磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磁盘用玻璃基板的清洗液技术

本发明专利技术提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明专利技术使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，一边维持清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10-3mol/L以下的条件，一边对两个以上的玻璃基板进行清洗处理，所述两个以上的玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，且主表面进行了镜面研磨。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磁盘用玻璃基板的清洗液
本专利技术涉及搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磁盘用玻璃基板的清洗液。
技术介绍
作为搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的一种信息记录介质，存在磁盘。磁盘是在基板上形成磁性层等薄膜而构成的，作为该基板过去一直使用铝基板。但是，最近，随着记录的高密度化的要求，与铝基板相比玻璃基板能够使磁头和磁盘之间的间隔变得更窄，因此玻璃基板所占有的比例逐渐升高。另外，对玻璃基板表面高精度地进行研磨以使磁头的悬浮高度尽量下降，由此实现记录的高密度化。近年来，对HDD越来越多地要求更大的存储容量化，为了实现这样的目的，磁盘用玻璃基板也需要进一步的高品质化，要求为更平滑且洁净的玻璃基板表面。如上所述，为了对于记录的高密度化所必须的低飞行高度(悬浮量)化，磁盘表面必须具有高平滑性。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果要求具有高平滑性的基板表面，因此需要对玻璃基板表面进行高精度的研磨，但仅仅如此是不够的，还需要通过研磨后的清洗去除基板表面的附着异物，得到洁净的基板表面。作为现有的方法，例如，专利文献1中公开了一种在利用含有多元胺的研磨液进行研磨后对基板进行碱(pH8～13)清洗的方法。另外，专利文献2中公开了一种在研磨后用含有碱性试剂、醛糖酸类的pH10以上的碱性清洗剂对基板进行清洗的方法。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-107226号公报专利文献2：日本特开2010-86563号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题现在的HDD能够实现一平方英寸500千兆比特程度的记录密度，例如，1枚2.5英寸型(直径65mm)的磁盘能够存储320千兆字节程度的信息，但是要求实现记录的更高密度化、例如375～500千兆字节、进而1百万兆字节。伴随着这种近年来的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品质的要求也比迄今为止更加严格。在面向上述那样的例如375～500千兆字节的磁盘的下一代基板中，由于基板对介质特性所产生的影响变大，因此不仅是基板表面的粗糙度，而且在不存在异物附着等导致的表面缺陷的方面也要求对现有产品进行进一步的改善。在下一代基板中基板对介质特性所产生的影响变大是基于下述理由。可以举出磁头的悬浮量(磁头与介质(磁盘)表面的间隙)的大幅降低(低悬浮量化)。这样一来，磁头与介质的磁性层的距离接近，因此能够拾取更小的磁性颗粒的信号，能够实现记录的高密度化。近年来，为了实现现有以上的低悬浮量化，使磁头搭载了被称为DFH(DynamicFlyingHeight，动态飞高)的功能。该功能是在磁头的记录再生元件部的附近设置极小的加热器等加热部，仅使记录再生元件部周边向介质表面方向突出。可以预计：今后，通过该DFH功能，磁头的元件部与介质表面的间隙变得极小，小于2nm或小于1nm。在这种状况下，使基板表面的平均粗糙度变得极小，结果可知：若存在以往未成为问题的极小的异物(例如小的物质，在主表面的面内方向的长度为10nm～40nm左右)的附着等所引起的略呈凸状的程度的表面缺陷，则直接在介质表面形成凸状缺陷，因而磁头碰撞的危险性提高。另外，根据本专利技术人的研究，可知：即便使用以上述专利文献中公开的方法为代表的现有的各种精密研磨技术、精密清洗技术，或者单纯对它们进行组合使用，也无法兼顾清洗后的低粗糙度和高洁净度。伴随着近年来的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品质的要求也比迄今为止更加严格，通过现有的改善方法来实现基板表面品质的进一步提高存在极限。本专利技术是为了解决这样的现有问题而进行的，其第一目的在于提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化而进行清洗处理，其结果，可以实现低粗糙度(高平滑性)；第二目的在于提供一种适合用于上述清洗处理的清洗液；第三目的在于提供一种能够实施高度洁净的清洗的磁盘用玻璃基板的制造方法。用于解决课题的方案为了提高基板的洁净度，需要将粘着于基板表面的异物清洗除去，为此，在使用碱性度高的碱性试剂进行清洗时可以实现高洁净度，因而是优选的。这是因为，在碱性度高的碱性试剂的情况下，玻璃的表面被蚀刻，因此即使是粘着的异物，也可以彻底除去。但是，在现有的碱性清洗的情况下，碱性度越高则对玻璃的蚀刻效果越大，因而基板表面的粗糙度因碱性清洗而上升，无法维持通过精密研磨所得到的超平滑的表面粗糙度。于是，本专利技术人摸索出了下述方法：在连续长时间清洗大量的玻璃基板的情况下，可维持由碱性清洗所得到的清洗力，同时可抑制基板的表面粗糙度上升。其结果，查明了：清洗液中的钠离子或钾离子等碱金属离子浓度与玻璃基板表面的粗糙度的上升量有关。另外，还发现：不仅是清洗中使用的碱性试剂的碱性度，与OH离子形成对的阳离子的种类有时也会对粗糙度上升量产生大幅影响。本专利技术人基于所得到的这些技术思想进一步进行了深入研究，结果完成了本专利技术。即，本专利技术具有以下的构成。(构成1)一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，一边维持上述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10-3mol/L以下的条件，一边进行主表面经镜面研磨的两个以上的上述玻璃基板的清洗处理。(构成2)如构成1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述镜面是指上述玻璃基板的主表面的表面粗糙度Ra为0.15nm以下。(构成3)如构成1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)与即将进行上述清洗处理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差为0.06nm以内。(构成4)如构成1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使上述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为2.00×10-3mol/L以下。(构成5)如构成1～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述碱性试剂为四烷基氢氧化铵。(构成6)如构成1～5中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述清洗液进一步含有不包含钠和钾的表面活性剂。(构成7)如构成1～6中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，构成上述玻璃基板的玻璃为至少包含Na2O或K2O中的任一种的铝硅酸盐玻璃。(构成8)一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，预先求出上述清洗处理后的玻璃基板相对于上述清洗处理前的玻璃基板的主表面的表面粗糙度(Ra)的增大量、与上述清洗处理中使用的清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度的关系，基于所求出的上述关系，决定上述表面粗糙度(Ra)的增大量为0.06nm以下的上述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度，一边维持上述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为上述决定的浓度以下的条件，一边进行主表面经镜面研磨的上述玻璃基板的清洗处理。(构成9)一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，一边维持所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10‑3mol/L以下的条件，一边进行主表面经镜面研磨的两个以上的所述玻璃基板的清洗处理。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.29 JP 2012-218946;2012.10.31 JP 2012-241151.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，一边维持所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10-3mol/L以下的条件，一边进行主表面经镜面研磨的两个以上的所述玻璃基板的清洗处理。2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述镜面是指所述玻璃基板的主表面的表面粗糙度Ra为0.15nm以下。3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗处理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)与即将进行所述清洗处理前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差为0.06nm以内。4.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为2.00×10-3mol/L以下。5.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述碱性试剂为四烷基氢氧化铵。6.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液进一步含有不包含钠和钾的表面活性剂。7.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，构成所述玻璃基板的玻璃为至少包含Na2O或K2O中的任一种的铝硅酸盐玻璃。8.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包含玻璃基板的清洗处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，预先求出所述清洗处理后的玻璃基板相对于所述清洗处理前的玻璃基板的主表面的表面粗糙度(Ra)的增大量、与所述清洗处理中使用的清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度的关系，基于所求出的所述关系，决定所述表面粗糙度(Ra)的增大量为0.06nm以下的所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度，一边维持所述清洗液中的钠离子和钾离子的总浓...

【专利技术属性】
技术研发人员：山口智行，江藤伸行，饭泉京介，德光秀造，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP