永久图案形成方法技术

本发明专利技术提供一种可以通过平均图案偏斜引起的曝光量不均的影响从而抑制成像于感光层上的像的变形，来高精细而且有效地形成永久图案的永久图案形成方法。所以，本发明专利技术提供一种永久图案形成方法，其中，使用感光性组合物，在基材的表面形成感光层，然后使用曝光头（其中，该曝光头为具备光照射机构以及光调制机构的曝光头且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ），对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，相对于对该感光层，指定用于Ｎ重曝光（其中，Ｎ为２以上的整数）的所述描绘部，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制，使得只有被指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头向扫描方向相对地移动，从而进行曝光、显影。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种在使对应图像数据调制的光在感光层上成像从而对该感光层进行曝光、含有封装件(package)基板的印制电路布线基板领 域或者半导体领域中可以有效地形成高精细的永久图案(保护膜、层间绝 缘膜及阻焊剂图案)的。
技术介绍
使空间光调制元件等调制的光通过成像光学系，使该光所成的像在规 定的感光层上成像，从而对该感光层进行曝光的曝光装置己被公知。该曝 光装置具备曝光头，该曝光头具备分别对应控制信号调制已照射的光的多 个描绘部被排列成二维状而成的空间光调制元件，和向该空间光调制元件 照射光的光源，和使利用该空间光调制元件调制的光所成的像在感光层上 成像的成像光学系，通过使该曝光头相对所述感光层的被曝光面上相对移 动并同时动作，可以在所述感光层的被曝光面上形成需要的二维图案(参 照非专利文献l及专利文献l)。在所述曝光装置的所述曝光头中，作为空间光调制元件，在使用通常 能够获得的大小的数字'微镜'器件(digital ，micromirror 'device) (DMD) 的情况下等，由于光源阵列的结构等，难以用单一的曝光头覆盖(cover) 足够大小的曝光面积。所以，提出了并本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种永久图案形成方法，其特征在于，使用至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、热交联剂的感光性组合物，在基材的表面形成感光层之后，对于该感光层，使用如下所述的曝光头，所述曝光头具备：光照射机构；及具有接受来自所述光照射机构的光并射出的ｎ个（其中，ｎ为２以上的自然数）排列成二维状的描绘部、且可以对应图案信息来控制所述描绘部的光调制机构，所述曝光头配置成所述描绘部的列方向相对该曝光头的扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ，利用使用描绘部指定机构，对于所述曝光头，指定可以使用的所述描绘部中的用于Ｎ重曝光（其中，Ｎ为２以上的自然数）的所述描绘部，利用描绘部控制机构，对于所述曝光头，进行所述描绘部的控制，...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高岛正伸，角克人，古和田一辉，铃木一诚，植村隆之，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]