研磨浆料及其研磨方法技术

本发明专利技术提供能够高效且高表面精度地对难以研磨处理的碳化硅进行研磨处理的研磨技术。本发明专利技术涉及一种用于研磨基材的研磨浆料，其特征在于，研磨粒子以氧化锰为主成分，研磨粒子的含量相对于研磨浆料不足10重量%。本发明专利技术的研磨浆料优选pH为7以上，特别优选使用二氧化锰作为研磨粒子。此外，本发明专利技术的研磨浆料是适用于碳化硅基材的研磨浆料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及以氧化锰为主成分的，特别涉及在研磨碳化硅时较合适的研磨浆料。
技术介绍
近年来，研磨处理多用作为各种电子和电气产品等的构成材料的表面加工的方法。所述研磨处理中，通过分散在水性溶液中的研磨粒子，即通过研磨浆料研磨作为研磨对象的基材等的表面。已知所述研磨处理时的研磨量依赖于研磨粒子的浓度。研磨处理中，如果研磨粒子过多，则研磨粒子和研磨对象表面的接触频率变高，因此研磨粒子从研磨对象表面剥取被研磨物的量增加，研磨速度提高。控制研磨粒子浓度的 所述研磨处理被用于使用氧化硅(Si02)、氧化铝(Al2O3)等研磨粒子的研磨浆料。这些研磨浆料中，使研磨粒子的浓度即研磨浆料浓度为10重量％ 20重量％进行研磨处理是已知的技术常识。此外，例如有人提出，在使用氧化锰作为研磨粒子的研磨处理中，也使研磨浆料浓度为10重量％ 20重量％ (参照专利文献I、专利文献2)。但是，近年来，碳化硅(SiC)作为电力电子半导体和白色LED的基板材料受到瞩目，但是该氮化硅硬度非常高，已知是一种难切削材料。因此，使用具有优异的研磨特性的氧化硅研磨粒子进行碳化硅的研磨处理，虽然研磨处理的表面的表面精度高，但研本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：山口靖英，堀内干正，
申请(专利权)人：三井金属矿业株式会社，
类型：
国别省市：