一种多晶硅还原装置制造方法及图纸

一种多晶硅还原装置，包括至少两台多晶硅还原炉，所述多晶硅还原炉为多级串联连接，或并联后再多级串联连接，所述多级为至少两级，每级设有至少一台多晶硅还原炉。本实用新型专利技术的有益效果是，1、省略了换热装置和冷凝装置，或大大减少了换热装置和冷凝装置以及尾气分离冷冻回收装置的数量或功率，极大减少了固定资产的投资和对土地的占用，并节约了该部分装置的能量消耗及运行费用。2、热能得到充分利用，节能环保。3、尾气量大大减少。4、原料经过充分反应，产得率提高，产能提高。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种多晶硅的生产设备，尤其是一种用于生产多晶硅的多晶硅还原装直O
技术介绍
随着科技的发展，太阳能光伏产业和半导体工业的发展也越来越迅猛。作为太阳能光伏产业以及半导体工业主要的原料的多晶硅，其工业需求也是越来越大。目前，业界生产多晶硅的方法有多种，其中较为常见的是氢还原法。其是把提纯好的三氯氢硅和净化好的氢气作为原料，通入到反应容器内，在高温、加压环境下，两者在反应容器内发生化学反应，形成多晶硅，并沉积在反应容器内的发热体上。随着化学反应的继续，沉积在发热体上的多晶硅越来越多，逐渐的将发热体全部覆盖，变成一根外表包裹着多晶硅的棒状体，俗称硅棒。反应容器内的化学反应将继续进行，多晶硅也会继续沉积在硅棒上，使得硅棒的直径逐渐加大，直到最后达到预定的直径尺寸，停止反应容器内的化学反应。业界通常使用多晶硅还原炉，作为实施上述化学反应的反应容器。其自身的性能好坏，对其生产的多晶硅的品质有着重大的影响。通常其包括有底座以及与底座连接的炉体，并且一般是多台并联式的还原装置。现有还原装置主要问题是，还原气体在炉内达到还原温度，并进行还原结晶，同时大量的加热气体(SiHC13)伴随高温生成本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种多晶硅还原装置，其特征在于，包括至少两台多晶硅还原炉，所述多晶硅还原炉为多级串联连接，或并联后再多级串联连接，所述多级为至少两级，每级设有至少一台多晶硅还原炉，所述多晶硅还原装置每级的多晶硅还原炉设有的数量逐级减少。

【技术特征摘要】
1.一种多晶硅还原装置，其特征在于，包括至少两台多晶硅还原炉，所述多晶硅还原炉为多级串联连接，或并联后再多级串联连接，所述多级为至少两级，每级设有至少一台多晶硅还原炉，所述多晶硅还原装置每级的多晶硅还原炉设有的数量逐级减少。2.根据权利要求1所述的多晶硅还原装置，其特征在于，所述多晶硅还原装置为4级， 所述第一级并联4台所述多晶硅还原炉，第二级并联3台所述多晶硅还原炉，第三级并联2 台所述多晶硅还原炉，第四级为1台所述多晶硅还原炉，所述第一级4台所述多晶硅还原炉的出气口汇总后分别与所述第二级的3台所述多晶硅还原炉的进气口连通，所述第二级 3台所述多晶硅还原炉的出气口汇总后分别与所述第三级的2台所述多晶硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：王春龙，
申请(专利权)人：王春龙，
类型：实用新型
国别省市：32