一种倒装焊接的LED芯片结构制造技术

技术编号:5059627 阅读:354 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供一种倒装焊接的LED芯片结构,包括基板和欧姆接触层,其中:所述的欧姆接触层的厚度为:5100±200A。该欧姆接触层上设置有一反光镜结构。本实用新型专利技术通过在欧姆接触层上设置一反光镜,光从正面发出,提高了芯片的出光率,同时,将欧姆接触层的厚度增加到的厚度,以利增加其电流扩散的作用,提高芯片的可靠性。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及发光二极管芯片
,尤其是涉及一种倒装焊接的LED芯片结构。
技术介绍
AlGalnN基二极管外延片一般是生长在绝缘的蓝宝石衬底上,欧姆接触的P电极和N电极只能制备在外延表面的同一侧,正面射出的光部分将被接触电极所吸收和键合引线遮挡。造成光吸收更主要的因素是P型GaN层电导率较低,为满足电流扩展的要求,覆盖于外延层表面大部分的ITO欧姆接触层的厚度应大于5-10nm,但是要使光吸收最小,则ITO欧姆接触层的厚度必须非常薄,这样在透光率和扩展电阻率二者之间则要给以适当的折衷,折衷设计的结果必定使其功率转换的提高受到了限制。反射层的制备将改变光的传输路径经由N基面从蓝宝石一方透射出来,此法进一步提升芯片的出光效率,外量子效率达21 % ,功率换效率达20 % (200mA, 455nm),最大功率达到400mW (驱动电流1A, 455nm,芯片尺寸lmmxlmm),其总体发光效率比正装增加1. 6倍左右。 AlGalnN基二极管外延片所用的衬底为蓝宝石,它的导热性能较差,为了更有效的散热和降低结温,另外用激光技术将2英寸HVPE(氢化物气相外延)GaN与蓝宝石剥离,用S本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种倒装焊接的LED芯片结构,包括基板和欧姆接触层,其特征在于:所述的欧姆接触层的厚度为:5100±200A,该欧姆接触层上设置有一反光镜结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张坤汪高旭吴大可朱国雄
申请(专利权)人:世纪晶源科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:94[中国|深圳]

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