信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法技术

一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法，该方法抑制氧化铈磨粒的残留，而且减少主表面的表面粗糙。本发明专利技术涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包括：对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序，其中，紧接在氧化铈抛光工序后，在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后，具有：使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，特别是涉及玻璃基板制造时的清洗工序。
技术介绍
在近年来磁盘高容量化的趋势中，关于玻璃基板存在两大技术课题。一个是高速旋转时的振动特性和强度等机械特性的问题，另一个是残留在玻璃基板上的异物的除去的问题。为了改善高速旋转时的振动特性和强度，需要使用考虑到杨氏模量、比模量、t匕重、热膨胀系数、划伤难易度和断裂韧性等各种特性的适当的玻璃组成的玻璃基板。已知的是，为了达到上述特性，优选含碱铝硅酸盐玻璃，特别是，Al2O3是对改善机械特性有效的成分。·另一方面，作为残留在玻璃基板上的异物，已知基于抛光速率高等理由而优选用于玻璃抛光的氧化铈磨粒容易作为异物残留。例如，在玻璃基板的制造工序中，使用含有氧化铈磨粒的浆料对从玻璃板上切下的玻璃圆板的主表面和端面进行抛光，然后，为了使主表面进一步平坦化而利用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料进行精抛光(最后抛光)。此时，即使主表面上残留有氧化铈磨粒，也会通过精抛光而除去。但是，认为附着在端面上的氧化铈磨粒未被除去而残留，在精抛光后的清洗工序中再次附着到主表面上而作为异物残留在玻璃基板上。基于上述背景，期望在使用氧化铈磨粒的抛光全部结束的阶段将氧化铈磨粒完全除去。为了应对上述要求，提出了含有无机酸和抗坏血酸的清洗液(例如，参考专利文献I和2)。利用该清洗液,通过无机酸与抗坏血酸的作用将氧化铈磨粒溶解而除去。另外，还提出了在最后工序的清洗中使用以加热后的硫酸作为主要成分的清洗液的技术方案(例如，参考专利文献3)。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2006-99847号公报(权利要求书)专利文献2 :日本特开2004-59419号公报(权利要求书)专利文献3 :日本特开2008-90898号公报(权利要求书)
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是，本专利技术人对上述清洗技术进行了验证，结果确认，利用含有抗坏血酸和无机酸的清洗液进行清洗时，能够减少残留在玻璃圆板的端部的氧化铈磨粒，但有时不能完全将其除去。另外还确认，由于该清洗液的pH低至f 2，因此，应用于由含碱铝硅酸盐玻璃构成的玻璃圆板时，有时会引起较严重的表面粗糙。另一方面，确认到在最后抛光工序后的清洗中使用以加热后的硫酸作为主要成分的清洗液的情况下，基本能够将残留在玻璃基板的端部的氧化铈磨粒完全除去，但有时会引起较严重的表面粗糙。为了修复这种表面粗糙，需要增加抛光量，但抛光量的增加会引起外周部的表面塌边变得显著的质量问题或成本增加的问题。本专利技术鉴于上述问题而完成，其目的在于提供经由使用含有氧化铈磨粒的浆料或固定磨粒等对玻璃圆板进行抛光的氧化铈抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板且能够抑制氧化铈磨粒残留的信息记录介质用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法，所述玻璃圆板典型地由含碱铝硅酸盐玻璃构成但不限于此，也可以为由不含碱的铝硅酸盐玻璃等构成的玻璃圆板。用于解决问题的手段本专利技术人对在玻璃圆板的最后抛光工序后的清洗中使用以加热后的硫Ife作为王 要成分的清洗液时引起较严重的表面粗糙的现象进行了研究，结果发现，附着在玻璃表面上的水分和加热后的硫酸使玻璃表面局部发生浸析，结果在玻璃表面上产生局部的表面粗糖。本专利技术人对抑制上述表面粗糙的方法进行了研究，结果发现，通过在氧化铈抛光工序后利用旋转干燥或异丙醇蒸气干燥(以下称为IPA干燥)等方法将附着在玻璃表面上的水分干燥除去、然后用含有加热后的硫酸和过氧化氢的清洗液进行清洗，能够抑制表面粗糙。此外，本专利技术人还发现，通过在氧化铈抛光工序后用低温的无机酸清洗液进行清洗、然后用含有加热后的硫酸和过氧化氢的清洗液进行清洗，能够抑制上述表面粗糙，并且能够减少氧化铈磨粒在玻璃表面上的残留(以下有时称为氧化铈残渣)。本专利技术人基于上述发现完成了本专利技术。即，本专利技术的主旨如下。I. 一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包括对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序，其中，紧接在氧化铈抛光工序后，在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量％以上、温度为30°C以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后，具有使用硫酸的浓度为55 80质量％、过氧化氢的浓度为f 10质量％、温度为70°C以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(C)。2.如上述I所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，上述干燥工序(a)中，通过旋转干燥或异丙醇蒸气干燥对玻璃圆板进行干燥。3.如上述I所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，上述清洗工序(b)中，上述无机酸为硫酸。4.如上述I或3所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，第一清洗液的硫酸的浓度为98质量％以下。5.如上述I所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，上述清洗工序(b)中，上述无机酸为硝酸。6.如上述I或5所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，第一清洗液的硝酸的浓度为70质量％以下。7.如上述1、3飞中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，上述清洗工序(b)中，将玻璃圆板浸溃在第一清洗液中来清洗玻璃圆板。8.如上述广7中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，上述清洗工序(C)中，将玻璃圆板浸溃在第二清洗液中来清洗玻璃圆板。9.如上述广8中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，在上述清洗工序(C)之后，具有使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。10.如上述9所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，上述胶态二氧化娃磨粒的平均粒径为10 50nm。·11.如上述9或10所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，上述精抛光工序是使用pH为1飞的含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的工序。12.如上述f 11中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，信息记录介质为磁盘。13. 一种磁盘的制造方法，其特征在于，通过上述12所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法制造磁盘用玻璃基板，并在该磁盘用玻璃基板的主表面上形成磁记录层。专利技术效果根据本专利技术，在信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，能够在氧化铈抛光工序后将附着在玻璃表面上的水分干燥除去，或者，能够使用以特定范围的浓度含有无机酸的低温的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗从而将附着在玻璃表面上的水分置换为低温的无机酸清洗液而除去。由此，能够在后续的使用含有加热后的硫酸和过氧化氢的第二清洗液进行清洗的工序中抑制玻璃表面因附着在玻璃表面上的水分和加热后的硫酸而局部发生浸析，从而能够防止玻璃表面上产生局部的表面粗糙。另外，根据本专利技术，通过将第二清洗液中含有的硫酸和过氧化氢的浓度设定在特定范围内并且将第二清洗液的温度设定在特定范围内，能够抑制玻璃表面的表面粗糙，并且能够减少玻璃外周端面上的氧化铈残渣。S卩，根据本专利技术，能够得到即使利用含有氧化铈磨粒的浆料等进行抛光也不存在或几乎不存在氧化铈残渣的信息记录介质用玻璃基板。另外，根据本专利技术，能够得到不存在或几乎不存在由浸析斑(f 7 Λ 9 )弓丨起的主表面的表面粗糙、平坦性也良好并且还能够充分应对今后要求的高记录容量化的磁盘用玻璃基板。附本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：三代均，田村昌彦，帕里查·提帕阳，宫谷克明，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：
国别省市：