信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法技术

一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法，该方法抑制氧化铈磨粒的残留，而且减少主表面的表面粗糙。本发明专利技术涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包括：对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序，其中，紧接在氧化铈抛光工序后，在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后，具有：使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，特别是涉及玻璃基板制造时的清洗工序。
技术介绍
在近年来磁盘高容量化的趋势中，关于玻璃基板存在两大技术课题。一个是高速旋转时的振动特性和强度等机械特性的问题，另一个是残留在玻璃基板上的异物的除去的问题。为了改善高速旋转时的振动特性和强度，需要使用考虑到杨氏模量、比模量、t匕重、热膨胀系数、划伤难易度和断裂韧性等各种特性的适当的玻璃组成的玻璃基板。已知的是，为了达到上述特性，优选含碱铝硅酸盐玻璃，特别是，Al2O3是对改善机械特性有效的成分。·另一方面，作为残留在玻璃基板上的异物，已知基于抛光速率高等理由而优选用于玻璃抛光的氧化铈磨粒容易作为异物残留。例如，在玻璃基板的制造工序中，使用含有氧化铈磨粒的浆料对从玻璃板上切下的玻璃圆板的主表面和端面进行抛光，然后，为了使主表面进一步平坦化而利用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料进行精抛光(最后抛光)。此时，即使主表面上残留有氧化铈磨粒，也会通过精抛光而除去。但是，认为附着在端面上的氧化铈磨粒未被除去而残留，在精抛光后的清洗工序中再次附着到主表面上而作为异物残留在玻璃基板上。基于上述背景，期望在使用氧化铈磨粒的抛光全部结束的阶段将氧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：三代均，田村昌彦，帕里查·提帕阳，宫谷克明，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：
国别省市：