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法技术

本发明专利技术提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法，所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括玻璃基板的洗涤工序，该制造方法可以抑制玻璃基板表面的粗糙度变大、同时有效除去附着在玻璃基板表面的金属污染物。其特征在于，在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的洗涤液（7）在酸性条件下进行洗涤；与洗涤工序同时、或者在洗涤工序之前或之后，进行通过紫外线照射（2）将洗涤液中含有的2价铁离子被氧化而生成的3价铁离子还原的操作。

【技术实现步骤摘要】
磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法
本专利技术涉及一种用作计算机等的记录介质的磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法。
技术介绍
随着信息化技术的高度化，信息记录技术、特别是磁记录技术正在显著进步。对用于磁记录介质之一的HDD（硬盘驱动器）等的磁盘来说，正在持续进行快速的小型化、薄片化、记录密度的增加及存取速度的高速化。在HDD中，使在圆盘状的基板上具有磁性层的磁盘高速旋转，使磁头在该磁盘上浮起飞行，与此同时进行记录和再生。由于伴随存取速度的高速化，磁盘的旋转速度也变快，因而对磁盘来说要求更高的基板强度。另外，随着记录密度的增加，磁头也从薄膜磁头向磁阻磁头（MR磁头）、乃至巨磁阻磁头（GMR磁头）发展，磁头自磁盘的浮起量逐渐变窄至5nm左右。因此，当磁盘面上具有凹凸形状时，有时会出现磁头碰撞磁盘所致的破碎损害、和/或由空气的绝热压缩或磁头和磁盘的接触导致加热而出现读取错误的热粗糙（thermalasperity）损害。为了抑制这种对磁头产生的损害，将磁盘的主表面预先加工成极平滑的表面变得极为重要。因而目前，作为磁盘用的基板，逐渐使用玻璃基板代替以往的铝基板。这是因为，与由作为本文档来自技高网...

【技术保护点】
磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和对抛光工序后的玻璃基板进行洗涤的洗涤工序，其特征在于，在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的洗涤液，在酸性条件下进行洗涤，在所述洗涤工序中进行还原所述洗涤液的操作。

【技术特征摘要】
2011.09.30 JP 2011-2178941.磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和对抛光工序后的玻璃基板进行洗涤的洗涤工序，其特征在于，在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的pH为1.8～4.2的洗涤液，在酸性条件下进行洗涤，在所述洗涤工序中，通过对所述洗涤液进行光照射来进行还原所述洗涤液的操作。2.磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和对抛光工序后的玻璃基板进行洗涤的洗涤工序，其特征在于，在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的pH为1.8～4.2的洗涤液，在酸性条件下进行洗涤，与所述洗涤工序同时、或者在所述洗涤工序之前或之后，通过对所述洗涤液进行光照射来进行将所述洗涤液中含有的2价铁离子被氧化而生成的3价铁离子还原的操作。3.磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和对抛光工序后的玻璃基板进行洗涤的洗涤工序，其特征在于，在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的pH为1.8～4.2的洗涤液，在酸性条件下进行洗涤，与所述洗涤工序同时、或者在所述洗涤工序之前或之后，对所述洗涤液进行光照射。4.权利要求1～3任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，照射所述洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：山口智行，饭泉京介，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：