图案形成方法和磁记录介质的制造方法技术

在磁记录介质形成面内均匀性良好的周期性图案。根据实施方式，在磁记录层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，形成单层的微粒子层，所述微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂和第2添加剂的混合物，所述第1添加剂具有用于提高对磁记录层的润湿性的直链结构以及羧基等，所述第2添加剂具有羧基等以及聚合性官能团，应用热能或者光能，使聚合性官能团反应而使保护层固化，并且固着于磁记录层上，形成周期性图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式涉及。 本申请以日本专利申请2013-187498号（申请日：2013年9月10日）为基础申请 享受优先权。本申请通过参照该基础申请而包括基础申请的全部内容。
技术介绍
纳米量级的微细图案加工技术以被半导体业界主导的形态持续提高，近年来，数 十?数纳米水平的图案化成为可能。图案加工技术不仅使用于半导体领域，也使用于显示 器、电子材料、催化剂、存储材料这样的种种领域。 特别地，存在在硬盘驱动器（HDD)中也应用微细图案化技术的想法。通过对HDD的 记录介质实施图案化，能够增加每1比特(位元）的磁粒子体积，提高热稳定性。或者，与通 过溅射制作的粒状介质相比，能够使粒子尺寸一致，所以能够减小抖动噪声。这样的磁记录 介质被称作图案化介质（patterned media)。在图案化介质中，使图案化了的磁粒子的大小 和配置一致是重要的。 在图案化介质等具有纳米构造的装置中，作为构成纳米构造的样板考虑应用微粒 子。能够将微粒子的形状向磁记录介质和/或防反射膜转印，以微粒子本身为催化剂生长 碳纳米管（CNT)。不管粒子成为单层还是多层，都需要使粒子在基板上均匀地排列，再施加 后续的工艺。工艺中，对覆盖微粒子的周围的保护基进行蚀刻来使微粒子表面露出，但是此 时，存在粒子由于等离子体而带电，发生相互凝集的问题。
技术实现思路
本专利技术的实施方式，其目的在于提供能够形成面内均匀性良好的周期性图案的图 案形成方法以及磁记录介质的制造方法。 根据实施方式，提供一种磁记录介质的制造方法，其特征在于，具备： 在基板上形成磁记录层的工序； 在该磁记录层上形成掩模层的工序； 在所述掩模层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，在所述掩模层上形成单层的微 粒子层的工序，所述微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、 钴、镍、锌、钇、锆、锡、钥、钽和钨、以及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂与第 2添加剂的混合物，所述第1添加剂具有用于提高对所述掩模层的润湿性的直链结构、以及 选自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种基团，所述第2添加剂具有选自氨基、羧基、羟基 和磺基中的至少1种基团以及聚合性官能团； 对该微粒子层应用热能或者光能，使该聚合性官能团反应而使该保护层固化，并 且固着于所述掩模层上的工序； 将包含该微粒子层的周期性图案向所述掩模层转印的工序； 将所述周期性图案向所述磁记录层转印的工序；以及 从所述磁记录层除去所述掩模层的工序。 【附图说明】 图1是表示能够采用实施方式的方法制作的周期性图案的例子的图。 图2是表示能够采用实施方式的方法制作的周期性图案的其他例子的图。 图3是对能够应用实施方式的磁记录介质的磁记录再生装置的一例进行部分分 解而得到的立体图。 图4是表示第1实施方式所使用的周期性图案的形成方法的流程图。 图5是表示形成第1实施方式的磁记录介质的工序的概略截面图。 图6是表示第2实施方式所使用的周期性图案的形成方法的流程图。 图7是表示形成第2实施方式的磁记录介质的工序的概略截面图。 图8是表示形成第3实施方式的磁记录介质的工序的概略截面图。 【具体实施方式】 以下，参照附图对实施方式进行说明。 第1实施方式的磁记录介质的制造方法具备： 在基板上形成磁记录层的工序； 在该磁记录层上形成掩模层的工序； 在掩模层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，在掩模层上形成单层的微粒子层的 工序，所述微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、 锌、钇、锆、锡、钥、钽和钨、以及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂与第2添加 剂的混合物，所述第1添加剂具有用于提高对所述掩模层的润湿性的直链结构、以及选自 氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的基团，所述第2添加剂具有选自氨基、羧基、羟基和 磺基中的至少1种的基团以及聚合性官能团； 对微粒子层应用热能或者光能，使聚合性官能团反应而使保护层固化，并且固着 于掩模层上的工序； 将包含微粒子层的周期性图案向所述掩模层转印的工序； 将周期性图案向所述磁记录层转印的工序；以及 从所述磁记录层除去所述掩模层的工序。 根据第1实施方式，能够得到在单层的微粒子层中各微粒子不凝集地排列的周期 性图案。由此，能够得到磁性体粒子的尺寸分布窄的图案化介质。 此处所说的周期性图案，是指具有一定的规则性的图案排列。图案可以是凹凸，也 可以是化学组成不同的材料，还可以是其双方。例如，在Fe粒子以埋入于聚甲基丙烯酸甲 酯的基体的状态排列的情况下，成为没有凹凸但化学组成不同的材料的排列。另外，在通过 RIE工艺除去了聚甲基丙烯酸甲酯的基体的情况下，仅Fe粒子残存而成为凹凸图案。所谓 一定的规则性，意味着以凹凸和/或化学组成不同的材料的其中一方进行排列。排列可以 是六方最密排列，也可以是正方排列。排列是指至少包含大于等于（即大于或等于)1〇〇个图 案。将规则排列的区域称作域（domain)，实施方式中的微粒子排列体可以具有多个域。在 域与域的分界处排列混乱。 所谓磁性体粒子，是指在磁记录层中，磁性体作为单一粒子引起磁化翻转的区域。 例如，可举出具有规则构造的磁性体粒子。所谓规则构造，可以是单晶，也可以是Ll tl构造 那样的交替层叠膜，还可以是保持相同面取向的人工晶格那样的构造。另外，在粒状介质那 样的磁性体颗粒埋入于非磁性基体那样的构造的情况下，基体内的磁性体部分是此处所说 的磁性体粒子。磁性体粒子的粒子尺寸分散与记录再生时的抖动噪声直接相关。粒子尺寸 分散窄的介质是理想的。在实施方式中，因为利用微粒子的周期性图案分隔磁记录层，所以 微粒子的粒子尺寸分散与磁性体颗粒的粒子尺寸分散大致等同。 另外，此处，掩模层是应用微粒子涂布液的层，根据需要，可以设为单层或者多层。 在多层的情况下，为了确保应用微粒子涂布液的层与微粒子涂布液充分的润湿性，可以适 宜地选择第2添加剂的直链结构。 第2实施方式是在形成微粒子的周期性图案后，在其上层叠磁记录层的磁记录介 质的制造方法，其特征在于，具备： 在基板上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，形成单层的微粒子层的工序，所述微 粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、 钥、钽和钨、以及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂与第2添加剂的混合物，所 述第1添加剂具有用于提高对基板的润湿性的直链结构、以及选自氨基、羧基、羟基和磺基 中的至少1种的基团，所述第2添加剂具有选自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的基 团以及聚合性官能团； 对该微粒子层应用热能或者光能，使该聚合性官能团反应而使该保护层固化，并 且固着于所述基板上的工序； 通过蚀刻来除去微粒子间的保护层，形成包含微粒子的周期性图案的工序；以及 在所述周期性图案上形成磁记录层的工序。 在第2实施方式中，可得到在单层的微粒子层中各微粒子不凝集地排列的周期性 图案。通过在周期性图案上形成磁记录层，可得到磁性体粒子的尺寸分布本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质的制造方法，其特征在于，具备：在基板上形成磁记录层的工序；在该磁记录层上形成掩模层的工序；在所述掩模层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，在所述掩模层上形成单层的微粒子层的工序，所述微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钼、钽和钨、以及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂与第2添加剂的混合物，所述第1添加剂具有用于提高对所述掩模层的润湿性的直链结构、以及选自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的第1官能团，所述第2添加剂具有选自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的第2官能团以及聚合性官能团；对该微粒子层应用热能或者光能，使该聚合性官能团反应而使该保护层固化，并且固着于所述掩模层上的工序；将包含该微粒子层的周期性图案向所述掩模层转印的工序；将所述周期性图案向所述磁记录层转印的工序；以及从所述磁记录层除去所述掩模层的工序。

【技术特征摘要】
2013.09.10 JP 2013-1874981. 一种磁记录介质的制造方法，其特征在于，具备： 在基板上形成磁记录层的工序； 在该磁记录层上形成掩模层的工序； 在所述掩模层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，在所述掩模层上形成单层的微粒子 层的工序，所述微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、 镍、锌、钇、锆、锡、钥、钽和钨、以及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂与第2添 加剂的混合物，所述第1添加剂具有用于提高对所述掩模层的润湿性的直链结构、以及选 自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的第1官能团，所述第2添加剂具有选自氨基、羧 基、羟基和磺基中的至少1种的第2官能团以及聚合性官能团； 对该微粒子层应用热能或者光能，使该聚合性官能团反应而使该保护层固化，并且固 着于所述掩模层上的工序； 将包含该微粒子层的周期性图案向所述掩模层转印的工序； 将所述周期性图案向所述磁记录层转印的工序；以及 从所述磁记录层除去所述掩模层的工序。2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：在将所述微粒子涂布液涂布到所 述掩模层上的工序之前，将使所述第1添加剂和第2添加剂分散于溶剂中的添加剂混合液， 与使所述微粒子分散于所述溶剂中的微粒子分散液混合，使该第1添加剂的所述第1官能 团与所述微粒子表面反应而附着，调制该微粒子涂布液的工序。3. -种磁记录介质的制造方法，其特征在于，具备： 在基板上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，形成单层的微粒子层的工序，所述微粒子 被保护层被覆，且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钥、钽 和钨、以及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂与第2添加剂的混合物，所述第1 添加剂具有用于提高对该基板的润湿性的直链结构、以及选自氨基、羧基、羟基和磺基中的 至少1种的第1官能团，所述第2添加剂具有选自氨基、羧基、羟基和磺基中的至少1种的 第2官能团以及聚合性官能团； 对该微粒子层应用热能或者光能，使该聚合性官能团反应而使该保护层固化，并且固 着于所述基板上的工序； 通过蚀刻来除去该微粒子间的保护层，形成包含该微粒子的周期性图案的工序；以及 在所述周期性图案上形成磁记录层的工序。4. 根据权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括：在将所述微粒子涂布液涂布到所 述基板上的工序之前，将使所述第1添加剂和第2添加剂分散于溶剂中的添加剂混合液，与 使所述微粒子分散于所述溶剂中的微粒子分散液混合，使该第1添加剂的所述第1官能团 与所述微粒子表面反应而附着，调制该微粒子涂布液的工序。5. -种磁记录介质的制造方法，其特征在于，具备： 在基板上形成基底层的工序； 在所述基底层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，形成单层的微粒子层的工序，所述 微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自铝、硅、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、 锡、钥、钽和钨、以及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂与第2添加剂的混合 物，所述第1添加剂具有用于提高对所述基底层的润湿性的直链结构、以及选自氨基、羧 基、羟基和磺基中的至少1...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村香里，泷泽和孝，藤本明，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：日本;JP