用于图案化介质的电沉积的钝化涂层制造技术

技术编号:4006877 阅读:149 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
描述了一种制造图案化的磁记录盘的方法。所述方法可以包括将保护层电沉积在该盘的磁记录层上。

【技术实现步骤摘要】

在此所描述的实施例涉及图案化介质领域,具体地说,涉及图案介质的电沉积钝 化。
技术介绍
图案化介质对硬盘的摩擦学性能构成了独特挑战,因为典型的制造工艺可能包含 在磁介质层中产生地形(例如槽)。非平坦的介质表面可能在磁头运转和腐蚀两方面对盘 驱动器的性能产生负面的影响。在常规的硬盘介质中,磁头在非常平滑的表面和磁层上方 运转,所述磁层是合成金属膜,其被薄的类金刚石(DLC)膜覆盖以防止腐蚀。在图案化介质 中,典型地也需要DLC膜来覆盖磁层,但是磁层中地形的存在可能导致较差的等角覆盖(例 如槽的侧壁和拐角),这导致抗腐蚀性能不足。在图案化介质的传统制造工艺中,将DLC膜应用到分离磁道记录(DTR)盘(也称 为分离磁道介质(DTM))的图案特征部件。一种类型的DTM结构使用同心分离环带的图案用 于记录介质。当向记录介质写数据时,分离磁区域对应于数据磁道。不包含磁材料的衬底 表面区域将数据磁道互相隔离。分离磁环带(也称为斜坡、凸起、高地等)用于存储数据, 非磁环带(也称为沟、谷、槽等)提供磁道间隔离以减小噪声。凸起具有小于记录磁头的宽 度,使得在工作期间磁头的部分在沟上方延伸。凸起与磁头足本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造磁记录盘的方法,包括:提供磁记录层,其具有在其上形成的凸起区域和凹进区域的图案;在所述磁记录层的所述凸起区域上提供掩模层;将第一保护层电沉积在所述磁记录层上;除去所述掩模层;以及在所述第一保护层上方沉积第二保护层。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:A霍莫拉C张PC多尔西D特雷夫
申请(专利权)人:西部数据传媒公司
类型:发明
国别省市:US

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