真空喷涂用于磁记录介质的润滑剂制造技术

制造磁记录介质的处理设备，其包括腔室，微给料阀，其可打开的最小时间小于几微秒，并可在每次该微给料阀打开时，发放一微升或者更少量的液体，其中该包含润滑剂以及不同于该润滑剂的溶剂的液体通过该微给料阀发放。

【技术实现步骤摘要】
真空i5S^用于磁记录介质的润滑剂絲领域本专利技术涉及葡膽磁iB^介质的^a设备，以及制作磁记录介质的皿。 背景絲具有可磁化媒介的鹏棚于駄多数iti^係统的繊存储。当前的磁 硬盘驱动器通过在磁盘表面.匕方仅几纳米，而棘相当高，典型地为每秒録 的i^写^JM乍。由于货-写头顿作期间可能繊鹏表面，一润滑剂层被覆盖 在磁盘表而，以^>磨损和 。阁i示出了盘记录介质以及盘的ii^面，示出了纵向和垂直记录的不同。尽符图1仅示出了一HM盘的--面，磁记录层仍被嘛^R在图1的非磁铝质基 底的每个面上。并且，尽管图1示出的为铝质基底，其它实施例也可以包括由 玻璃、玻难陶瓷、Nip/铝、金属合金、塑料/聚^M料、陶瓷、玻璃聚，、合3^r料mm其他^[^性材料制作的基底。通常地，润滑剂通鹏包创写滑剂的溶液中浸渍盘Mffl在盘表面。该溶液典型地包括润滑剂和用以提高润滑剂涂覆特性的涂覆溶剂，该^腿常为粘 性油。盘l^^溶液中移除时，溶剂可以蒸发，从而皿表面留下润滑剂层。硬盘上的润滑Jlil过防止碳覆层的磨损，为下面的磁性合金,保护。此 外，它与M^-—起作用，微其下的磁性合金免魏蚀。在气相润滑剂处理中，气相润滑齐UM:在真空中将该润滑剂加热到 -定温 皮ifu'产生，然后气相润滑剂被凝结到具有碳覆层的盘上。沉积率由液态润滑剂 加热《/变控制。与传统的浸渍覆层润滑剂处理相比，M 润滑剂蒸发获得的 气相润滑剂具有--定的优点，例如处理无需溶剂，均—的润滑剂厚度，不具有 没溃润滑剂处理的润滑剂特点等等。然而，现有的气相润滑剂处理存在--错 点。由丁与前使用的润滑剂为具有--定W量(MW)分布(聚合分謝旨l^1)的全氟聚醚(PFPEs)，因此更低MW的组分将率先蒸发。为维持固定的沉积率， 润滑剂加^JS^^的很缓厦。结果，与浸銜润滑剂鹏的固定MW分布相3比，？^只^J:的润滑剂MW逐渐由低到高变化。由于润滑剂MW影响润滑剂 性能，例如粘度、表面流动性、润滑剂粘着性等，这将由于被制造中的润滑 剂^MHDI性能的变动。形卜，为，期望的可靠性自，两种^E多种 不同的具有一定比率的润滑剂被凃覆到盘表面。由于不同类型的润滑剂具有不 同的蒸m力，使得这在当前的蒸汽润滑剂系统中难以实现。因此，高度期望 获得固定的MW分布，以M的^中采用多组分润滑剂。
技术实现思路
本专利技术涉及一种OTm^料阀雾化力法在存储介质上沉积润滑剂薄膜的设 备和施。本专利技术涉及一种处S31程和裝置，用于^顿高速^^料阀的^^料阀雾化， 在存储介质上沉积润滑剂薄膜，从而制造出具有一润滑剂层的存储介质表面， 该润滑剂层在整个润滑剂层具有均--的润滑剂组成。本专利技术的一个实施例涉及 种制造磁记录介质的处理设备，包括腔室，微给料阀，其可打开的最小时间 小于0.3微秒，并在每次该微给料阀打开时，放出约100纳升到约500微升的液附图说明M参考与附图一起的详细说明，本专利技术将更容易理解，其中图1示出了 —种敏IB^介质。图2示出了制5t磁i凍介质的在线，方法-。图3示出了4顿m^料阀，在存储介质表面沉积润滑剂薄膜的示意图。 图4示出了^E冲时间5秒、0.005重量百分比(wt%) Zdol-TX的Vertel XF 溶液的空喷雾后， 95mm盘农面的HDI表面扫描。具体实施例方式本专利技术涉及—种使用润滑剂覆盖基底，特别是记录介质(记录盘)的力、法， 此处润滑剂同时也特撤萄滑油(lube)。润滑剂典型地包含^f量从儿百道尔顿 (Dalton)到几Tii^顿的组分。提高介质im蚀性的途，经一是蒸^^l滑剂处理，在真空^^牛下，紧接着 碳！M沉^t后，润滑剂败沉积在介质上。该途^s于这样的构想，如果介质 在暴露至伏气环境之前^^滑剂微，贝鹏皿可以延缓。,'王]滑剂，过程包括全氟聚醚(PFPE)润滑剂在介质表面的^MR。在iM^中，提高的,下PFPE润滑剂的蒸发，润滑剂被^n化。^:明M^间，专利技术人意识到了一些与热蒸^s有关的问题。首先，热蒸发繊于润滑剂的肝量。低肝*^滑剂針具有更髙的蒸 汽压，比更高^量的润滑剂蒸发得更快。该蒸^i率的差异导致^fR在介质 上润滑剂的润滑剂^ 量在，时间内^变化。而且，恒定沉禾i^^l^:现 很难维持，而蒸发^jg也必须随着处理时间持续上升。船卜，由于润滑剂溶液维持在JI高的,，润滑剂的热,可能在一个时间敬i:^生。其次，多组分润滑剂系统的热蒸发润滑^:现很困难。现今，润滑剂添加剂，例如二(l氟苯竊)-四(3-三氟甲基^S)环三聚磷Ji(cyclotriphosphazene) (X1P)， MT、朋以提高薄膜介质的摩擦学性能。这样的多组分系统将需要多个 蒸汽润滑剂站，用于依次沉积润滑剂和添加剂。然而，每个组分层的厚度纟 控制。制造磁记录介质的在线处理在图2中示意im^出。介质基底^Jra热器向于品种层沉积站连^移动，从而在介质基底上形成子晶种层。然后，介质基底移动到品种层站以沉积晶种层，典型地为NiAl。子晶种层和晶种层沉积之后， 介质基底IKi^M皿层沉积站，&1^1^^层。然后该介质被i^l到磁ttM 沉积站，然后是保护性碳觀繊站。最后，该介质被ii^M过润滑剂薄鹏 积站。几乎所有盘介质的制皿程tPS5尘室中进行，其中^fe的M^f^非常低，并^T-,制和监测。纟^l^多道一隨性基底的清洁处a^，该基 底具有了一个超洁净的表面， 备在基底上进行磁性介质层的沉积。这样的介质所需的沉积所有层的装置可以是一静态溅射系统或者一掠过式(paa^by)系 统，Jl:屮除润滑剂外的所有层者赃统的真空环境屮连^h:积。本专利技术中组/^M记录介质的每层，除碳覆层和润滑齐IJT贞层外，都可以， 仔舸的物理蒸，积5^ (PVD)，例如mij、真空蒸发等进fr沉积或以其它方 式形成，其中跑为,。碳顧典型ilk^ffl^^Kf只或者离子束沉积。舰将介质在包^^f滑剂组分溶液^^液中浸渍，紧接^M:例如^移除多余的液体，^M:真空环鴻中的^;态润滑齐W 法，润滑剂层典型ityi^为顶层。TO也许是制^ia录介质的irMl^中SS要的步骤。 有两沐掠过式^f和静态^f。在^iiTO中，盘被糊到一真空腔室中，在其中盘移动时，用磁性和一隨性材料进疔游只，^^材^S基底上^^成^或多个层。静态W^HOT更小的机器，*盘被#^拾取和,，此0tt并不移动。本专利技术实施例中盘的各层都MM^^f机的静^iiit^只。,层在称为炸弹的东西中^R， 炸弹被^AJW机。炸弹是鄉嘟具有耙的真鄉室。基底IW^A炸弹^CT鹏才綱只。作为盘的顶层之一， 一润滑剂M^MOT于a^面;^。鹏在M后的盘上导致一^^粒构造。这^^立需魏移除，以确保它们不造》M^(head)和基底之间的刮伤。 一旦润滑剂层皿用，基底，入到抛光阶段，其中基底被研磨，此时它雌地围绕一轴旋转。盘鹏拭，并且洁净的润滑剂被平均ife/^于表面上。紧接着，在有的情况下，盘W31H賊处舰彻J备和质量测试。首先，--抛光头通过表面，移除仿可突起(微凸体，技7lt^语)。然后滑动头经过盘，检杏剩余突起，如果冇的话。最后确认头检査表面的制造缺陷，同时测量盘的磁记录能力。本专利技术涉及润滑剂和润滑剂添加剂在薄膜介质上的蒸n^积。如图3 ;f^，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制作磁记录介质的方法，包括：　在腔室中放置磁记录介质；　通过微给料阀向腔室中提供液体，其中该液体包含润滑剂和溶剂；　将腔室中的压力维持在低于该液体的蒸汽压，以便将至少一部分液体雾化成液滴，该液滴悬浮在腔室中的气体里；　 　通过液滴将润滑剂沉积在磁记录介质的表面上。

【技术特征摘要】
US 2008-7-11 12/171,7101、一种制作磁记录介质的方法，包括在腔室中放置磁记录介质；通过微给料阀向腔室中提供液体，其中该液体包含润滑剂和溶剂；将腔室中的压力维持在低于该液体的蒸汽压，以便将至少一部分液体雾化成液滴，该液滴悬浮在腔室中的气体里；通过液滴将润滑剂沉积在磁记录介质的表面上。2、 如权利要求1所述的方法，其中iT^^料阀打开时间小于0.3微秒，并 且，当打开时，放出约賜纳升到约500微升的液体。3、 如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：X马，MJ施蒂纳曼，杨季平，桂靖，
申请(专利权)人：希捷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：US[]