图案形成方法技术

这种图案形成方法在基板上采用液滴喷出法喷出功能液而形成所定图案，具有：在所述基板上通过配置具有比所述功能液的飞翔直径大的宽度的第一区域、和具有比所述第一区域窄的宽度的第二区域而形成围堰的工序；在所述第二区域上喷出在所述功能液中所包含的溶剂的工序；和在所述第一区域上喷出所述功能液，让所述功能液流入到所述第二区域的工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及、器件及器件制造方法、电光学装置和电子仪器。本申请对2003年5月28日提出的日本专利申请第2003-151284号、以及2004年4月20日提出的日本专利申请第2004-124211号主张优先权，将其内容引用在这里。
技术介绍
作为电子电路和集成电路等所用配线图案等的形成方法，例如可以采用光刻法。这种光刻法需要真空装置等大型设备和复杂工艺，而且材料的使用效率也仅为百分之几，不得不几乎将其废弃，制造成本高。针对此问题，例如，如特开平11-274671号公报和特开2000-216330号公报上公开的那样，提出了采用由液滴喷头以液滴状喷出液体材料的液滴喷出法，即采用所谓喷墨法在基板上形成图案的方法。这种方法是将图案用液体材料(功能液)在基板上直接配置成图案，然后进行热处理或激光照射使之转变成图案。根据这种方法，具有无需光刻，工序被大幅度简化，同时原材料用量也减少的优点。近年来，构成器件的电路逐渐推进高密度化，例如要求配线图案进一步微细化和细线化。但是采用上述液滴喷出法的，由于当喷出液滴弹着后在基板上扩展，所以难以稳定地形成微细的图案。特别是将图案制成导电膜的情况下，由于上述的液滴扩展将会产生存液(凸起)，这是断线和断路等不良情况产生的原因。而且还有人提出一种形成比液滴喷出法喷出的功能液的飞翔直径具有更窄宽度的配线的形成技术。这种技术中，通过在使区分配线形成区域的围堰(bank)表面疏液化的状态下，向配线形成区域喷出功能液，即使一部分功能液被喷出到围堰的上面，也能使全部功能液流入配线的形成区域中。然而，据近年来确认，一种形成一部分功能液一旦与围堰的上面接触，就会在围堰的上面残留细微残渣。例如，当功能液具有导电性的情况下残渣也会成为具有导电性，一旦残留上述残渣，就担心配线本身的特性和使用这种配线的器件特性会发生变化。
技术实现思路
本专利技术正是考虑到上述问题而提出的，其目的在于提供一种可以以高精度稳定地形成微细配线图案的、器件及其制造方法、电光学装置、以及电子仪器。本专利技术的第一种，在基板上配置功能液而形成所定图案，其中具有在所述基板上形成围堰的工序；和采用液滴喷出法，在被所述围堰区分的区域内配置所述功能液的工序；由所述围堰区分的区域包括第一区域、和宽度形成为比所述第一区域要窄的第二区域。本方式中，通过在被围堰区分的区域内配置功能液，例如通过将此功能液干燥，可以在基板上形成所定图案。这种情况下，由于图案形状由围堰的形状所决定，所以通过将相邻的围堰间宽度变窄等，适宜地形成围堰，可以使图案细微化或细线化。而且本方式中，由被围堰区分的区域被形成为宽度部分地加宽，所以通过在这种宽度加宽而形成的部分上回避一部分功能液，以此可以防止功能液配置时从围堰溢出功能液。因此能以所需的形状准确形成图案。因此本专利技术的，可以以高精度稳定地形成细线状图案。在上述中，由所述围堰区分的区域中的所述第一区域是所述第二区域的宽度的110～500％。在被围堰区分的区域中，通过使一部分宽度为另一部分宽度的110～500％，可以确实防止配置功能液时的功能液从围堰溢出。而且在上述的中，被围堰区分的区域也可以在与其他图案交叉的部分中形成有宽度部分地加宽。根据这种，容易有效地利用基板的空间。而且在上述中，被围堰区分的区域也可以在与其他图案交叉的部分中形成宽度部分地变窄。根据这种，在图案交叉的部分不会积蓄电容，容易提高器件的特性。此外，在上述的中，也可以采用液滴喷出法将所述功能液配置在所述区域内。根据这种，采用液滴喷出法与采用旋涂法等其他涂布方法相比，液体材料消耗少，容易对基板上配置的功能液的量和位置进行控制。另外，也可以使相邻围堰间的宽度比液滴直径窄小。这种情况下，液滴状的功能液将因毛细现象等而进入围堰中。这样可以形成比喷出的液滴直径更窄小的细线图案。而且，通过使所述功能液含有导电性微粒，可以形成导电性图案。因此这种图案可以作为配线而适用于各种器件中。本专利技术的第二种，利用液滴喷出法在基板上喷出配置功能液形成所定图案，其中包括在所述基板上形成围堰，以使具有比所述功能液的飞翔直径大的宽度的幅宽区域与具有比该幅宽区域窄的宽度的幅窄区域被连接而配置的工序；通过在所述幅宽区域喷出配置所述功能液使所述功能液流入所述幅窄区域，以在所述幅宽区域和所述幅窄区域配置所述功能液的工序。根据本方式，在被围堰区分的幅宽区域和幅窄区域中，通过向所述幅宽区域喷出配置功能液，使这种功能液湿润扩展而流入幅窄区域中。因此，通过仅向幅宽区域喷出功能液，可以将功能液配置在幅宽区域和幅窄区域上。而且在本方式中，由于幅宽区域具有比功能液的飞翔直径大的宽度，所以一部分功能液不会与围堰的上面接触。因此可以防止功能液的残渣残留在围堰的上面。因而在本方式中，可以稳定地形成发挥所需特性的图案。而且在上述的中，可以将所述功能液喷出配置在所述幅宽区域与所述幅窄区域的交叉区域上。根据这种，被喷出配置在交叉区域上的功能液湿润扩展时由于容易流入幅窄区域，所以能够更加顺利地将功能液配置在幅窄区域上。而且在上述的中，可以以包围所述幅宽区域与所述幅窄区域的交叉区域那样喷出配置所述功能液后，向所述交叉区域喷出配置所述功能液。根据这种，通过以包围交叉区域那样在先被喷出配置的功能液，使喷出配置在交叉区域上的功能液的湿润扩展被堰所阻止，可以增加流向幅窄区域功能液的流量。因此能够更顺利地将功能液配置在幅窄区域上。本专利技术的器件制造方法，制造在基板上形成图案而构成的器件，其中，通过上述的形成所述图案。根据本方式，可以实现在器件上所形成的图案的细微化或细线化。因此可以稳定地制造高精度的器件。特别是当所述图案构成在所述基板设置的TFT(薄膜晶体管)等开关元件中一部分的情况下，可以稳定地得到一种高集成化的开关元件。本专利技术的器件，通过使用上述的器件制造方法制造，具有高精度。本专利技术的电光学装置，其中备有上述器件。作为电光学装置，例如可以举出液晶显示装置、有机电致发光显示装置、等离子体型显示装置等。而且本专利技术的电子仪器，其中备有上述的电光学装置。根据这些专利技术，由于具有高精度的器件，所以可以提高品质和性能。另外，本专利技术的有源矩阵型基板的制造方法，其中具有在基板形成栅极配线的第一工序；在所述栅极配线上形成栅极绝缘膜的第二工序；介有所述栅极绝缘膜层叠半导体层的第三工序；在所述栅极绝缘层上形成源电极和漏电极的第四工序；在所述源电极和所述漏电极上配置绝缘材料的第五工序；和形成与所述源电极电连接的像素电极的第六工序；其中至少在所述第一工序、所述第四工序和所述第六工序的至少一个工序中采用本专利技术的。根据本方式，能以高精度稳定地形成备有细线状图案的有源矩阵基板。再有，本专利技术的另一种，在基板上采用液滴喷出法喷出功能液而形成所定图案，具有在所述基板上通过配置具有比所述功能液的飞翔直径大的宽度的第一区域、和具有比所述第一区域窄的宽度的第二区域而形成围堰的工序；在所述第二区域上喷出在所述功能液中所包含的溶剂的工序；和在所述第一区域上喷出所述功能液，让所述功能液流入到所述第二区域的工序。附图说明图1是表示本专利技术的示意说明图。图2A和图2B是表示线状区域其他方式之例的图。图3是表示形成线状区域中幅宽区域位置实例的图。图4是表示形成线状区域中幅宽区域位置其他实例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案形成方法，在基板上采用液滴喷出法喷出功能液而形成所定图案，具有：在所述基板上通过配置具有比所述功能液的飞翔直径大的宽度的第一区域、和具有比所述第一区域窄的宽度的第二区域而形成围堰的工序；在所述第二区域上喷出在所述功能 液中所包含的溶剂的工序；和在所述第一区域上喷出所述功能液，让所述功能液流入到所述第二区域的工序。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：平井利充，御子柴俊明，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]