自动镀膜装置制造方法及图纸

一种自动镀膜装置，其包括：一机体、一支撑架、一基板、一旋转装置及一翻面装置；所述旋转装置包括一第一驱动装置及一与其相连接的第一传动轴；所述翻面装置包括一第二驱动装置及一与其相连接的第二传动轴；所述第一驱动装置与所述第二驱动装置相邻的固定于机体的顶端，且所述第一传动轴与第二传动轴相互平行；所述支撑架的一端可转动的连接在所述机体上，所述基板可转动的连接在所述支撑架上；所述第一驱动装置驱动第一传动轴带动支撑架在水平方向上旋转，所述第二驱动装置驱动第二传动轴带动基板在竖直方向上转动。本发明专利技术自动镀膜装置可使位于基板上的待镀膜基片一表面镀膜完成后，无需降温、破真空，自动翻面后对另一面进行镀膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种镀膜装置，特别涉及一种自动镀膜装置。
技术介绍
目前，光学薄膜制作以物理蒸镀法为主(Physics Vapor D印osition，简称PVD)，该方法将膜料由固态转化为气态或离子态材料，由蒸发源穿越空间，抵达玻璃表面，膜料抵达玻璃表面后沉积而逐渐形成薄膜(请参见真空镀膜技术的现状及发展，王银川，《现代仪器》，2000年第6期，l-4页)。通常，为使制作的薄膜拥有高纯度，镀膜的制程须于高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜， 一般做法为将基片以超声波洗净机洗净，洗净后再将基片排上夹具，送入镀膜机，开始加热和抽真空。达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，以电子枪方式或电阻式对蒸镀源加热，将镀膜材料变成离子态，蒸镀时间则视层数和程序不同而有长短。镀膜完毕后，待温度冷却后取出。但是现有的真空镀膜设备中， 一次仅能对基片的一面进行单面镀膜，如欲对其进行双面镀膜，则需打开镀膜机，破坏其真空状态；又因基片蒸镀时真空腔内温度极高，故需降温取出，再翻面然后重新置入真空腔内，此时需重新加热和抽真空，这样将增加镀膜的周期且增加抽真空的次数，且无法保持真空室的真空度的参数一致性，由此将使基片的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自动镀膜装置，其特征在于，该自动镀膜装置包括：一机体、一支撑架、一基板、一旋转装置及一翻面装置；所述旋转装置包括一第一驱动装置及一与其相连接的第一传动轴；所述翻面装置包括一第二驱动装置及一与其相连接的第二传动轴；所述第一驱动装置与所述第二驱动装置相邻的固定于机体的顶端，且所述第一传动轴与第二传动轴相互平行；所述支撑架的一端可转动的连接在所述机体上，所述基板可转动的连接在所述支撑架上；所述第一驱动装置驱动第一传动轴带动支撑架在水平方向上旋转，所述第二驱动装置驱动第二传动轴带动基板在竖直方向上转动。

【技术特征摘要】
1.一种自动镀膜装置，其特征在于，该自动镀膜装置包括一机体、一支撑架、一基板、一旋转装置及一翻面装置；所述旋转装置包括一第一驱动装置及一与其相连接的第一传动轴；所述翻面装置包括一第二驱动装置及一与其相连接的第二传动轴；所述第一驱动装置与所述第二驱动装置相邻的固定于机体的顶端，且所述第一传动轴与第二传动轴相互平行；所述支撑架的一端可转动的连接在所述机体上，所述基板可转动的连接在所述支撑架上；所述第一驱动装置驱动第一传动轴带动支撑架在水平方向上旋转，所述第二驱动装置驱动第二传动轴带动基板在竖直方向上转动。2.如权利要求l所述的自动镀膜装置，其特征在于所述旋转装置， 其还包括 一旋转驱动齿轮、 一轴承、 一旋转从动齿轮及一固定杆，所述旋转驱动齿轮与固定于第一驱动装置的第一传动轴的另一端相连接，该旋转驱动齿轮与固定在...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴佳颖，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]