永久图案形成方法技术

本发明专利技术提供一种可以通过平均图案偏斜引起的曝光量不均的影响从而抑制成像于感光层上的像的变形，来高精细而且有效地形成永久图案的永久图案形成方法。所以，本发明专利技术提供一种永久图案形成方法，其中，使用感光性组合物，在基材的表面形成感光层，然后使用曝光头（其中，该曝光头为具备光照射机构以及光调制机构的曝光头且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ），对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，相对于对该感光层，指定用于Ｎ重曝光（其中，Ｎ为２以上的整数）的所述描绘部，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制，使得只有被指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头向扫描方向相对地移动，从而进行曝光、显影。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种在使对应图像数据调制的光在感光层上成像从而对该感光层进行曝光、含有封装件(package)基板的印制电路布线基板领 域或者半导体领域中可以有效地形成高精细的永久图案(保护膜、层间绝 缘膜及阻焊剂图案)的。
技术介绍
使空间光调制元件等调制的光通过成像光学系，使该光所成的像在规 定的感光层上成像，从而对该感光层进行曝光的曝光装置己被公知。该曝 光装置具备曝光头，该曝光头具备分别对应控制信号调制已照射的光的多 个描绘部被排列成二维状而成的空间光调制元件，和向该空间光调制元件 照射光的光源，和使利用该空间光调制元件调制的光所成的像在感光层上 成像的成像光学系，通过使该曝光头相对所述感光层的被曝光面上相对移 动并同时动作，可以在所述感光层的被曝光面上形成需要的二维图案(参 照非专利文献l及专利文献l)。在所述曝光装置的所述曝光头中，作为空间光调制元件，在使用通常 能够获得的大小的数字'微镜'器件(digital ，micromirror 'device) (DMD) 的情况下等，由于光源阵列的结构等，难以用单一的曝光头覆盖(cover) 足够大小的曝光面积。所以，提出了并列使用多个所述曝光头，并使该曝 光头相对扫描方向倾斜使用的方式的曝光装置。例如，在专利文献2中记载了如下所述的曝光装置使具有微镜被配 置成矩形格子状的DMD的多个曝光头相对扫描方向倾斜，在与扫描方向 直行的方向，倾斜的DMD的两侧部的三角形状的部分在相邻的DMD间 彼此补充，通过这样的设定安装各曝光头。另外，在专利文献3中记载了如下所述的曝光装置不使具有矩形格子状的DMD的多个曝光头相对扫描方向倾斜或只使其倾斜微小角度，在 与扫描方向直行的方向，相邻的DMD的曝光区域以规定宽度重合，通过 这样的设定，安装各曝光头，在相当于各DMD的曝光区域间的重合部分 的位置，以规定的比例使要驱动的微镜的数目渐减或渐增，从而使各DMD 的曝光区域成为平行四边形状。但是，在使用多个所述曝光头，使其相对扫描方向倾斜并进行曝光的 情况下，通常难以微调节所述曝光头间的相对位置或相对安装角度，存在 略微偏离理想的相对位置及相对安装角度的问题。另一方面，为了提高析像度等，还提出了使用所述曝光头时，使来自 一个描绘部的光线的扫描线与来自另一个描绘部的光线的扫描线一致，从 而实际上多次重复曝光所述感光层的被曝光面上的各点的多重曝光形式 的曝光装置。例如，在专利文献4中记载了如下所述的曝光装置为了提高在被曝 光面上形成的二维图案的析像度，从而可以表现含有光滑的斜线的图案， 使多个微镜(描绘部)排列成二维状的矩形的DMD相对扫描方向倾斜使 用，来自相邻的微镜的曝光点(spot)在被曝光面上部分重合而成。另外，在专利文献5中记载了仍然通过相对扫描方向倾斜使用矩形的 DMD，在被曝光面上重合曝光点，从而使改变总照明色度得到的彩色图 像(color image)的表现或微透镜的部分缺陷等主要原因引起的成像误差 (imaging error)的抑制成为可能的曝光装置。但是，即使在进行所述多重曝光的情况下，由于所述曝光头的安装角 度偏离理想的设定倾斜角度，从而在将要曝光的所述感光层的被曝光面上 的位置，曝光点的密度或排列与其他部分不同，在成像于所述感光层上的 像的析像度或浓度中产生不均，进而，形成的图案的边缘粗糙度(edge roughness)变大。进而，不仅所述曝光头的安装位置或安装角度的偏离，而且所述描绘 部与所述感光层的被曝光面之间的光学系的各种像差或所述描绘部自身 的偏斜等引起产生的图案偏斜也成为在所述感光层的被曝光面上形成的 所述图案的析像度或浓度中产生不均的原因。对于这些问题，考虑了提高所述曝光头的安装位置或安装角度的调节精密度以及光学系的调节精密度等的方法，但如果追求精密度的提高，则 制造成本会变得非常高。同样的问题不仅所述曝光装置，而且在喷墨打印 机等各种描绘装置中也会产生。因而，目前尚未提供一种通过平均所述曝光头的安装位置或安装角度 的偏离以及所述描绘部与所述感光层的被曝光面之间的光学系的各种像 差及所述描绘部自身的倾斜等引起的图案偏斜导致的曝光量的不均的影 响，减轻在所述感光层的被曝光面上形成的所述图案的析像度的不均或浓 度的不均，来高精细而且有效地形成保护膜、绝缘膜及阻焊剂图案等永久 图案的，需要进一步的改良开发。专利文献l:特开2004—1244号公报 专利文献2:特开2004 — 9595号公报 专利文献3:特开2003 — 195512号公报 专利文献4:美国专利第6493867号说明书 专利文献5:特表2001—500628号公报非专利文献1:石川明人"无掩模曝光的开发縮短和批量生产适用 化"，"电子学(electronics)实装技术"，株式会社技术调查会，Vo1.18， No.6， 2002年，p.74—79
技术实现思路
本专利技术正是鉴于这种现状而提出的，以解决以往的所述各问题、实现 以下目的为课题。即，本专利技术提供一种通过平均所述曝光头的安装位置或 安装角度的偏离以及所述描绘部与所述感光层的被曝光面之间的光学系 的各种像差及所述描绘部自身的倾斜等引起的图案偏斜导致的曝光量的 不均的影响，减轻在所述感光层的被曝光面上形成的所述图案的析像度的 不均或浓度的不均，来高精细而且有效地形成保护膜、绝缘膜及阻焊剂图 案等永久图案的。作为用于解决所述课题的手段，如下所述。即<1>一种，其特征在于，使用至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、热交联剂的感 光性组合物，在基材的表面形成感光层之后，对于该感光层，使用如下所述的曝光头，所述曝光头具备光照射机构；及具有接受来自所述光照射机构的光并射出的n个(其中，n为2以上的自然数)排列成二维状的描绘部、且 可以对应图案信息来控制所述描绘部的光调制机构，所述曝光头配置成所述描绘部的列方向相对该曝光头的扫描方向呈规定的设定倾斜角度e，利用使用描绘部指定机构，对于所述曝光头，指定可以使用的所述描 绘部中的用于N重曝光(其中，N为2以上的自然数)的所述描绘部，利用描绘部控制机构，对于所述曝光头，进行所述描绘部的控制，使 得只有由所述使用描绘部指定机构指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头在扫描方向上相对地移动，从而进 行曝光、显影。在该<1>中记载的中，利用使用描绘部指定机构， 对于所述曝光头，指定可以使用的所述描绘部中的用于N重曝光(其中， N为2以上的自然数)的所述描绘部，利用描绘部控制机构，进行所述描 绘部的控制，使得只有由所述使用描绘部指定机构指定的所述描绘部参与 曝光。通过使曝光头相对所述感光层向扫描方向相对地移动来进行曝光， 可以平均所述曝光头的安装位置或安装角度的偏离引起的在所述感光层 的被曝光面上形成的所述图案的析像度的不均或浓度的不均。结果，可以 通过高精细地进行向所述感光层的曝光，然后对所述感光层进行显影，来 形成高精细的永久图案。<2>根据所述<1>记载的，其中，感光层的形成是通过在基材的表面涂敷、干燥感光性组合物来进行的。在该<2>中记载的中，在所述基材的表面涂敷、干 燥所述感光性组合物。结果，在所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种永久图案形成方法，其特征在于，使用至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、热交联剂的感光性组合物，在基材的表面形成感光层之后，对于该感光层，使用如下所述的曝光头，所述曝光头具备：光照射机构；及具有接受来自所述光照射机构的光并射出的ｎ个（其中，ｎ为２以上的自然数）排列成二维状的描绘部、且可以对应图案信息来控制所述描绘部的光调制机构，所述曝光头配置成所述描绘部的列方向相对该曝光头的扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ，利用使用描绘部指定机构，对于所述曝光头，指定可以使用的所述描绘部中的用于Ｎ重曝光（其中，Ｎ为２以上的自然数）的所述描绘部，利用描绘部控制机构，对于所述曝光头，进行所述描绘部的控制，使得只有由所述使用描绘部指定机构指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头在扫描方向上相对地移动，从而进行曝光、显影。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高岛正伸，角克人，古和田一辉，铃木一诚，植村隆之，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]