基板清洗机台与基板清洗方法技术

一种基板清洗机台，包括一第一支持件、一第二支持件、一连续织物以及一喷嘴。第一支持件与第二支持件分别设置在一基板的一行进路径上，且基板适于沿行进路径依序通过第一支持件与第二支持件上方。连续织物适于沿着一进给方向前进，且进给方向与基板的一移动方向相反。第一支持件以及第二支持件承靠连续织物，以分别在行进路径上形成一第一清洁区以及一第二清洁区。喷嘴适于喷洒一清洗液于第一清洁区的连续织物上。本发明专利技术亦提出一种基板清洗方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种清洗机台与清洗方法，且特别是有关于一种基板清洗机台与 基板清洗方法。
技术介绍
由于平面显示技术的突飞猛进，其应用逐渐从计算机用屏幕延伸至家用电视。就 薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)制程而言，清洗步骤经常连接于镀膜、光刻及蚀刻等步 骤之前、中、后等时机，用以维持显示器基板在生产过程中的表面洁净度。基板表面的清洗方式包括化学性及物理性的清洗方式。举例而言，利用转动中的 毛刷轮表面的纤毛来刷洗(scrub)基板表面以达到清洗目的者属于物理性的清洗方式。而 目前用于清洗基板表面的湿式清洗设备多是先利用纯水对基板表面进行喷洗后，再使用接 触式抛洗对基板表面清洗，之后再利用风刀气体之类的方式将基板表面上的残留液体吹 干。然而采用上述传统的清洗方式对已形成有膜层的基板表面上进行清洗的洁净效 果以现有产品在生产上的不良率约占 1. 5%。也就是说，采用上述的清洗方式对基板 进行清洗制程时容易在清洗的过程中对基板上已形成的膜层造成损伤，进而造成产品的不 良率的增加。
技术实现思路
本专利技术提供一种基板清洗机台，其可在保护基板表面不受损伤的情况下，仍可有 效清除基板上的微粒与脏污而达到较佳的清洗效果。本专利技术另提供一种基板清洗方法，其适用于上述的机台并具有上述的优点。本专利技术提出一种基板清洗机台，其包括第一支持件、第二支持件、连续织物以及喷 嘴。第一支持件与第二支持件分别设置在基板的行进路径上，且基板适于沿行进路径依序 通过第一支持件与第二支持件上方。连续织物适于沿着进给方向前进，且进给方向与基板 的移动方向相反。第一支持件以及第二支持件承靠连续织物，以分别在行进路径上形成第 一清洁区以及第二清洁区。喷嘴适于喷洒清洗液于第一清洁区的连续织物上。在本专利技术的一实施例中，上述的清洗液包括有机溶剂。在本专利技术的一实施例中，上述的第一支持件或第二支持件包括滚柱。在本专利技术的一实施例中，上述的连续织物包括无尘布。在本专利技术的一实施例中，上述的基板清洗机台更包括第一静电消除装置，其设置 于行进路径上且位于第一支持件之前。在本专利技术的一实施例中，上述的基板清洗机台更包 括接触式除尘装置，其设置于行进路径上且位于第一静电消除装置与第一支持件之间。在本专利技术的一实施例中，上述的基板清洗机台更包括清洁黏轮(Duster Roller), 其设置于行进路径上，且位于第二支持件之后。在本专利技术的一实施例中，上述的基板清洗机 台更包括第二静电消除装置，设置于行进路径上且位于清洁黏轮之后。在本专利技术的一实施例中，上述的基板清洗机台更包括取料装置，其设置于行进路 径的起始位置，用以获取基板。本专利技术另提出一种基板清洗方法，其适用于基板清洗机台，以清洗基板，其中基板 清洗机台包括设置在基板的行进路径上的第一支持件、第二支持件以及连续织物。连续织 物被第一支持件以及第二支持件承靠，以分别在行进路径上形成第一清洁区以及第二清洁 区。基板清洗方法包括下列步骤。首先，喷洒清洗液于第一清洁区的连续织物上。然后， 使基板沿行进路径依序通过第一清洁区与第二清洁区，同时使连续织物沿着一进给方向前 进，其中进给方向与基板的移动方向相反。 在本专利技术的一实施例中，上述的方法更包括清洁黏轮步骤于行进路径上，在基板 通过第二清洁区清洗之后，通过清洁黏轮步骤来清洁基板。在本专利技术的一实施例中，上述的方法更包括第二静电消除步骤于行进路径上，在 基板进入第一清洁区清洗之前，对基板进行第二静电消除步骤。在本专利技术的一实施例中，上述的方法更包括第一静电消除步骤于行进路径上，在 基板进入第一清洁区清洗之前，对基板进行第一静电消除步骤。在本专利技术的一实施例中，上述的方法更包括接触式除尘步骤于行进路径上，在基 板进行第一静电消除步骤之后并且在基板进入第一清洁区清洗之前，对基板进行接触式除 尘步骤。基于上述，本专利技术的基板清洗机台通过使基板依序通过第一清洁区及第二清洁 区，因此位于第一清洁区上的连续织物与位于第二清洁区上的连续织物便可依序对基板的 表面进行清洗。其中，喷嘴会喷洒清洗液于第一清洁区的连续织物上，因此基板在依序通过 第一清洁区及第二清洁区之后可在保护基板表面不受损伤的情况下，而仍可有效清除基板 上的微粒与脏污而达到较佳的除尘效果。尤其应用在清洗具有裸露电极或特殊膜层的基板 上更是具有较佳的清洗及除尘表现。另外，本专利技术亦提供一种用于上述基板清洗机台的基板清洗方法，其可对基板进 行清洗制程，以使基板在进行清洗制程的过程中可避免基板的表面受到损伤并同时达到较 佳的除尘效果。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式 作详细说明如下。附图说明图1为本专利技术一实施例的基板清洗机台的示意图。图2为图1的基板清洗机台的局部示意图。图3为一种适用于图1的清洗机台的基板清洗方法的步骤流程图。主要组件符号说明100 基板清洗机台102 取料装置110:第一支持件120 第二支持件130 连续织物140:喷嘴142 清洗液150 基板160 清洁黏轮170 第二静电消除装置 180 第一静电消除装置190 接触式除尘装置Cl 第一清洁区C2 第二清洁区Dl 进给方向D2:移动方向Pl 行进路径S301 S307 步骤具体实施方式图1为本专利技术一实施例的基板清洗机台的示意图，图2为图1的基板清洗机台的 局部示意图，而图3为一种适用于图1的清洗机台的基板清洗方法的步骤流程图。请先同 时参考图1与图2，本实施例的基板清洗机台100包括第一支持件110、第二支持件120、连 续织物130以及喷嘴140。第一支持件110与第二支持件120分别设置在基板150的行进 路径Pl上，且基板150适于沿行进路径Pl依序通过第一支持件110与第二支持件120上 方。在本实施例中，第一支持件110与第二支持件120是以滚柱作为举例说明，但不限于 此。此外，本实施例的第一支持件110的数量是以至少两个作为举例说明，如图1与图2所 示。另外，本实施例的基板150可以是玻璃基板、主动组件数组基板、或是其它适当基板，其 中本实施例是以具有裸露电极的基板进行清洗作为举例说明。请继续参考图1与图2，连续织物130适于沿着进给方向Dl前进，且进给方向Dl 与基板150的移动方向D2相反。第一支持件110以及第二支持件120承靠连续织物130， 以分别在行进路径Pl上形成第一清洁区Cl以及第二清洁区C2，如图2所示。另外，喷嘴 140适于喷洒清洗液142于第一清洁区Cl的连续织物130上。在本实施例中，连续织物130 是以无尘布作为举例说明，而清洗液142则可以是一种有机溶剂，其中有机溶剂可以是酒 精或丙酮。详细而言，当基板150于行进路径Pl往移动方向D2进行移动时，基板150会依序 通过第一清洁区Cl及第二清洁区C2，其中由于喷嘴140会喷洒如酒精或丙酮的类的清洗 液142于位于第一清洁区Cl的连续织物130上，因此当基板150通过第一清洁区Cl时，位 于第一清洁区上的连续织物130便可清洁基板150表面上具有粘性的残胶或是黏附在基板 150表面上的异物。也就是说，当基板150在通过第一清洁区Cl时，基板清洗机台100可以 湿式清洁的方式先对基板150的表面进行清洁。另外，当基板150通过第一清洁区Cl后本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗机台，包括：一第一支持件以及一第二支持件，分别设置在一基板的一行进路径上，且该基板适于沿该行进路径依序通过该第一支持件与该第二支持件上方；一连续织物，适于沿着一进给方向前进，该进给方向与该基板的一移动方向相反，且该第一支持件以及该第二支持件承靠该连续织物，以分别在该行进路径上形成一第一清洁区以及一第二清洁区；以及一喷嘴，适于喷洒一清洗液于该第一清洁区的该连续织物上。

【技术特征摘要】
一种基板清洗机台，包括一第一支持件以及一第二支持件，分别设置在一基板的一行进路径上，且该基板适于沿该行进路径依序通过该第一支持件与该第二支持件上方；一连续织物，适于沿着一进给方向前进，该进给方向与该基板的一移动方向相反，且该第一支持件以及该第二支持件承靠该连续织物，以分别在该行进路径上形成一第一清洁区以及一第二清洁区；以及一喷嘴，适于喷洒一清洗液于该第一清洁区的该连续织物上。2.根据权利要求1所述的基板清洗机台，其特征在于，该清洗液包括有机溶剂。3.根据权利要求1所述的基板清洗机台，其特征在于，该第一支持件或第二支持件包 括滚柱。4.根据权利要求1所述的基板清洗机台，其特征在于，该连续织物包括无尘布。5.根据权利要求1所述的基板清洗机台，其特征在于，更包括一清洁黏轮(Duster Roller)，设置于该行进路径上，且位于该第二支持件之后。6.根据权利要求1所述的基板清洗机台，其特征在于，更包括一第一静电消除装置，设 置于该行进路径上，且位于该第一支持件之前。7.根据权利要求6所述的基板清洗机台，其特征在于，更包括一接触式除尘装置，设置 于该行进路径上，且位于该第一静电消除装置与该第一支持件之间。8.根据权利要求5所述的基板清洗机台，其特征在于，更包括一第二静电消除装置，设 置于该行进路径上，且位于该清洁黏轮之后。9.根据权利要求1所述的基板清洗机台，其特征在于，更包括一取料装置，设置于该...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖志明，邵明良，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]