滚筒式镀膜设备制造技术

一种滚筒式镀膜设备，于大气压环境下对基材进行镀膜。该镀膜设备包括：承载装置，形成有一收容槽；基座，设置在收容槽底部，用于支撑至少一基材；清洗装置和加热装置，设置在收容槽内并固定在承载装置中部；滚筒装置，设置在清洗装置与加热装置上方，其包括多个并排设置且彼此间隔的滚筒，相邻滚筒间的间距等于基材的厚度；喷液装置，设置在滚筒装置上方并固定于承载装置上，用于为基材提供待镀液；以及驱动装置，与基座连接，用于驱动基座相对收容槽旋转以及上下运动，使得基材在经过该清洗装置清洗之后，于滚筒之间穿过滚筒装置进而由滚筒以及喷液装置进行镀膜，并在完成镀膜之后由该加热装置烘干，从而提高效率且保证镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种滚筒式镀膜设备。
技术介绍
镀膜是指通过物理或化学方法在光学元件表面镀上单层或多层薄膜。光学元件的镀膜制程通常为首先，将光学元件安装于镀膜治具上，镀膜治具设置于一容器中；其次， 密闭容器，对容器抽真空；然后，以蒸镀或溅镀等方法在光学元件需要镀膜的部位进行镀膜；最后，打开容器，将经过镀膜的光学元件从镀膜治具上拆卸下来。也即是说，现有的蒸镀或溅镀的镀膜技术中一般需要在真空条件下进行，如此，不仅设备成本较高，而且当需要更换镀膜材料时，还需重新抽真空，使得镀膜不连续，效率低下且镀膜质量难以保证。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种效率高且能够保证镀膜质量的滚筒式镀膜设备。一种滚筒式镀膜设备，于大气压环境下对待镀膜基材进行镀膜。该滚筒式镀膜设备包括承载装置，形成有一收容槽；基座，设置在该收容槽底部，用于支撑至少一待镀膜基材；清洗装置和加热装置，设置在收容槽内并固定在承载装置中部；滚筒装置，设置在清洗装置与加热装置上方，其包括多个并排设置的滚筒，滚筒之间彼此间隔，相邻滚筒间的间距等于待镀膜基材的厚度；喷液装置，设置在滚筒装置上方并固定于承载装置上，用于为所述待镀膜基材提供待镀液；以及驱动装置，与基座连接，用于驱动该基座相对该收容槽旋转以及上下运动，使得该待镀膜基材在经过该清洗装置清洗之后，于滚筒之间穿过滚筒装置进而由该滚筒以及喷液装置进行镀膜，并在完成镀膜之后由该加热装置烘干。相对于现有技术，本专利技术的滚筒式镀膜设备在大气压环境下对待镀膜基材进行镀膜，镀膜过程无需抽真空及破真空，使得镀膜连续，提高了镀膜效率且能够保证镀膜品质。附图说明 图1是本专利技术较佳实施方式提供的滚筒式镀膜设备的立体分解图。图2是图1的滚筒式镀膜设备另一视角的立体分解图。图3是图1的滚筒式镀膜设备的组装图。图4是图3的滚筒式镀膜设备的一种使用状态示意图。图5是图3的滚筒式镀膜设备的另一种使用状态示意图。图6是图3的滚筒式镀膜设备的又一种使用状态示意图。主要元件符号说明滚筒式镀膜设备100承载装置10收容槽11底面13侧面15顶面17台阶19基座20承载板21插槽23清洗装置30压缩空气气枪31加热装置40控制电路板41电加热元件43滚筒装置50支架51滚筒53滚动马达55喷液装置60喷液端61吸液端63驱动装置70旋转马达71升降马达73升降轴75控制器77通孔115第一开口111第二开口113待镀膜基材200具体实施例方式请参阅图1和图2，为本专利技术较佳实施方式提供的一种滚筒式镀膜设备100，其包括一承载装置10，该承载装置10形成有一收容槽11。该滚筒式镀膜设备100还包括一设置在收容槽11底部的基座20、设置在收容槽11中部的一清洗装置30和一加热装置40、设置在收容槽11顶部的一滚筒装置50、设置在滚筒装置50上方的一喷液装置60、以及一设置在承载装置10底部的驱动装置70。该基座20用于支撑至少一个待镀膜基材200，该驱动装置70驱动该基座20带动该待镀膜基材200在该收容槽11内上下运动，以供该滚筒装置50以及喷液装置60共同对该待镀膜基材200进行镀膜。具体的，该承载装置10包括底面13、两个相对设置的侧面15以及与底面相对的顶面17。该底面13上开设有一个通孔115用于收容部分驱动装置70。该收容槽11大致呈 T型，该收容槽11通过一个形成在顶面17上的第一开口 111以及两个分别形成在侧面15上的第二开口 113与外部连通，第一开口 111与第二开口 113连通。该第二开口 113的边缘形成有对称的台阶19。可以理解，该收容槽11还可以设置为其他形状，如U型或是圆柱形等。该基座20设置在该收容槽11底部，且对正该通孔115。该基座20包括一承载板 21，该承载板21远离底面13的表面上形成有多个插槽23，用于分别收容多个待镀膜基材 200。插槽23彼此间距，相邻插槽23间的距离为第一间距。当该待镀膜基材200插设在承载板21上时，每个待镀膜基材200均大致垂直于承载板21，使得相邻待镀膜基材200之间的距离同样为第一间距。本实施方式中，待镀膜基材200为玻璃板。该清洗装置30固定于承载装置10的侧面15上。具体的，该清洗装置30包括两个压缩空气气枪31，用于对该待镀膜基材200进行喷气清洗。该两个压缩空气气枪31相互对正设置。可以理解，所述压缩空气气枪31可以通过黏胶或者磁铁吸合的方式固定在侧面 15上，所述压缩空气气枪31的气源可以通过气管从承载装置10外侧面通入。该加热装置40于收容槽11的第二开口 113处固定于承载装置10的侧面15上， 且与该清洗装置30大致设置在同一高度。本实施方式中，该加热装置40的数量设置为两个。每个加热装置40包括一控制电路板41以及多个设置在控制电路板41上的电加热元件43。该控制电路板41两端可通过螺钉固定于第二开口 113的边缘上，该电加热元件43 朝向收容槽11内部设置，并能够发射热辐射源。该控制电路板41上具有控制电路(图未示)，该控制电路用于对电加热元件43电源的通断和加热温度的高低进行调节控制。该滚筒装置50设置在清洗装置30与加热装置40上方，且与承载板21大致平行。 该滚筒装置50包括两个相对设置的支架51以及多个并排设置的滚筒53，每个所述支架51 固定设置在该台阶19上，每个滚筒53通过其两端固定在支架51上，滚筒53可相对于支架 51旋转。相邻滚筒53的外表面之间的最小间距为第二间距，该第二间距等于该待镀膜基材 200的厚度。每个滚筒53的直径与第二间距之和大致等于所述第一间距。每个滚筒53与一个滚动马达阳固定连接，该滚动马达阳用于驱动每个滚筒53同时朝同一个方向连续滚动或者朝相反方向来回滚动。可以理解，所述滚动马达阳可以设置在承载板21的内表面或者外表面。该喷液装置60设置在滚筒装置50上方，并固定在承载装置10的第一开口 111相对的边缘上，用于为所述滚筒装置50以及待镀膜基材200提供镀膜材料。具体的，该喷液装置60具有多个与所述滚筒53 —一对应的喷液端61，该喷液端61朝向承载装置10的底部，用于向滚筒装置50以及待镀膜基材200喷洒待镀液。可以理解的是，该多个喷液端61 可以分别喷出一种或多种待镀液，进而可对该待镀膜基材200进行单层或多层镀膜。该喷液装置60还包括多个与喷液端61对应的吸液端63，用于吸入待镀液以提供给喷液端61喷出。当喷液端61需要喷出多种待镀液时，通过控制吸液端63使得不同的待镀液在不同的时间段喷出，以避免不同的液体间相互污染。该驱动装置70与基座20传动连接，用于驱动该基座20上的待镀膜基材200在该收容槽11内旋转以及上下运动，使得待镀膜基材200依次经过该清洗装置30清洗，以及该加热装置40烘干之后，于滚筒53之间卡设在该滚筒装置50上，并继续由驱动装置70驱动而相对该滚筒53来回运动而进行镀膜。具体的，该驱动装置70包括一个旋转马达71以及一个升降马达73，该旋转马达71穿过该通孔115与基座20固定连接，可驱动该基座20来回旋转360度。该升降马达73具有一升降轴75，该升降轴75 —端与旋转马达71活动连接，另一端与升降马达73旋转连接，该升降马达73可驱动该升降轴75 —边旋转一边上下运动。本实本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种滚筒式镀膜设备，于大气压环境下对待镀膜基材进行镀膜，该滚筒式镀膜设备包括：承载装置，形成有一收容槽；基座，设置在该收容槽底部，用于支撑至少一待镀膜基材；清洗装置和加热装置，设置在收容槽内并固定在承载装置中部；滚筒装置，设置在清洗装置与加热装置上方，其包括多个并排设置的滚筒，滚筒之间彼此间隔，相邻滚筒间的间距等于待镀膜基材的厚度；喷液装置，设置在滚筒装置上方并固定于承载装置上，用于为所述待镀膜基材提供待镀液；以及驱动装置，与基座连接，用于驱动该基座相对该收容槽旋转以及上下运动，使得该待镀膜基材在经过该清洗装置清洗之后，于滚筒之间穿过滚筒装置进而由该滚筒以及喷液装置进行镀膜，并在完成镀膜之后由该加热装置烘干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：裴绍凯，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94