图案形成方法技术

图案形成装置具备保持采用显影剂的图案的凹版、将显影于凹版的图案２７、２８、２９转印到被转印介质３１的转印装置和用于在转印后使电极层３２消失或高电阻化的煅烧炉４０。将显影于凹版的图案２７、２８、２９转印到位于被转印介质３１的对向面３１ａ侧的电极层３２上后，在煅烧炉４０中加热而使电极层３２消失。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及例如制造平面型图像显示装置、配线基板、IC标签等时在绝缘性基板上形成采用功能性材料的图案的。
技术介绍
以往，作为在基材的表面形成微细的图案的技术，光刻技术一直扮演 关键的角色。但是，该光刻技术虽然其析像度和效果不断提高，但需要巨 大且昂贵的制造设备，制造成本也随析像度不断升高。另一方面，不仅是半导体器件，图像显示装置等的制造领域中，也不 断地要求在性能改良的同时降低成本，上述的光刻技术逐渐无法充分满足 这样的要求。在这样的状况下，采用数字印刷技术的图案形成技术渐渐受 到关注。关于这一点，例如喷墨技术作为利用装置简便和非接触图案形成的特 点图案形成技术而开始被实用化，但不得不承认其在高析像度化和高生产 性方面存在极限。即，在该方面，电子照相技术、特别是采用液体调色剂 的电子照相技术具有良好的可能性。例如，提出有采用这样的电子照相技术来形成平板显示器用的前基板的荧光体层或黑色矩阵、滤色器等的方法(例如参照日本专利特开2004-309 80号公报、日本专利特开平6-265712号公报)。但是，在平板显示器的领域，高析像度化的要求不断提高，需要以更 高的位置精度形成高析像度的图案。但是，上述的电子照相方式难以应对 该课题。这是因为写入的光学系统的析像度最多1200左右，对于析像 度和对位是不够的。此外，还存在无法实现可以应对近年来的大画面化的 宽幅的写入光学系统。针对这一问题，提出有采用代替感光体在表面形成电阻不同的图案的静电印刷平板，使液体调色剂作用于该平板而将图案显影，将该图案像转 印于玻璃板，从而在显示器用前玻璃上形成荧光体等的图案的方法(例如参照日本专利特表2002-527783号公报)。但是，本申请专利技术人认真地进行实验研究后，也在该方法中发现如下 的本质性的问题。首先，采用液体调色剂的显影像一般其层厚大多在l以下，不适 合于显示装置的荧光体和滤色器等厚膜的形成，高精细的厚膜形成还需要 新的办法。此外，将显影像转印于玻璃板时，如果使用电晕充电器，则电晕电流 传导至玻璃表面而漏电，转印特性容易变得不稳定。此外，玻璃的内部容 易积聚空间电荷，电晕转印中难以形成战胜该空间电荷的转印电场。另外， 如果转印l种颜色的显影像，则该问题进一步加剧，很难将第2种颜色、第3 种颜色的显影像转印于玻璃板。专利技术的揭示本专利技术的目的在于提供对于绝缘性基板可以高效地转印显影剂的图案 形成方法。为了实现上述目的，本专利技术的具备以下的工序在像保 持体上形成釆用带电的显影剂的图案像的显影工序；将在与所述像保持体对向的对向面侧具有电极层的被转印介质与所述像保持体对向配置，在所 述像保持体和所述电极层之间形成电场，将所述图案像转印到所述被转印介质上的转印工序；使所述电极层消失的消失工序。根据上述专利技术，在被转印介质的接近像保持体的一侧设置电极层，在 该电极层和像保持体之间形成电场，将形成于像保持体的图案像转印后， 使电极层消失。如上所述，通过使电极层接近像保持体，可以形成较强的 转印电场，能够提高图案像对被转印介质的转印效率。除此之外，由于使 用于转印的电极层消失，因此还可以防止因存在电极层而产生的各种问题。此外，本专利技术的具备以下的工序在像保持体上形成采 用带电的显影剂的图案像的显影工序；将在与所述像保持体对向的对向面侧具有电极层的被转印介质与所述像保持体对向配置，在所述像保持体和 所述电极层之间形成电场，将所述图案像转印到所述被转印介质上的转印 工序；加热所述电极层而使其高电阻化的高电阻化工序。此外，本专利技术的具备以下的工序在绝缘性基板的正面 侧形成图案状的电极层的电极层形成工序；介以在绝缘性基板的正面侧对 向配置的供给构件向所述绝缘性基板供给带电的显影剂，在所述供给构件 和所述电极层之间形成电场，在所述电极层上聚集所述显影剂而形成图案 像的显影工序；使所述电极层消失的消失工序。另外，本专利技术的具备以下的工序在绝缘性基板的正面 侧形成图案状的电极层的电极层形成工序；介以在绝缘性基板的正面侧对 向配置的供给构件向所述绝缘性基板供给带电的显影剂，在所述供给构件 和所述电极层之间形成电场，在所述电极层上聚集所述显影剂而形成图案 像的显影工序；加热所述电极层而使其高电阻化的高电阻化工序。附图的简单说明图l是表示本专利技术的实施方式的图案形成装置的关键部分的构成的简图。图2是表示附图说明图1的图案形成装置中使用的凹版的局部放大剖面图。 图3是用于说明图2的凹版的1个凹部的结构的局部放大立体图。 图4是部分地表示设于图2的凹版的多条图案电极的简图。 图5是用于说明切换控制赋予图4的图案电极的电压的电压装置的结构 的图。图6是用于说明对于图2的凹版的充电步骤的动作说明图。 图7是用于说明对于图2的凹版的第1种颜色的显影步骤的动作说明图。 图8是用于说明对于图2的凹版的第2种颜色的显影步骤的动作说明图。 图9是用于说明从显影步骤结束后的凹版将图案像转印至被转印介质的转印步骤的动作说明图。图10是表示通过图9的转印步骤将图案像转印至被转印介质后的状态的图。图ll是表示将转印了图案像的被转印介质投入煅烧炉后的状态的简图。图12是表示经过了图11的煅烧工序的被转印介质的图。图13是用于说明实施例1的图。图14是用于说明实施例2的图。图15是用于说明实施例3的图。 图16是用于说明实施例4的图。 图17是用于说明实施例5的图。图18是用于说明另一实施方式的的图。 图19是用于说明另一实施方式的的图。 图20是用于说明另一实施方式的的图。实施专利技术的最佳方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行详细说明。 图1中简略地表示了本专利技术的实施方式的图案形成装置10的关键部分的构成。这里所说明的图案形成装置10是例如用于在平面型图像显示装置的显示面板的内表面形成荧光体层或滤色器的装置。图案形成装置10具备以下的结构起到本专利技术的像保持体的作用的平 板状的凹版l;接近地对向配置于该凹版l的图中的下方，向凹版l供给各色 (i":红，g:绿，b:蓝)的液体显影剂来显影的多个显影装置2r、 2g、 2b(以下 也统称显影装置2);将凹版l的上述的高电阻层14的表面14a充电至预先确 定的电位的充电装置3;以及保持这多个显影装置2和充电装置3的平台4。此外，该图案形成装置10具备以下的结构在维持各显影装置2和凹版 l之间的间距的状态下，使平台4相对于凹版1沿图中箭头T方向相对移动的 控制装置5;以及基于从该控制装置5输出的控制信号，对凹版l的后述的图 案电极13施加电压的电源装置6。除此之外，该图案形成装置10还具备图1 中未图示的后述的转印装置30和煅烧炉40。图2中表示了上述的凹版1的局部剖面图。凹版l具有以下的结构绝缘 性的基板ll;设于该基板11的与显影装置2隔开的背面侧的共用电极12;设于基板11的正面侧的多个图案电极13;以及用于部分地被覆而区分这多个 图案电极13的同时，形成后述的像素单元的凹部14b的高电阻层14。基板ll例如由聚酰胺、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PEN(聚萘二甲酸 乙二醇酯)等树脂材料或玻璃材料形成，具有20 200左右的厚 度。共用电极12例如由铝或不锈钢等导电性材料形成，具有100 3000左右的厚度。高电阻层14例如由本文档来自技高网...

【技术保护点】
图案形成方法，其特征在于，具备以下的工序：　在像保持体上形成采用带电的显影剂的图案像的显影工序；　将在与所述像保持体对向的对向面侧具有电极层的被转印介质与所述像保持体对向配置，在所述像保持体和所述电极层之间形成电场，将所述图案像 转印到所述被转印介质上的转印工序；　使所述电极层消失的消失工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐藤三长，真常泰，田岛义浩，石井浩一，细矢雅弘，高桥健，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：JP[日本]