【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁记录介质用玻璃基板的制造方法和磁记录介质用玻璃基板。
技术介绍
近年,在磁记录介质、尤其是磁盘存储器中，正在推进快速的高记录密度。磁盘存储器是通过使磁头略微露出到高速旋转的记录介质(磁盘)上进行扫描而实现随机存取，为了兼具高记录密度和高速存取，希望降低磁盘和磁头的间隔(磁头露出量)以及提高磁盘的转数。目前主流的磁盘基材是在铝(Al)上镀了镍磷(Ni-P)的基板，但正越来越发展为使用即使在高刚性下高速旋转也不易变形、表面平滑性高的玻璃基板。 此外，随着磁盘存储器的高记录密度，对磁记录介质用玻璃基板的要求特性正逐年变严。尤其，为了实现高记录密度，降低玻璃基板表面的异物和缺陷、提高平滑性是很重要的。通常，为了制造磁记录介质用玻璃基板，从板状玻璃等原材料中切出圆盘形状的素板，在中央部形成圆形贯通孔后，对构成贯通孔内壁的内周侧面的角部和构成外周的外周侧面的角部进行倒角加工，接着，进行玻璃基板的内周和外周侧面以及倒角部的研磨(端面研磨)。然后，磨削方向相对的I对主平面，使玻璃基板的板厚和平坦度达到要求，研磨两个主平面后，经过清洗工序等，得到磁记录介质用玻璃基...
【技术保护点】
磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有将玻璃素板加工成中央部具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板的赋形工序、研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序和上述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，上述主平面研磨工序具有以5μm以上的研磨量研磨上述玻璃基板的两个主平面的粗研磨工序，上述粗研磨工序中，使用内部含有气泡、在研磨面开口的上述气泡的平均直径为80～300μm、且具有1.1～2.5%的压缩率的研磨垫和含有研磨粒的研磨液研磨上述玻璃基板的主平面。
【技术特征摘要】
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