用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法技术方案

掩模的严重缺陷会危害在该晶片上形成的集成电路的功能性。不会影响功能性的损害性缺陷耗费昂贵的资源。一种具有基于任务的自动化的缺陷分析工具可以精确有效地确定缺陷适印性。这个工具可以利用掩模文件运行任务，以模拟在给定的参数组条件下，掩模所提供的晶片曝光。这些参数可以涉及该掩模自身、用于生成掩模文件的检查系统、可用于曝光掩模的分档器。任务过程中所进行的对掩模缺陷的处理可以均匀地完成。这种均匀性允许工具有效地运行多个任务。任务结果可以利用不同级别的细节表现从而帮助用户复查。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
相关申请本申请是2003年2月20日提交的名为“用于基于网络的掩模缺陷适印性分析系统的用户界面”的美国专利申请10/372066的系列申请，该申请是2000年4月7日提交的名为“用于基于网络的掩模缺陷适印性分析系统的方法和装置”的美国专利申请09/544798的分案申请，而此申请又是1998年8月7日提交的名为“可视检查和检定系统”的美国专利申请09/154397的系列申请，该申请又依次涉及1997年9月17日提交的名为“掩模检定校正和设计规则校验”的美国临时专利申请60/059306。所有这些申请都在此一并作为参考。
技术介绍
专利
本专利技术涉及集成电路制造领域。本专利技术特别涉及一种方法和系统，用于分析基于任务的自动化的集成电路制造过程中所使用的二进制强度掩模、相移掩模以及下一代光刻(NGL)掩模上的缺陷。相关技术描述在设计集成电路(IC)的过程中，典型地，工程师依赖计算机模拟工具以辅助生成一个电路示意图样，该示意图样由多个单独器件组成，这些器件耦合在一起以完成某一功能。为了在半导体基底上实际制造这个电路，必须将该电路转化为实物表现形式，即电路图。此外，计算机辅助设计(CAD)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于分析光刻中所使用的掩模的方法，该方法包含：将掩模文件加载到缺陷分析工具中；利用该掩模文件指定所要运行的任务，其中该任务定义了对掩模缺陷所均匀进行的处理中所使用的参数；管理任务并将该任务分配给计算资源； 利用该掩模文件和所定义的参数，在计算资源上运行该任务；从计算资源中输出该任务的结果，其中该结果包括掩模缺陷的适印性结果。

【技术特征摘要】
US 2003-2-20 10/372,066;US 2003-7-11 10/618,8161.一种用于分析光刻中所使用的掩模的方法，该方法包含将掩模文件加载到缺陷分析工具中；利用该掩模文件指定所要运行的任务，其中该任务定义了对掩模缺陷所均匀进行的处理中所使用的参数；管理任务并将该任务分配给计算资源；利用该掩模文件和所定义的参数，在计算资源上运行该任务；从计算资源中输出该任务的结果，其中该结果包括掩模缺陷的适印性结果。2.如权利要求1的方法，其中该掩模文件包括标准掩模格式文件(MFF)。3.如权利要求2的方法，还包括将掩模数据转换为标准MFF。4.如权利要求1的方法，其中该参数包括与掩模有关的设置。5.如权利要求4的方法，其中该设置包括掩模类型，掩模的相位以及掩模的透射率中的至少一个。6.如权利要求1的方法，其中该参数包括与提供掩模文件信息的检查系统有关的设置。7.如权利要求6的方法，其中该设置包括检查系统厂商和检查系统型号中的至少一个。8.如权利要求1的方法，其中该参数包括与可在光刻过程中用于曝光掩模的分档器有关的设置。9.如权利要求8的方法，其中该设置包括波长、数值孔径、缩减量、散焦和照明中的至少一个。10.如权利要求1的方法，其中对任务的管理和分配由任务管理器完成。11.如权利要求10的方法，其中该任务管理器允许多个任务同时运行。12.如权利要求10的方法，其中该任务管理器安排多个计算资源运行一个或多个任务。13.如权利要求1的方法，其中该结果包括用于用户复查的多个级别。14.如权利要求13的方法，其中一级包括对缺陷所进行的模拟的总概述。15.如权利要求14的方法，其中该总概述包括缺陷的缺陷评分。16.如权利要求13的方法，其中一级包括掩模缺陷的缺陷图。17.如权利要求16的方法，其中该缺陷图是彩色编码的，彩色编码是基于和每个缺陷有关的缺陷强度。18.如权利要求17的方法，其中由闪光指示高缺陷强度。19.如权利要求13的方法，其中一级可以提供每个缺陷的空间像以及与该缺陷的空间像相对应的区域的基准像。20.如权利要求1的方法，还包含基于用户对任务结果的复查，输入每个缺陷的状态。21.如权利要求20的方法，还包含基于用户对任务结果的复查，提供每个缺陷状态的历史记录。22.如权利要求1的方法，还包含利用web浏览器访问任务的结果。23.一种用于分析光刻中所使用的掩模的系统，该系统包含用于运行缺陷分析工具的应用程序服务器；用于将掩模文件加载到缺陷分析工具中的装置；用于利用掩模文件指定所要运行的任务的装置，其中该任务定义了对掩模缺陷所均匀进行的处理中所使用的参数；用于运行该任务的计算资源；用于将该任务分配给计算资源并接收来自计算资源的任务结果的任务管理器；用于输出任务结果的装置，其中该结果包括对于掩模缺陷的适印性结果。24.如权利要求23的系统，还包括用于将掩模数据转换为标准掩模格式文件(MFF)的装置。25.如权利要求23的系统，其中用于指定任务的装置包括用于定义参数的装置，该参数用于与掩模有关的设置。26.如权利要求25的系统，其中该设置包括掩模类型、掩模的相位以及掩模的透射率中的至少一个。27.如权利要求23的系统，其中用于指定任务的装置包括用于定义参数的装置，该参数用于与提供掩模文件信息的检查系统有关的设置。28.如权利要求27的系统，其中该设置包括检查系统厂商和检查系统型号中的至少一个。29.如权利要求23的系统，其中用于指定任务的装置包括用于定义参数的装置，该参数用于与可在光刻过程中用于曝光掩模的分档器有关的设置。30.如权利要求29的系统，其中该设置包括波长、数值孔径、缩减量、散焦和照明中的至少一个。31.如权利要求23的系统，还包括用于存储参数和任务结果中至少一个的存储器。32.如权利要求23的系统，其中该任务管理器包括用于使多个任务同时运行的装置。33.如权利要求32的系统，其中该任务管理器包括用于安排多个计算资源运行一个或多个任务的装置。34.如权利要求23的系统，其中用于输出结果的装置包括用...

【专利技术属性】
技术研发人员：L庞，FC常，
申请(专利权)人：辛奥普希斯股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]