【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于稀土产品制备领域，特别涉及。
技术介绍
稀土抛光粉作为一种新型研磨材料，被广泛用作玻璃材料等的研磨，如水晶工艺 品、水钻、光盘、磁盘、LCD、HD用的玻璃基板等。在使用研磨材料的各个领域，对研磨材料的 要求越来越高，包括它的性能、价格。尤其在水晶工艺品、手表、电子元件等的抛光，它们大 多以手工抛为主。要求研磨速度越来越快，并减小研磨面的损伤。目前，抛光粉制作大概有 干法和湿法两种工艺。干法是直接将稀土矿粉碎、煅烧、氟化、球磨；湿法是将稀土矿经硫酸 焙烧、水浸、有机溶剂萃取制得的氯化稀土溶液经合成、煅烧、湿法分级。原料组成主要以氧 化铈Ce02、氧化镧La2O3、氧化镨Pr60n、氧化钕Nd2O3为主。近年来由于稀土矿源的紧缺，氧 化镨、氧化钕的价格不断盘升。用镧、铈、镨、钕为原料制作抛光粉越来越困难。基于这种情 况，专利技术了以市场上充足镧、铈为原料的稀土抛光粉。并保证了它的研磨速度快和更高研磨 面精度的稀土抛光粉，降低了研磨材料成本，有效利用了稀土资源。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种以镧、铈为原料制造研磨速度更高，损伤发生更少的稀 土抛...
【技术保护点】
一种稀土抛光粉，其特征在于：稀土抛光粉的稀土总量ＴＲＥＯ中，氧化铈ＣｅＯ↓［２］含量的比例占７３－８０％，氧化镧Ｌａ↓［２］Ｏ↓［３］含量的比例占２０－２５％，氧化镨Ｐｒ↓［６］Ｏ↓［１１］含量比例１％；氧化钕Ｎｄ↓［２］Ｏ↓［３］含量比例０．２％。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：任立华，杨文浩，高国勤，于越勤，
申请(专利权)人：甘肃稀土新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：62
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