The invention relates to a polishing powder and a preparation method thereof, in particular to a rare earth polishing powder and a preparation method thereof. The rare earth polishing powder of the present invention is lanthanum lanthanum oxide, cerium oxide, which accounts for 60 - 80wt% of the total mass of the polishing powder, accounts for the total mass of polishing powder, which is about 3 - 5wt%, and the other is lanthanum oxide. The present invention by crushing, ball milling, spray drying, shaping and curing hardness after two times of particles, prepared by polishing powder particle size distribution D50 distribution in 1 - 1.2 m D90, distributed in 2 + 0.2 m, D100 less than 4.5 m, with small particle size and narrow particle size distribution interval, uniform size, good suspension stability and high precision polishing application characteristics. To avoid the presence of large particles in the polishing process on the glass surface scratch. It has a good application prospect in all kinds of glass materials.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及抛光粉及其制备方法,特别是涉及一种稀土抛光粉及其制备方法。
技术介绍
目前,手机、平板电脑及液晶显示等电子产品的玻璃盖板均需要通过化学机械抛光加工过程实现表面平整化,同时提高表面光洁度。随着电子产品品质的不断升级,特别是ITO玻璃的广泛应用,对玻璃表面的平坦化和光洁度要求也逐步提高,这就对玻璃表面抛光提出了更高的技术要求。工业玻璃抛光整体装置主要由工件承载器、置放抛光垫的平台和浆料供给器三部分结合而成。在对玻璃材料进行化学机械抛光时,工件在承载器的带动下进行旋转,压头以一定的压力作用下同样进行旋转着的抛光垫上,由磨料和化学溶液组成的抛光浆料在工件和抛光垫两者之间流动。此时,由于浆料中的化学物质以及磨料与工件表面产生水解或腐蚀等化学反应,在工件表面形成一层易除去的氧化膜。之后用浆料中的磨料和抛光垫的机械作用将这层膜清除,并随抛光浆料流走,使得工件裸露出新的表面。此后又经历抛光浆料的化学腐蚀和机械作用,重新被去除。循环进行上述的抛光浆料对工件的化学机械作用,就完成了对工件的化学机械抛光。抛光效率主要由磨料的抛光活性和精度所决定,富铈稀土抛光粉是目前工业上玻璃抛光加工过程中应用最为广泛的抛光磨料。富铈稀土抛光粉对玻璃材料的抛光特性主要决定于其自身的化学活性和抛光过程中的机械研磨作用,通过合适的合成条件制备的富铈稀土抛光粉,所含的氧化铈对氧化硅具有高的化学抛光活性,同时存在于抛光粉中的混合稀土氧化物如氟氧化镧铈则具有较高的颗粒硬度,保证了在抛光过程中机械研磨作用下,抛光粉颗粒粒度的稳定性,从而提高的抛光粉的循 ...
【技术保护点】
一种稀土抛光粉,其特征在于,所述抛光粉粒度分布范围为:D50分布于1.0 – 1.2 µm,D90分布于2.0±0.2µm,D100小于4.5µm。
【技术特征摘要】
1.一种稀土抛光粉,其特征在于,所述抛光粉粒度分布范围为:D50分布于1.0–1.2μm,D90分布于2.0±0.2μm,D100小于4.5μm。
2.根据权利要求1所述的一种高精度稀土抛光粉,其特征在于,所述高精度稀土抛光粉主要成分为氟氧化镧铈,其中氧化铈含量占抛光粉总质量的60–80wt%,氧化镧含量占抛光粉总质量的15–35wt%,氟占抛光粉总质量的3–5wt%。
3.一种稀土抛光粉的制备方法,其特征在于,经气流粉碎、球磨、喷雾干燥,经对颗粒的二次整形及硬度固化,制备出的抛光粉粒度分布D50分布于1.0–1.2μm,D90分布于2.0±0.2μm,D100小于4.5μm。
4.根据权利要求1所述的一种稀土抛光粉的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)沉淀:在50–60℃下,将镧铈盐混合溶液中加入沉淀剂,进行沉淀,pH值6.0–7.0,得到碳酸镧铈混合物;
(2)氟化:将氢氟酸加入步骤(1)碳酸镧铈混合物中,进行氟化反应,得到氟碳酸镧铈;所述氢氟酸质量百分比浓度为40%,氢氟酸的加入量为碳酸镧铈混合物总质量的5–7wt%,50-55℃温度下氟化脱水,得到氟碳酸镧铈滤饼;
(3)锻烧:将步骤(2)中得到的氟碳酸镧铈滤饼在800–1000℃下焙烧5–10小时,得到氟氧化镧铈,其中氟的质量分数为3–5wt%,氟氧化镧铈中的稀土含量为94-96%;
(3)气流粉碎:将获得的氟氧化镧铈产物...
【专利技术属性】
技术研发人员:冀代雨,冀代明,鲁继涛,
申请(专利权)人:包头市新源抛光粉有限公司,
类型:发明
国别省市:内蒙古;15
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