磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法技术

提供一种磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法，在使研磨垫与玻璃衬底的表面接触的同时对玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的研磨液以进行玻璃衬底的镜面研磨时，在将研磨液的pH维持为既定的范围内的状态或控制了研磨液的凝集度或分散度的状态下进行。由此，可维持镜面研磨加工速度，同时可得到具有良好的端部形状的玻璃衬底。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，具有镜面研磨工序，在该镜面研磨工序中，使研磨垫与玻璃衬底的表面接触，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的镜面研磨液，其中上述镜面研磨液中含有的研磨砂粒由胶体状二氧化硅粒子制成，并且上述镜面研磨工序包括：调整镜面研磨液中的上述胶体状二氧化硅粒子的ζ电位，以控制上述研磨液的凝集度或分散度；以及通过使用包括被调整到ζ电位的胶体状二氧化硅粒子的镜面研磨液来进行镜面研磨，直到被定义为表示得到的玻璃衬底的边缘形状的Duboff值在±10nm的范围以内，其中上述镜面研磨液呈酸性；其中上述玻璃衬底含有网眼结构的玻璃骨架和修饰该网眼结构的修饰离子；其中胶体状二氧化硅粒子的粒径不大于80nm；并且其中在上述镜面研磨工序中，隔着上述研磨垫地用上台面和下台面夹住上述玻璃衬底，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的上述镜面研磨液，通过使上述玻璃衬底与上述上台面和上述下台面相对地移动，对上述玻璃衬底的表面进行镜面研磨；该方法还包括在上述镜面研磨工序之前预先研磨上述玻璃衬底的表面的预备研磨工序，在上述预备研磨工序中，使研磨垫与上述玻璃衬底的表面接触，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的预备研磨液，使上述玻璃衬底与上述研磨垫相对地移动以镜面研磨上述玻璃衬底的表面，其中上述预备研磨工序中含有的上述研磨砂粒是与胶体状二氧化硅粒子不同的、粒径不到4μm的氧化铈粒子；其中上述镜面研磨液含有用于使上述镜面研磨液的pH值保持为恒定的缓冲剂；其中当被镜面研磨的玻璃衬底的表面粗糙度的算术平均粗糙度(Ra)小于等于0.3nm并且最大峰值(Rp)小于等于2nm时，结束镜面研磨工序；其中当将从玻璃衬底的中心到端部为止的距离设为100％时，测定在距离玻璃衬底的中心的92.0～96.9％的范围内的、玻璃衬底的主表面中的外周端的区域，从而确定Duboff值，并且其中在镜面研磨工序中镜面研磨液的pH值保持为1到3之间。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：泷泽利雄，舆水智，丸茂吉典，片桐诚宏，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP